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중앙에 캐패시터가 형성되고, 양쪽 끝 부분에 접지판과의 접지를 위한 비아가 형성되는 제1 내지 제4 방사체를 포함하고, 상기 제1 방사체와 제2 방사체는 서로 마주보며 형성되고 Y축에 대응하는 극성을 가지며, 상기 제3 방사체와 상기 제4 방사체는 마주보며 형성되고 X축 방향에 대응하는 극성을 가지는 3dB 축비 빔폭을 갖는 메타물질 원형편파 안테나
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제1항에 있어서,상기 캐패시터는 인터디지털 캐패시터 또는 집중소자 캐패시터인 칩 캐패시터인 3dB 축비 빔폭을 갖는 메타물질 원형편파 안테나
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제2항에 있어서,상기 제1 내지 제4 방사체는 각각 Mu-zero 공진기를 방사체로 사용하는 3dB 축비 빔폭을 갖는 메타물질 원형편파 안테나
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제3항에 있어서,상기 제1 방사체와 상기 제2 방사체 그리고 상기 제3 방사체와 상기 제4 방사체는 서로 같은 공진주파수를 가지며 마주보는 한쌍의 방사체들 사이의 위상차는 90도인 3dB 축비 빔폭을 갖는 메타물질 원형편파 안테나
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제4항에 있어서,상기 제1 내지 제4 방사체들 사이의 중앙에 형성되며, 중앙에 캐패시터 및 양쪽 끝 부분에 급전을 위한 급전홀을 가지는, 급전장치를 더 포함하는 3dB 축비 빔폭을 갖는 메타물질 원형편파 안테나
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6
제5항에 있어서,상기 급전장치는 제1 방사체와 제2 방사체 사이의 직선라인에 대해서 45도 방향으로 기울어져 형성되는 3dB 축비 빔폭을 갖는 메타물질 원형편파 안테나
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7
제6항에 있어서,상기 접지판은 원형으로 형성되며, 동작주파수의 반파장 길이에 해당하는 접지판 지름 크기를 가지는 3dB 축비 빔폭을 갖는 메타물질 원형편파 안테나
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8
제7항에 있어서,상기 제1 내지 제4 방사체의 공진주파수는 삽입된 캐패시터의 용량 또는 비아의 지름 크기에 따라 변화되는 3dB 축비 빔폭을 갖는 메타물질 원형편파 안테나
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중앙에 캐패시터가 형성되고, 양쪽 끝 부분에 접지판과의 접지를 위한 비아가 형성되는 짝수개의 방사체를 포함하고, 상기 짝수개의 방사체중 마주보는 한쌍의 방사체는 동일한 공진 주파수를 가지고, 마주보는 한쌍의 방사체 사이의 위상차는 360도/방사체의 개수인 3dB 축비 빔폭을 갖는 메타물질 원형편파 안테나
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10
제9항에 있어서,상기 방사체들 사이에 형성되며, 중앙에 캐패시터 및 양쪽 끝 부분에 급전을 위한 급전홀을 가지는 급전장치를 더 포함하고,상기 방사체의 개수가6이상인 짝수인 경우에는 2개 이상의 급전장치가 추가로 필요하며 급전장치 사이의 위상차는 180도/급전장치개수를 만족하는 3dB 축비 빔폭을 갖는 메타물질 원형편파 안테나
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