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디지털 날염 염색 폐수 처리 방법 및 폐수 처리 장치

  • 기술번호 : KST2015205589
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 도시형 염색 공정인 디지털 날염 공정에서 발생하는 염색폐수를 현장에서 직접 처리할 수 있도록, 디지털 날염 공정에서 발생하는 염색폐수를 오존에 의해 산화처리하는 단계와, 상기 처리된 처리수를 한외여과 처리 또는 정밀여과 처리하여 농축수와 처리수로 분리하는 단계, 및 상기 여과된 처리수를 역삼투 처리하여 농축수와 처리수로 분리하는 단계를 포함하는 디지털 날염 염색 폐수 처리 방법 및 이에 적용되는 폐수 처리 장치를 제공한다.오존, 산화, 한외여과, 역삼투
Int. CL C02F 9/00 (2006.01.01) C02F 1/44 (2006.01.01) C02F 1/78 (2006.01.01) B01D 61/14 (2006.01.01) B01D 61/02 (2006.01.01) C02F 101/30 (2006.01.01)
CPC C02F 9/00(2013.01) C02F 9/00(2013.01) C02F 9/00(2013.01) C02F 9/00(2013.01) C02F 9/00(2013.01) C02F 9/00(2013.01) C02F 9/00(2013.01) C02F 9/00(2013.01)
출원번호/일자 1020070050913 (2007.05.25)
출원인 호서대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-0864587-0000 (2008.10.14)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20081020) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.05.25)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 호서대학교 산학협력단 대한민국 충청남도 아산시

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 장인성 대한민국 충남 천안시
2 이상순 대한민국 충남 천안시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 정종옥 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층 노벨국제특허법률사무소 (도곡동, 덕영빌딩)
2 조현동 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층 (도곡동, 덕영빌딩)(노벨국제특허법률사무소)
3 진천웅 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층 노벨국제특허법률사무소 (도곡동, 덕영빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 호서대학교 산학협력단 대한민국 충청남도 아산시
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2007.05.25 수리 (Accepted) 1-1-2007-0383645-00
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2007.06.05 수리 (Accepted) 4-1-2007-5086611-01
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2008.01.09 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2008.02.13 수리 (Accepted) 9-1-2008-0007864-61
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2008.05.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0286277-84
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2008.06.09 수리 (Accepted) 1-1-2008-0407801-13
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2008.06.09 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0407809-88
8 등록결정서
Decision to grant
2008.10.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0523883-81
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.07.13 수리 (Accepted) 4-1-2011-5143226-24
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.30 수리 (Accepted) 4-1-2019-0045360-16
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
삭제
2 2
디지털 날염(DTP) 공정에서 발생하는 염색폐수를 오존에 의한 산화 처리하는 단계;상기 산화처리된 처리수를 한외여과(Ultrafiltration, UF) 처리하여 UF 농축수와 UF 처리수로 분리하는 단계;상기 여과된 UF 처리수를 역삼투(Reverse Osmosis, RO) 처리하여 RO 농축수와 RO 처리수로 분리하는 단계;를 포함하고,상기 UF 농축수는 상기 오존에 의한 산화 처리 단계로 순환되는 것을 특징으로 하는 디지털 날염 염색 폐수 처리 방법
3 3
디지털 날염(DTP) 공정에서 발생하는 염색폐수를 오존에 의한 산화 처리하는 단계;상기 산화처리된 처리수를 한외여과(Ultrafiltration, UF) 처리하여 UF 농축수와 UF 처리수로 분리하는 단계;상기 여과된 UF 처리수를 역삼투(Reverse Osmosis, RO) 처리하여 RO 농축수와 RO 처리수로 분리하는 단계;를 포함하고,상기 RO 농축수는 상기 오존에 의한 산화 처리 단계로 순환되는 것을 특징으로 하는 디지털 날염 염색 폐수 처리 방법
4 4
제 2 항 또는 제 3 항에 있어서, 상기 한외여과 처리 이후에 역삼투 처리 공정으로 공급되는 UF 처리수의 유량을 조절하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 디지털 날염 염색 폐수 처리 방법
5 5
제 2 항 또는 제 3 항에 있어서, 상기 역삼투 처리 공정은 1회 또는 2회 반복하는 것을 특징으로 하는 디지털 날염 염색 폐수 처리 방법
6 6
디지털 날염(DTP) 공정에서 발생하는 염색폐수를 저장 및 공급하는 폐수 공급부;상기 폐수 공급부로부터 공급되는 염색폐수를 오존에 의한 산화 처리하기 위한 오존산화부;상기 오존산화부를 거친 처리수를 한외여과(Ultrafiltration, UF) 처리하여 UF 농축수와 UF 처리수로 분리하기 위한 한외여과처리부;상기 한외여과처리부를 거친 UF 처리수를 역삼투(Reverse Osmosis, RO) 처리하여 RO 농축수와 RO 처리수로 분리하기 위한 역삼투처리부; 및상기 UF 농축수를 상기 오존산화부로 순환시키기 위한 제1순환펌프를 포함하는 디지털 날염 염색 폐수 처리 장치
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삭제
8 8
삭제
9 9
디지털 날염(DTP) 공정에서 발생하는 염색폐수를 저장 및 공급하는 폐수 공급부;상기 폐수 공급부로부터 공급되는 염색폐수를 오존에 의한 산화 처리하기 위한 오존산화부;상기 오존산화부를 거친 처리수를 한외여과(Ultrafiltration, UF) 처리하여 UF 농축수와 UF 처리수로 분리하기 위한 한외여과처리부;상기 한외여과처리부를 거친 UF 처리수를 역삼투(Reverse Osmosis, RO) 처리하여 RO 농축수와 RO 처리수로 분리하기 위한 역삼투처리부;상기 한외여과처리부와 상기 역삼투처리부 사이에 유량 조절을 위한 버퍼탱크; 및상기 RO 농축수를 상기 오존산화부 또는 상기 버퍼탱크로 순환시키기 위한 제2순환펌프를 포함하는 디지털 날염 염색 폐수 처리 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.