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산소 플라즈마 방식을 이용한 다중 전극을 가지는 바텀-이미션 방법의 유기전계발광소자의 제조방법 및 그 방법에 의한 유기전계발광소자

  • 기술번호 : KST2015209584
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명인 산소 플라즈마 방식을 이용한 다중 전극을 가지는 바텀-이미션 방법의 유기전계발광소자의 제조방법에 의하면, 종래의 ITO전극과 동등한 혹은 이상의 휘도, 발광 효율성능을 구현하면서도 희귀 금속을 사용하지 않아 생산원가를 절감하고, 재료의 굴절률인 높여 줌으로써 빛의 직진성을 약화시켜 기존의 단일 혹은 다중 전극이 가지는 시야각에 따른 색 변화와 휘도를 증가시키는 효과가 있도록 유리 또는 플라스틱으로 기판을 형성하는 단계, 상기 기판의 상측에 니켈(Ni), 백금(Pt) 및 Ti(티타늄) 중 어느 하나의 금속을 2nm 내지 5nm의 두께로 제1하부전극층을 형성하는 단계, 상기 제1하부전극층의 상측에 은(Ag), 금(Au) 및 구리(Cu) 중 어느 하나의 금속을 5nm 내지 15nm의 두께로 제2하부전극층을 형성하는 단계, 상기 제2하부전극층의 상측에 니켈(Ni), 백금(Pt) 및 Ti(티타늄) 중 어느 하나의 금속을 2nm 내지 5nm의 두께로 제3하부전극층을 형성하는 단계에 의하여 전원의 양극과 연결되는 하부전극을 형성하는 단계;와 상기 하부전극의 상측에 다층의 유기발광소자층을 형성하는 단계에 의하여 전원의 양극과 연결하는 하부전극을 형성하는 단계; 및 상기 유기물층의 상측에 전원의 음극과 연결되는 니켈(Ni), 알루미늄(Al), 백금(Pt) 및 Ti(티타늄) 중 어느 하나의 금속을 100nm 이상의 두께로 상부전극을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 산소 플라즈마 방식을 이용한 다중 전극을 가지는 바텀-이미션 방법의 유기전계발광소자의 제조방법이다.
Int. CL H01L 51/50 (2006.01) H01L 51/56 (2006.01)
CPC H01L 23/145(2013.01) H01L 23/145(2013.01) H01L 23/145(2013.01) H01L 23/145(2013.01) H01L 23/145(2013.01) H01L 23/145(2013.01) H01L 23/145(2013.01)
출원번호/일자 1020120039415 (2012.04.16)
출원인 홍익대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2013-0116752 (2013.10.24) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.04.16)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 홍익대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 마포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 형건우 대한민국 서울 관악구
2 김영관 대한민국 서울 중구 청구로*
3 김우영 대한민국 경기 김포시 청송로 **, **
4 구자룡 대한민국 서울특별시 마포구
5 이석재 대한민국 경기 성남시 분당구
6 이호원 대한민국 서울 마포구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 조철현 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로*길 **-* *층(역삼동, 신도빌딩)(우리특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.04.16 수리 (Accepted) 1-1-2012-0301792-65
2 [전자문서첨부서류]전자문서첨부서류등 물건제출서
[Attachment to Electronic Document] Submission of Object such as Attachment to Electronic Document
2012.04.17 수리 (Accepted) 1-1-2012-5013014-89
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2012.04.18 수리 (Accepted) 1-1-2012-0307171-62
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.02.04 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.03.08 수리 (Accepted) 9-1-2013-0014715-04
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.10.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0686673-95
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2013.12.02 수리 (Accepted) 1-1-2013-1103587-81
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2014.01.02 수리 (Accepted) 1-1-2014-0003814-49
9 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2014.03.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0168470-52
