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기판에 도포막을 형성하는 단계와;상기 도포막에 주울 열(Joule heat)로 인가하여, 상기 도포막의 선택적인 영역을 경화시키는 단계와;상기 경화된 도포막 영역을 남겨놓고, 상기 도포막을 제거하는 단계를 포함하는 주울 열을 이용한 패터닝 방법
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청구항 1에 있어서, 상기 도포막은,경화되는 물질로 형성하는 주울 열을 이용한 패터닝 방법
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청구항 1에 있어서, 상기 도포막은 Ag, Cu, Ni, Au, Al 중 하나의 금속 재질이 포함된 도포막인 주울 열을 이용한 패터닝 방법
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청구항 1에 있어서, 상기 도포막은 Al2O3, SiO2, PbO 중 하나의 산화물 세라믹 재질인 주울 열을 이용한 패터닝 방법
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청구항 1에 있어서, 상기 기판은,유리, 금속, 플라스틱, 세라믹 중의 하나의 기판인 주울 열을 이용한 패터닝 방법
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청구항 1 내지 6 중 한 항에 있어서, 상기 도포막에 주울 열(Joule heat)로 인가하는 것은, 플레이트에 형성된 전극 패턴으로 도포막에 주울 열로 인가하는 것인 주울 열을 이용한 패터닝 방법
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청구항 6에 있어서, 상기 플레이트는,금속 또는 세라믹 재질인 주울 열을 이용한 패터닝 방법
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청구항 7에 있어서, 상기 전극 패턴은,금속 재질인 주울 열을 이용한 패터닝 방법
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청구항 8에 있어서, 상기 전극 패턴 표면에 코팅막이 형성되어 있는 주울 열을 이용한 패터닝 방법
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청구항 4에 있어서, 상기 전극 패턴으로 상기 도포막에 주울 열로 인가할 때, 상기 전극 패턴과 상기 도포막은 소정의 간격을 유지하는 주울 열을 이용한 패터닝 방법
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청구항 10에 있어서, 상기 플레이트에 형성된 전극 패턴은,스트라이프(Stripe) 형상 또는 연속적으로 이어진 형상으로 형성되어 있는 주울 열을 이용한 패터닝 방법
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