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플라스틱으로 이루어진 기판; 및
상기 플라스틱과 열팽창계수(CTE) 값이 0~3ppm/oC 범위 내의 차이를 가지는 무기재료가, 상기 기판 위에 코팅된 무기 장벽층(inorganic barrier layer);을 포함하는 무기 장벽층이 코팅된 플라스틱 기판
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제1항에 있어서, 플렉서블(Flexible) 디스플레이 장치용인 것을 특징으로 하는 무기 장벽층이 코팅된 플라스틱 기판
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제1항에 있어서, 상기 무기재료는 상기 플라스틱과 열팽창계수(CTE) 값이 0~1ppm/oC 범위 내의 차이를 가지는 것을 특징으로 하는 무기 장벽층이 코팅된 플라스틱 기판
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제1항에 있어서, 상기 플라스틱은 PEN 및 PET 중에서 선택된 하나 이상이고, 상기 무기재료는 산화마그네슘(MgO) 및 지르코니움 다이옥사이드(ZrO2) 중에서 선택된 하나 이상인 것을 특징으로 하는 무기 장벽층이 코팅된 플라스틱 기판
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제1항에 있어서, 상기 플라스틱은 PEN이고, 상기 무기재료는 산화마그네슘(MgO)인 것을 특징으로 하는 무기 장벽층이 코팅된 플라스틱 기판
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제1항에 있어서, 상기 기판과 무기장벽층 사이에 투명전극층이 더 포함된 것을 특징으로 하는 무기 장벽층이 코팅된 플라스틱 기판
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제1항에 있어서, 상기 기판은 10~1,000㎛ 범위 내의 두께를 가지고, 상기 무기장벽층은 300~5,000Å 범위 내이 두께를 가지는 것을 특징으로 하는 무기 장벽층이 코팅된 플라스틱 기판
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제1항에 있어서, 상기 무기장벽층은 전자빔 증착(electron beam deposition)법 또는 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposion)법에 의해, 0~200℃ 이하의 조건에서 코팅된 것을 특징으로 하는 무기 장벽층이 코팅된 플라스틱 기판
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제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 따른 플라스틱 기판을 포함하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이 장치
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제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 따른 플라스틱 기판을 포함하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 태양전지 장치
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플라스틱으로 이루어진 기판을 준비하는 단계; 및
상기 플라스틱과 열팽창계수(CTE) 값이 0~3ppm/oC 범위 내의 차이를 가지는 무기재료를, 상기 기판 위에 코팅하는 단계;를 포함하는 무기 장벽층이 코팅된 플라스틱 기판의 제조방법
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제11항에 있어서, 상기 플라스틱은 PEN 및 PET 중에서 선택된 하나 이상이고, 상기 무기재료는 산화마그네슘(MgO) 및 지르코니움 다이옥사이드(ZrO2) 중에서 선택된 하나 이상인 것을 특징으로 하는 무기 장벽층이 코팅된 플라스틱 기판의 제조방법
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