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(1) 고분자 폴리에테르술폰, 용매, 제 1 기공형성제 및 제 2 기공형성제를 혼합하여 고분자 용액을 제조하는 단계; (2) 상기 고분자 용액을 캐스팅하는 단계; (3) 상기 캐스팅된 고분자 용액을 습한 공기에 노출시켜서 표면 기공을 형성시키는 단계; (4) 단계 (3)을 거친 캐스팅된 고분자 용액을 비용매에 침전시켜서 내부 기공을 형성시키고 응고시켜서 막을 제조하는 단계; (5) 상기 막을 세척하고 건조시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 다공성 폴리에테르술폰막의 제조방법
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제 1항에 있어서, 용매는 N,N-디메틸포름아마이드, N-메틸-2-피롤리돈, 디메틸술폭사이드 및 디메틸아세트아마이드로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 미세 다공성 폴리에테르술폰막의 제조방법
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제 1항에 있어서, 제 1 기공형성제는 2-에톡시에탄올, 프로피온산, 아세트산, T-아밀아코올, 2-메톡시에탄올, 메탄올, 에탄올, 부탄올, 이소프로필 알코올로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 미세 다공성 폴리에테르술폰막의 제조방법
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제 1항에 있어서, 제 2 기공형성제는 폴리비닐피롤리돈, 폴리에틸렌글리콜 및 실리카로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 미세 다공성 폴리에테르술폰막의 제조방법
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제 1항에 있어서, 비용매는 물, 메탄올, 에탄올 및 이소프로판올로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 미세 다공성 폴리에테르술폰막의 제조방법
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제 1항에 있어서, 고분자 용액은 전체 중량당 폴리에테르술폰을 6 내지 25 중량%로 포함하고, 유기 용매를 20 내지 92 중량%로 포함하며, 제 1 기공형성제를 1 내지 70 중량%로 포함하고, 제 2 기공형성제를 1 내지 40 중량%로 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 다공성 폴리에테르술폰막의 제조방법
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제 1항에 있어서, 단계 (3)은 50% 이상의 습도를 보유한 습한 공기에서 2초 내지 5분 동안 캐스팅된 고분자 용액을 노출시키는 것을 특징으로 하는 미세 다공성 폴리에테르술폰막의 제조방법
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제 1항에 있어서, 단계 (4)의 비용매는 온도가 4 내지 70℃인 것을 특징으로 하는 미세 다공성 폴리에테르술폰막의 제조방법
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제 1항에 있어서, 단계 (4)의 침전은 1 내지 20시간 동안 진행하는 것을 특징으로 하는 미세 다공성 폴리에테르술폰막의 제조방법
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