| 1 |
1
하기 화학식 1 또는 2로 표시되는 우레아 함유 이미다졸륨 아이오다이드:[화학식 1]상기 화학식 1에서, R1은 C4-7 알킬기이고, R2는 C1-3 알킬기임
|
| 2 |
2
제1항에 있어서, 상기 화학식 1의 화합물은 하기 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나인 것을 특징으로 하는 우레아 함유 이미다졸륨 아이오다이드
|
| 3 |
3
제1항에 있어서, 상기 화학식 2의 화합물은 하기 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나인 것을 특징으로 하는 우레아 함유 이미다졸륨 아이오다이드
|
| 4 |
4
하기 반응식 1에 따라, 화학식 3의 아미노프로필이미다졸과 화학식 4의 R1-NCO를 반응시켜 화학식 5의 화합물을 제조하고, 제조된 화학식 5의 화합물과 화학식 6의 R2-I를 반응시켜 화학식 1의 화합물을 제조하는 것을 특징으로 하는 화학식 1로 표시되는 화합물의 제조방법
|
| 5 |
5
제4항에 있어서, 상기 반응식 1에서 R1은 부틸 또는 헵틸이고, R2는 메틸 또는 프로필인 것을 특징으로 하는 화학식 1로 표시되는 화합물의 제조방법
|
| 6 |
6
제4항에 있어서, 질소 분위기 하 0℃에서 화학식 3의 아미노프로필이미다졸을 무수 디클로로메탄에 녹인 용액과 화학식 4의 R1-NCO를 무수 디클로로메탄에 녹인 용액을 혼합한 후 40℃에서 24시간 동안 반응시켜 화학식 5의 화합물을 제조하고, 제조된 화학식 5의 화합물을 질소 분위기 하 0℃에서 무수 아세토나이트릴과 화학식 6의 R2-I의 혼합 용액에 첨가하여 80℃에서 48시간 동안 반응시켜 화학식 1의 화합물을 제조하는 것을 특징으로 하는 화학식 1로 표시되는 화합물의 제조방법
|
| 7 |
7
하기 반응식 2에 따라, 화학식 3의 아미노프로필이미다졸과 화학식 7의 화합물을 반응시켜 화학식 8의 화합물을 제조하고, 제조된 화학식 8의 화합물과 화학식 9의 R3-I를 반응시켜 화학식 2의 화합물을 제조하는 것을 특징으로 하는 화학식 2로 표시되는 화합물의 제조방법
|
| 8 |
8
제7항에 있어서, 상기 반응식 2에서 R3은 메틸기 또는 프로필기인 것을 특징으로 하는 화학식 2로 표시되는 화합물의 제조방법
|
| 9 |
9
제7항에 있어서, 질소 분위기 하 0℃에서 화학식 3의 아미노프로필이미다졸을 무수 테트라하이드로퓨란에 녹인 용액과 화학식 7의 화합물을 무수 테트라하이드로퓨란에 녹인 용액을 혼합한 후 40℃에서 24시간 동안 반응시켜 화학식 8의 화합물을 제조하고, 제조된 화학식 8의 화합물을 질소 분위기 하 0℃에서 무수 아세토나이트릴과 화학식 9의 R3-I의 혼합 용액에 첨가하여 80℃에서 48시간 동안 반응시켜 화학식 2의 화합물을 제조하는 것을 특징으로 하는 화학식 2로 표시되는 화합물의 제조방법
|
| 10 |
10
하기 화학식 1 또는 2로 표시되는 우레아 함유 이미다졸륨 아이오다이드를 포함하는 염료감응 태양전지용 전해질
|
| 11 |
11
제10항에 있어서, R1이 부틸 또는 헵틸이고, R2는 메틸 또는 프로필인 화학식 1로 표시되는 우레아 함유 이미다졸륨 아이오다이드를 포함하는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 전해질
|
| 12 |
12
제11항에 있어서, R1이 헵틸이고, R2는 프로필인 화학식 1로 표시되는 우레아 함유 이미다졸륨 아이오다이드를 포함하는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 전해질
|
| 13 |
13
제10항에 있어서, R3이 메틸 또는 프로필인 화학식 2로 표시되는 우레아 함유 이미다졸륨 아이오다이드를 포함하는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 전해질
|