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번호 청구항
1 1
바텀-이미션 방법의 유기전계발광소자의 제조방법에 있어서,유리 또는 플라스틱으로 기판을 형성하는 단계;상기 기판의 상측에 니켈(Ni), 백금(Pt) 및 Ti(티타늄) 중 어느 하나의 금속을 2nm 내지 5nm의 두께로 형성한 후 산소 플라즈마를 그 표면에 처리한 제1하부전극층을 형성하는 단계,상기 제1하부전극층의 상측에 은(Ag), 금(Au) 및 구리(Cu) 중 어느 하나의 금속을 5nm 내지 15nm의 두께로 제2하부전극층을 형성하는 단계, 상기 제2하부전극층의 상측에 니켈(Ni), 백금(Pt) 및 Ti(티타늄) 중 어느 하나의 금속을 2nm 내지 5nm의 두께로 제3하부전극층을 형성하는 단계에 의하여 전원의 양극과 연결되는 하부전극을 형성하는 단계;상기 하부전극의 상측에 다층의 유기발광소자층을 형성하는 단계에 의하여 전원의 양극과 연결하는 하부전극을 형성하는 단계; 및상기 유기물층의 상측에 전원의 음극과 연결되는 니켈(Ni), 알루미늄(Al), 백금(Pt) 및 Ti(티타늄) 중 어느 하나의 금속을 100nm 이상의 두께로 상부전극을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 산소 플라즈마 방식을 이용한 다중 전극을 가지는 바텀-이미션 방법의 유기전계발광소자의 제조방법
2 2
제 1 항에 있어서,상기 하부전극을 형성함에 있어 제1하부전극층, 제2하부전극층 및 제3하부전극층을 열증착공정 또는 포토리소공정을 이용하여 패터닝한 후 추가적인 정공주입층이 필요하지 않도록 산소 플라즈마의 처리에 의하여 Ni전극을 NiO전극화하여 일함수를 높이는 것을 특징으로 하는 산소 플라즈마 방식을 이용한 다중 전극을 가지는 바텀-이미션 방법의 유기전계발광소자의 제조방법
3 3
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 유기발광소자층을 형성하는 단계에 있어서 열증착공정을 사용하여 정공수송층, 발광층 및 전자수송층을 증착하는 것을 특징으로 하는 산소 플라즈마 방식을 이용한 다중 전극을 가지는 바텀-이미션 방법의 유기전계발광소자의 제조방법
4 4
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 상부전극을 형성함에 있어 상부전극을 열증착공정 또는 쉐도우마스크를 사용하여 패터닝하는 것을 특징으로 하는 산소 플라즈마 방식을 이용한 다중 전극을 가지는 바텀-이미션 방법의 유기전계발광소자의 제조방법
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제 3 항에 있어서,상기 상부전극을 형성함에 있어 상부전극을 열증착공정 또는 쉐도우마스크를 사용하여 패터닝하는 것을 특징으로 하는 산소 플라즈마 방식을 이용한 다중 전극을 가지는 바텀-이미션 방법의 유기전계발광소자의 제조방법
6 6
다중 전극을 가지는 바텀-이미션 방법의 유기전계발광소자에 있어서,유리 또는 플라스틱으로 제조한 기판;상기 기판의 상측에 니켈(Ni), 백금(Pt) 및 Ti(티타늄) 중 어느 하나의 금속을 2nm 내지 5nm의 두께로 형성한 후 산소 플라즈마를 그 표면에 처리한 제1하부전극층,상기 제1하부전극층의 상측에 은(Ag), 금(Au) 및 구리(Cu) 중 어느 하나의 금속을 5nm 내지 15nm의 두께로 형성된 제2하부전극층, 상기 제2하부전극층의 상측에 니켈(Ni), 백금(Pt) 및 Ti(티타늄) 중 어느 하나의 금속을 2nm 내지 5nm의 두께로 형성된 제3하부전극층을 포함하여 전원의 양극과 연결되는 하부전극;상기 하부전극의 상측에 다층으로 형성된 유기발광소자층 및상기 유기물층의 상측에 전원의 음극과 연결되는 니켈(Ni), 알루미늄(Al), 백금(Pt) 및 Ti(티타늄) 중 어느 하나의 금속을 100nm 이상의 두께로 형성된 상부전극;를 포함하는 것을 특징으로 하는 산소 플라즈마 방식을 이용한 다중 전극을 가지는 바텀-이미션 방법의 유기전계발광소자
7 7
제 6 항에 있어서,상기 하부전극의 제1하부전극층, 제2하부전극층 및 제3하부전극층은 열증착공정 또는 포토리소공정을 이용하여 패터닝한 후 추가적인 정공주입층이 필요하지 않도록 산소 플라즈마의 처리에 의하여 Ni, Pt, Ti전극을 Ni oxide, Pt oxide, Ti oxide화하여 일함수를 높이는 것을 특징으로 하는 산소 플라즈마 방식을 이용한 다중 전극을 가지는 바텀-이미션 방법의 유기전계발광소자
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제 6 항 또는 제 7 항에 있어서,상기 유기발광소자층은 열증착공정을 사용하여 정공수송층, 발광층 및 전자수송층을 증착하는 것을 특징으로 하는 산소 플라즈마 방식을 이용한 다중 전극을 가지는 바텀-이미션 방법의 유기전계발광소자
9 9
제 6 항 또는 제 7 항에 있어서,상기 상부전극을 형성함에 있어 상부전극을 열증착공정 또는 쉐도우마스크를 사용하여 패터닝하는 것을 특징으로 하는 산소 플라즈마 방식을 이용한 다중 전극을 가지는 바텀-이미션 방법의 유기전계발광소자
10 10
제 8 항에 있어서,상기 상부전극을 형성함에 있어 상부전극을 열증착공정 또는 쉐도우마스크를 사용하여 패터닝하는 것을 특징으로 하는 산소 플라즈마 방식을 이용한 다중 전극을 가지는 바텀-이미션 방법의 유기전계발광소자
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 홍익대학교 산학협력단 2단계 연구중심대학 육성(0.5) 최첨단 정보디스플레이 소재 전문 인력 양성 사업