맞춤기술찾기

이전대상기술

은나노입자의 제조방법과 이에 의해 제조된 은나노입자가도입된 세제용 첨가제

  • 기술번호 : KST2015205787
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 은나노입자의 제조방법과 이에 의해 제조된 은나노입자가 도입된 세제용 첨가제에 관한 것으로써, 계면활성제 수용액에 질산은(AgNO3)을 적가하여 반응시키고 pH를 조정한 후 다시 계면활성제와 아스코르브산을 첨가하여 충분히 교반한 다음 pH를 조정하여 제조함으로써 입자 크기의 균일성이 부여된 은나노입자를 얻고, 이를 주요성분으로 사용한 세제용 첨가제를 제공한다. 본 발명에 의하여 제조된 은나노입자가 도입된 세제용 첨가제는 생활 속에서 유래된 유해균에 대한 항균력이 우수할 뿐 아니라 내성 유해균에 대한 항균력이 탁월하여 유해균 제거율 및 항균 지속력이 좋고, 인체에 무해하며, 세제용 조성물에 도입시 세정력을 감소시키지 않으면서도 사용 후 피부가 건조해지거나 당기는 감이 적어 피부 마일드성이 월등히 좋아지며, 제품으로서의 안정성이 우수한 효과를 기대할 수 있다. 세제, 은나노입자, 항균력, 세정력, 안정성
Int. CL C11D 3/48 (2006.01.01) B22F 9/24 (2006.01.01) B82B 3/00 (2017.01.01) B82Y 40/00 (2017.01.01) C11D 3/12 (2006.01.01)
CPC C11D 3/48(2013.01) C11D 3/48(2013.01) C11D 3/48(2013.01) C11D 3/48(2013.01) C11D 3/48(2013.01)
출원번호/일자 1020080060974 (2008.06.26)
출원인 한국교통대학교산학협력단, 동양나노테크 주식회사
등록번호/일자 10-0977200-0000 (2010.08.16)
공개번호/일자 10-2010-0001165 (2010.01.06) 문서열기
공고번호/일자 (20100820) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.06.26)
심사청구항수 6

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국교통대학교산학협력단 대한민국 충청북도 충주시 대
2 동양나노테크 주식회사 대한민국 충청북도 충주시

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 이용규 대한민국 충북 충주시 대학로
2 이범갑 대한민국 충청북도 충주시
3 신고은 대한민국 인천 부평구
4 김종진 대한민국 충청북도 충주시

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 김정현 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 ***, *층 (역삼동, 신명빌딩)(한맥국제특허법률사무소)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 동양나노테크 주식회사 대한민국 충청북도 충주시
2 한국교통대학교산학협력단 대한민국 충청북도 충주시 대
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2008.06.26 수리 (Accepted) 1-1-2008-0461301-52
2 보정요구서
Request for Amendment
2008.07.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2008-0084415-53
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2008.07.09 수리 (Accepted) 1-1-2008-0494111-46
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2008.12.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2009.01.12 수리 (Accepted) 9-1-2009-0001872-21
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2009.12.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0504188-12
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2010.02.04 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0077554-92
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2010.02.04 수리 (Accepted) 1-1-2010-0077555-37
9 등록결정서
Decision to grant
2010.05.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0212520-76
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.03.09 수리 (Accepted) 4-1-2012-5050068-93
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.08.09 수리 (Accepted) 4-1-2013-0036542-01
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.02.21 수리 (Accepted) 4-1-2020-5039896-32
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
1) 양이온성 계면활성제, 음이온성 계면활성제, 비이온성 계면활성제 및 양성이온성 계면활성제 중에서 선택된 계면활성제를 포함하는 계면활성제 수용액에 질산은(AgNO3)을 적가하고 교반하여 환원시키는 단계, 2) 상기 1) 단계에서 얻어진 혼합용액에 수산화나트륨 수용액을 첨가하면서 pH를 7로 조정하는 단계, 3) 상기 2) 단계에서 얻어진 혼합용액에 상기 1) 단계에서 사용한 계면활성제와 아스코르브산을 첨가하는 단계, 4) 상기 3) 단계에서 얻어진 혼합용액에 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 pH를 7로 조절하는 단계, 5) 상기 4) 단계에서 pH가 조절된 혼합용액을 증발 및 건조시키는 단계 를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 은나노입자의 제조방법
2 2
청구항 1에 있어서, 상기 1) 단계의 계면활성제 수용액은 농도가 0
3 3
청구항 1에 있어서, 상기 1) 단계의 질산은(AgNO3)은 계면활성제 수용액 중 0
4 4
청구항 1에 있어서, 상기 3) 단계의 계면활성제는 상기 2) 단계에서 얻어진 혼합용액 중 0
5 5
청구항 1에 있어서, 상기 3) 단계의 아스코르브산은 상기 2) 단계에서 얻어진 혼합용액 중 0
6 6
청구항 1 내지 5 중에서 선택된 어느 한 항의 방법으로 제조된 것으로, 5 내지 100 ㎚ 범위의 직경을 갖는 은나노입자가 1 내지 100 ppm 범위로 포함된 것을 특징으로 하는 세제용 첨가제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.