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(a) 사용자로부터 검색식을 입력받고, 검색식에 해당된 특허자료를 가져와 분석하여 핵심 경쟁자 수준 지표(CCI:Core Competency Index)에 따라 핵심 경쟁자 리스트를 제공하는 단계;(b) 상기 핵심 경쟁자 리스트 중에 관심 경쟁자를 지정 선택받는 단계;(c) 상기 지정 선택받은 관심 경쟁자들에 대해, 관심 경쟁자별 IPC 분석과 USPC 분석, 출원국가 분석, 발명자 분석을 포함하는 프로파일 분석을 수행하는 단계; 및(d) 상기 프로파일 분석의 수행 결과에 근거해 관심 경쟁자의 시장 진출국 지수(MEI:Market Entering Index)를 산출하여 제공하는 단계;를 포함하고,상기 시장 진출국 지수(MEI)는, 상기 관심 경쟁자의 특허 중에서 특정 국가에 출원한 건 수를 관심 경쟁자의 전체 출원건 수로 나누어 제곱한 것을 모두 더한 값의 역수를 취하여 산출하는 것을 특징으로 하는 경쟁자 프로파일 분석 서비스 방법
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제 1 항에 있어서,상기 핵심 경쟁자 수준 지표(CCI)는 핵심 경쟁자 정량지수(w1)와 출원건수(P)를 곱한 것에, 핵심 경쟁자 정성지수(w2)와 인용기반 기술수준 지수(Q factor)를 곱한 것을 더하여 산출하는 것을 특징으로 하는 경쟁자 프로파일 분석 서비스 방법
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제 3 항에 있어서,상기 핵심 경쟁자 수준 지표(CCI)는, 상기 핵심 경쟁자 정량지수(w1)와 상기 핵심 경쟁자 정성지수(w2)를 먼저 설정한 후에, 상기 핵심 경쟁자 정량지수(w1)에 출원건수(P)를 곱하고, 상기 핵심 경쟁자 정성지수(w2)에 상기 인용기반 기술수준 지수(Q)를 곱하여 얻은 두 값을 더하여 산출하는 것을 특징으로 하는 경쟁자 프로파일 분석 서비스 방법
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제 4 항에 있어서,상기 핵심 경쟁자 정량지수(w1)와 상기 핵심 경쟁자 정성지수(w2)는 각각 0(zero)보다 크거나 같고, 상기 핵심 경쟁자 정량지수(w1)와 상기 핵심 경쟁자 정성지수(w2)를 더하면 1이 되도록 상기 핵심 경쟁자 정량지수(w1)와 상기 핵심 경쟁자 정성지수(w2)를 설정하는 것을 특징으로 하는 경쟁자 프로파일 분석 서비스 방법
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제 3 항 또는 제 4 항에 있어서,상기 인용기반 기술수준 지수(Q),는 특허의 피인용도 지수(CPP:Citation Per Patent) 값을 해당 분야 특허들의 피인용수 총합에서 해당 분야 특허 총 건수를 나눈 값으로 나누어 산출하는 것을 특징으로 하는 경쟁자 프로파일 분석 서비스 방법
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사용자로부터 검색식을 입력받거나, 관심 경쟁자를 지정 선택받기 위한 입력부;상기 입력받은 검색식에 해당된 특허자료를 통신망을 통해 외부로부터 가져오는 특허자료 획득부;상기 가져온 특허자료에 대해 연도별 총괄 특허수, 출원인별 특허수, 출원인별 연도별 특허수를 분석하여 출원인별 특허 수준을 산출하는 특허자료 분석부;상기 산출된 출원인별 특허 수준을 이용해 핵심 경쟁자 수준 지표(CCI:Core Competency Index)를 산출하는 핵심 경쟁자 산출부; 상기 산출된 핵심 경쟁자 수준 지표(CCI)에 따라 오름차순 또는 내림차순으로 정리해 핵심 경쟁자 리스트를 제공하는 핵심경쟁자 제공부; 상기 핵심 경쟁자 리스트 중 지정 선택된 관심 경쟁자들에 대해, IPC 분석과 USPC 분석, 출원국가 분석 및 발명자 분석을 포함하는 프로파일 분석을 수행하는 프로파일 분석부; 및상기 프로파일 분석의 수행 결과에 근거해 상기 관심 경쟁자들의 시장 진출국 지수(MEI)를 산출하는 시장진출국지수 산출부;를 포함하고,상기 시장 진출국 지수(MEI)는, 상기 관심 경쟁자의 특허 중에서 특정 국가에 출원한 건 수를 관심 경쟁자의 전체 출원건 수로 나누어 제곱한 것을 모두 더한 값의 역수를 취하여 산출하는 것을 특징으로 하는 경쟁자 프로파일 분석 시스템
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제 8 항에 있어서,상기 핵심 경쟁자 수준 지표(CCI)는, 핵심 경쟁자 정량지수(w1)와 출원건수(P)를 곱한 것에, 핵심 경쟁자 정성지수(w2)와 인용기반 기술수준 지수(Q factor)를 곱한 것을 더하여 산출하는 것을 특징으로 하는 경쟁자 프로파일 분석 시스템
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제 9 항에 있어서,상기 핵심 경쟁자 수준 지표(CCI)는, 상기 핵심 경쟁자 정량지수(w1)와 상기 핵심 경쟁자 정성지수(w2)를 먼저 설정한 후에, 상기 핵심 경쟁자 정량지수(w1)에 출원건수(P)를 곱하고, 상기 핵심 경쟁자 정성지수(w2)에 상기 인용기반 기술수준 지수(Q)를 곱하여 얻은 두 값을 더하여 산출하는 것을 특징으로 하는 경쟁자 프로파일 분석 시스템
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제 10 항에 있어서,상기 핵심 경쟁자 정량지수(w1)와 상기 핵심 경쟁자 정성지수(w2)는 각각 0(zero)보다 크거나 같고, 상기 핵심 경쟁자 정량지수(w1)와 상기 핵심 경쟁자 정성지수(w2)를 더하면 1이 되도록 상기 핵심 경쟁자 정량지수(w1)와 상기 핵심 경쟁자 정성지수(w2)를 설정하는 것을 특징으로 하는 경쟁자 프로파일 분석 시스템
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제 9 항 또는 제 10 항에 있어서,상기 인용기반 기술수준 지수(Q)는, 특허의 피인용도 지수(CPP:Citation Per Patent) 값을 해당 분야 특허들의 피인용수 총합에서 해당 분야 특허 총 건수를 나눈 값으로 나누어 산출하는 것을 특징으로 하는 경쟁자 프로파일 분석 시스템
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