| 1 |
1
광기록 매체와 근접장 기록/재생 방식의 광학계 사이의 간격을 측정하는 장치에 있어서, 광원; 상기 광원과 광기록 매체 사이에 배치되어, 상기 광원에서 나온 빔이 입사하는 제1면과, 광기록 매체에 대향하는 광학계의 최종면과 일치하도록 광기록 매체에 대향하는 제2면과, 제2면에서 반사된 빔이 출사하는 제3면을 포함하는 베이스 프리즘; 상기 베이스 프리즘의 제3면에서 나온 빔의 광량을 검출하는 광검출기 를 포함하며, 상기 광원에서 나와 베이스 프리즘의 제1면에서 굴절하는 빔은 베이스 프리즘의 제2면에서 반사되어 제3면에서 출사되거나, 제2면에서 소실파(evanescent wave)가 되어 출사하고, 상기 베이스 프리즘과 광기록매체 사이의 미세 간격이 커지게 되면 소실파가 적어지고 반사되는 광량이 많아져 상기 광검출기에서 검출되는 광량이 커지게 되고, 미세 간격이 작아지게 되면 소실파가 많아지고 반사되는 광량이 적어져 상기 광검출기에서 검출되는 광량이 적어지는 것에 의하여 상기 광기록매체와 광학계 사이의 미세 간격을 측정하는 내부 반사식 미세 간격 측정 장치
|
| 2 |
2
제1항에 있어서, 상기 베이스 프리즘이 상기 광학계와 일체로 형성된 것을 특징으로 하는 내부 반사식 미세 간격 측정 장치
|
| 3 |
3
제1항에 있어서, 상기 베이스 프리즘의 제1면과 제2면 사이의 내각을 광기록 매체에 수직한 축으로 나눈 각을 각각 θ1과 θ2라고 할 때, 베이스 프리즘의 제1면 내지 제3면과 모두 수직한 면 상에서 제2면으로 입사하는 광의 입사각 φ1, 및 상기 베이스 프리즘의 제3면으로부터 나오는 빛과 광디스크에 수직한 축이 이루는 각 φO는 다음식 (여기서 n1은 베이스 프리즘의 굴절률, n2는 공기의 굴절률, φc는 베이스 프리즘의 전반사 임계각, φi는 베이스 프리즘의 제1면 내지 제3면과 모두 수직한 면 상에서 제1면으로 입사하는 입사광과 광기록 매체에 수직한 축이 이루는 각임) 을 만족하는 것을 특징으로 하는 내부 반사식 미세 간격 측정 장치
|
| 4 |
4
제1항에 있어서, 상기 광학계와 베이스 프리즘 사이에 배치된 거울 을 더 포함하여 상기 광원에서 나온 빔이 상기 거울에서 반사되어 베이스 프리즘의 제1면으로 입사하도록 구성된 것을 특징으로 하는 내부 반사식 미세 간격 측정 장치
|
| 5 |
5
제4항에 있어서, 상기 거울은 광기록 매체에 수직한 축으로부터 경사각 φM으로 기울어져 배치되고, 경사각 φM은 다음 식 φi =φR + φM = 2φM + φL (여기서 φR은 거울(120) 면에 입사하는 빛과 거울면 사이의 각이고, φL은 거울(120) 면에 입사하는 빛과 광디스크에 수직한 축이 이루는 각임) 을 만족하는 것을 특징으로 하는 내부 반사식 미세 간격 측정 장치
|
| 6 |
6
제4항에 있어서, 상기 베이스 프리즘, 거울 및 광학계가 일체로 형성된 것을 특징으로 하는 내부 반사식 미세 간격 측정 장치
|
| 7 |
7
광기록 매체와 근접장 기록/재생 방식의 광학계 사이의 간격을 측정하는 장치에 있어서, 광원; 상기 광원과 광기록 매체 사이에 광기록 매체와 일정 각도를 이루도록 배치되어, 상기 광원에서 나온 빔을 반사시키는 거울; 상기 광기록 매체에 대향하는 면은 평면이고 광원에 대향하는 면은 곡면이어서, 상기 거울에서 반사되어 곡면을 통해 입사된 빔이 상기 평면에서 반사되거나 소실파(evanescent wave)가 되어 출사하는 고체 침지 렌즈; 상기 고체 침지 렌즈의 평면에서 반사된 빔의 광량을 검출하는 광검출기 를 포함하며, 상기 고체 침지 렌즈와 광기록매체 사이의 미세 간격이 커지게 되면 소실파가 적어지고 반사되는 광량이 많아져 상기 광검출기에서 검출되는 광량이 커지게 되고, 미세 간격이 작아지게 되면 소실파가 많아지고 반사되는 광량이 적어져 상기 광검출기에서 검출되는 광량이 적어지는 것에 의하여 상기 광기록매체와 광학계 사이의 미세 간격을 측정하는 내부 반사식 미세 간격 측정 장치
|
| 8 |
8
