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(1) 주석을 포함하는 동합금 부산물을 분쇄 및 분급하여 전처리하는 단계;(2) 상기 전처리된 동합금 부산물을 산 수용액에 침지시켜 주석 화합물을 침전시키는 단계;(3) 상기 침전된 주석화합물을 산 수용액으로부터 분리하는 단계;(4) 상기 분리된 주석화합물을 건조하는 단계; 및(5) 상기 건조된 주석화합물을 열처리하는 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 동합금 부산물로부터 산화주석을 회수하는 방법
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제 1 항에 있어서,상기 (4) 단계 이후,상기 (2) 단계부터 상기 (4) 단계를 1회 이상 반복하는 것을 특징으로 하는 동합금 부산물로부터 산화주석을 회수하는 방법
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제 1 항에 있어서,상기 주석을 포함하는 동합금 부산물은,Cu 60~66 wt%; Pb 3~5 wt%; Fe 0
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제 1 항에 있어서,주석을 포함하는 동합금 부산물은,Cu 64
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제 1 항에 있어서,상기 (2) 단계에서의 산 수용액은 황산, 염산 또는 질산의 수용액인 것을 특징으로 하는 동합금 부산물로부터 산화주석을 회수하는 방법
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제 1 항에 있어서,상기 (2) 단계에서의 산 수용액은 질산 수용액인 것을 특징으로 하는 동합금 부산물로부터 산화주석을 회수하는 방법
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제 6 항에 있어서,질산 수용액의 농도는 3 내지 5 mol% 이고, 온도는 75 내지 85 ℃ 인 것을 특징으로 하는 동합금 부산물로부터 산화주석을 회수하는 방법
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제 1 항에 있어서,상기 (2) 단계에서의 침전된 주석 화합물은,H2SnO3인 것을 특징으로 하는 동합금 부산물로부터 산화주석을 회수하는 방법
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제 1 항에 있어서,상기 (3) 단계에서의 분리는,원심분리에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 동합금 부산물로부터 산화주석을 회수하는 방법
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제 1 항에 있어서,상기 (4) 단계에서의 건조에 의해 H2SnO2로부터 SnO2를 얻는 것을 특징으로 하는 동합금 부산물로부터 산화주석을 회수하는 방법
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제 1 항에 있어서,상기 (5) 단계에서의 열처리 온도는,700 내지 850 ℃ 인 것을 특징으로 하는 동합금 부산물로부터 산화주석을 회수하는 방법
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제 1 항에 있어서,상기 (5) 단계에서의 열처리에 의하여 SnO2의 결정성을 높이는 것을 특징으로 하는 동합금 부산물로부터 산화주석을 회수하는 방법
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제 1 항 내지 제 12 항에 기재된 방법에 의해서 회수되는 산화주석
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제 13 항에 기재된 산화주석을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 재료
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