맞춤기술찾기

이전대상기술

원자층 증착법을 이용한 결함 치유 방법

  • 기술번호 : KST2015210582
  • 담당센터 : 인천기술혁신센터
  • 전화번호 : 032-420-3580
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 원자층 증착법을 이용하여 전구체를 기재 표면에 노출시켜 결함을 치유하는 방법에 관한 것이다. 본 발명의 치유 방법에 의할 경우 그래핀과 같은 이차원 나노소재에 존재하는 결함이 치유되어 소재가 이론적으로 지니는 뛰어난 물리적 성질에 가까운 값에 도달하게 할 수 있다.
Int. CL C01B 32/194 (2017.01.01) C23C 16/455 (2006.01.01)
CPC C01B 32/194(2013.01) C01B 32/194(2013.01)
출원번호/일자 1020130087255 (2013.07.24)
출원인 인천대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1568159-0000 (2015.11.05)
공개번호/일자 10-2015-0011989 (2015.02.03) 문서열기
공고번호/일자 (20151111) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.07.24)
심사청구항수 4

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 인천대학교 산학협력단 대한민국 인천광역시 연수구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 이한보람 대한민국 서울 강서구
2 김관표 대한민국 제주 제주시 진남로

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 특허법인 남앤남 대한민국 서울특별시 중구 서소문로**(서소문동, 정안빌딩*층)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 인천대학교 산학협력단 대한민국 인천광역시 연수구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2013.07.24 수리 (Accepted) 1-1-2013-0668146-87
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2014.10.08 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.10.14 수리 (Accepted) 4-1-2014-0091252-23
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2014.11.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2014-0039092-83
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.11.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0823364-52
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.12.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0861638-47
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.01.23 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0073662-15
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.01.23 수리 (Accepted) 1-1-2015-0073643-47
9 심사처리보류(연기)보고서
Report of Deferment (Postponement) of Processing of Examination
2015.06.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2015-0049603-38
10 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2015.08.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0589742-18
11 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2015.09.25 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2015-0936638-72
12 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.09.25 수리 (Accepted) 1-1-2015-0936637-26
13 등록결정서
Decision to Grant Registration
2015.11.03 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0762057-10
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2016.06.10 수리 (Accepted) 4-1-2016-5075573-17
15 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2016.06.13 수리 (Accepted) 1-1-2016-0563225-15
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.10.14 수리 (Accepted) 4-1-2019-5212872-93
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
원자층 증착법(atomic layer deposition; ALD)을 이용하여 백금(Pt), 루테늄(Ru), 이리듐(Ir) 또는 이들의 하나 이상의 조합을 포함하는 전구체를,그래핀(graphene), 질화 붕소(boron nitride; BN) 및 이황화 몰리브덴(MoS2)으로 이루어진 군으로부터 선택된 이차원 나노 소재인 기재 표면에 노출시켜 기재 표면상의 결함(defect) 부위에 증착시키는 방법
2 2
제 1 항에 있어서,하나의 전구체를 기재 표면에 노출시키거나 또는 둘 이상의 전구체를 기재 표면에 순차적으로 노출시키는 것을 특징으로 하는 방법
3 3
삭제
4 4
삭제
5 5
삭제
6 6
삭제
7 7
제 1 항 또는 제 2 항에 따른 방법에 의해 결함이 치유된 기재
8 8
제 7 항에 있어서,투명전극소재로 사용되는 것을 특징으로 하는 기재
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통산자원부 한국반도체연구조합 산업융합원천기술개발사업 초미세고신뢰성 배선기술