제7항에 있어서, 상기 거울과 고체 침지 렌즈의 곡면 사이에 배치되어, 고체 침지 렌즈의 곡면으로 입사하는 입사각도를 조절하기 위한 보조 프리즘 을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 내부 반사식 미세 간격 측정 장치
|
| 9 |
9
제8항에 있어서, 상기 거울, 보조 프리즘 및 고체 침지 렌즈가 일체로 형성된 것을 특징으로 하는 내부 반사식 미세 간격 측정 장치
|
| 10 |
10
광원; 광기록 매체와의 사이에서 근접장을 형성하고, 상기 광원으로부터의 빔을 수렴하도록 하여 광기록 매체에 조사하는 광학계; 상기 광기록 매체로부터의 반사광을 광전변환시키는 수광부; 및 상기 광기록 매체와 광학계 사이의 간격을 측정하는 미세 간격 측정부 를 포함하고, 상기 미세 간격 측정부가 광원과 광기록 매체 사이에 배치되어, 상기 광원에서 나온 빔이 입사하는 제1면과, 광기록 매체에 대향하는 광학계의 최종면과 일치하도록 광기록 매체에 대향하는 제2면과, 제2면에서 반사된 빔이 출사하는 제3면을 포함하는 베이스 프리즘; 상기 베이스 프리즘의 제3면에서 나온 빔의 광량을 검출하는 광검출기 를 포함하고, 상기 베이스 프리즘과 광기록매체 사이의 미세 간격이 커지게 되면 소실파가 적어지고 반사되는 광량이 많아져 상기 광검출기에서 검출되는 광량이 커지게 되고, 미세 간격이 작아지게 되면 소실파가 많아지고 반사되는 광량이 적어져 상기 광검출기에서 검출되는 광량이 적어지는 것에 의하여 상기 광기록매체와 광학계 사이의 미세 간격을 측정하는 것을 특징으로 하는 광픽업 장치
|
| 11 |
11
제10항에 있어서, 상기 광학계와 베이스 프리즘이 일체로 형성되는 것을 특징으로 하는 광픽업 장치
|
| 12 |
12
제10항에 있어서, 상기 미세 간격 측정부가 상기 광학계 주위로 복수 개 형성되는 것을 특징으로 하는 광픽업 장치
|
| 13 |
13
제10항에 있어서, 상기 미세 간격 측정부가 별도의 광원을 포함하는 것을 특징으로 하는 광픽업 장치
|
| 14 |
14
제10항에 있어서, 상기 광학계가 고체 침지 렌즈(solid immersion lens)를 포함하는 것을 특징으로 하는 광픽업 장치
|
| 15 |
15
제10항에 있어서, 상기 미세 간격 측정부가 상기 광학계와 베이스 프리즘 사이에 배치된 거울 을 더 포함하여 상기 광원에서 나온 빔이 상기 거울에서 반사되어 베이스 프리즘의 제1면으로 입사하도록 구성된 것을 특징으로 하는 광픽업 장치
|
| 16 |
16
제15항에 있어서, 상기 광학계, 거울 및 베이스 프리즘이 일체로 형성되는 것을 특징으로 하는 광픽업 장치
|
| 17 |
17
광원; 광기록 매체와의 사이에서 근접장을 형성하고, 상기 광원으로부터의 빔을 수렴하도록 하여 광기록 매체에 조사하는 고체 침지 렌즈를 포함하는 광학계; 상기 광기록 매체로부터의 반사광을 광전변환시키는 수광부; 및 상기 광원과 광기록 매체 사이에 광기록 매체와 일정 각도를 이루도록 배치되어, 상기 광원에서 나온 빔을 반사시키는 거울; 상기 거울에서 반사되어 고체 침지 렌즈의 곡면을 통해 입사된 빔이 고체 침지 렌즈의 평면에서 반사되는 빔의 광량을 검출하는 광검출기 를 포함하는 광픽업 장치
|
| 18 |
18
제17항에 있어서, 상기 고체 침지 렌즈와 거울이 일체로 형성되는 것을 특징으로 하는 광픽업 장치
|
| 19 |
19
제1항 또는 제7항에 있어서, 상기 미세 간격 측정 장치를 근접장 기록/재생 방식의 광학계 주위로 복수 개 배치하여, 각각의 미세 간격 측정 장치에서 측정된 간격에 의하여 광기록 매체의 기울어짐을 측정하는 것을 특징으로 하는 미세 간격 측정 장치
|
| 20 |
19
제1항 또는 제7항에 있어서, 상기 미세 간격 측정 장치를 근접장 기록/재생 방식의 광학계 주위로 복수 개 배치하여, 각각의 미세 간격 측정 장치에서 측정된 간격에 의하여 광기록 매체의 기울어짐을 측정하는 것을 특징으로 하는 미세 간격 측정 장치
|
