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하나 이상의 물질이 경사져서 증착된 다층 박막 거울의 제조 방법에 있어서,다층박막을 형성하기 위한 기판을 준비하는 단계;상기 기판 상부에 마스크를 배치하는 단계;이온빔 또는 방사빔을 타겟 물질에 주사하는 단계;이온빔 또는 방사빔과 반응한 타켓물질로부터의 반응물질을 마스크의 홀부를 통과시켜 기판 상에 증착시키는 단계를 포함하고, 상기 마스크에는 타겟물질로부터의 반응물질이 통과하는 홀부와, 홀부와 홀부 사이에 형성된 스페이스부를 포함하고,상기 홀부의 크기는 좌측으로부터 우측으로 또는 우측으로부터 좌측으로 갈수록 커지는 것을 특징으로 하는 경사진 다층 박막 거울의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 타켓물질에서 마스크까지의 거리와 마스크와 기판까지의 거리의 비는 1
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제1항에 있어서,상기 마스크의 홀부는 원형인 것을 특징으로 하는 경사진 다층 박막 거울의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 마스크의 홀부는 다각형인 것을 특징으로 하는 경사진 다층 박막 거울의 제조 방법
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제3항에 있어서,상기 마스크의 홀부와 스페이스의 비율은 1
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제3항 또는 제4항에 있어서,상기 마스크 내에서 최소 홀부와 최대 홀부의 면적 비율은 1
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제1항에 있어서,상기 기판에 증착되는 반응물질은 탄소(C), 텅스텐(W), 니켈(Ni), 몰리브덴(Mo) 중 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 경사진 다층 박막 거울의 제조 방법
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경사진 다층 박막 거울에 있어서,상기 다층 박막 거울은, 기판의 상부에 형성되고 기판의 표면에 대해 경사진 다층 박막을 포함하고,상기 다층 박막은 마스크를 이용하여 형성되고 - 여기서, 상기 마스크는 반응물질이 통과하는 슬릿부와, 슬릿부와 슬릿부 사이에 형성된 스페이스부를 포함하고, 상기 슬릿부의 크기는 좌측으로부터 우측으로 또는 우측으로부터 좌측으로 갈수록 커지도록 형성됨
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제8항에 있어서,상기 마스크의 슬릿부와 스페이스의 비율은 1
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제9항에 있어서,상기 마스크 내에서 최소 슬릿부와 최대 슬릿부의 면적 비율은 1
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제10항에 있어서,기판에 증착되는 반응물질은 탄소(C), 텅스텐(W), 니켈(Ni), 몰리브덴(Mo) 중 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 경사진 다층 박막 거울
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