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플라즈마 생성부;상기 플라즈마 생성부의 상측으로 연결되는 공정가스 유입구; 및상기 플라즈마 생성부 하부에 위치하는 분사부;를 포함하는 샤워헤드로서, 상기 분사부는 상기 플라즈마 생성부에서 생성된 라디칼을 분사공간으로 분사시킬 수 있도록 일단이 플라즈마 생성부로 연통되고, 타단이 분사공간으로 개방되도록 상기 분사부를 관통하여 형성되는 다수 개의 제1분사노즐; 상기 분사부의 내부에 형성되며, 외부로부터 공급되는 유기금속 전구체를 수용하는 전구체 수용부; 상기 전구체 수용부에 수용된 유기금속 전구체를 분사공간으로 분사시킬 수 있도록 일단이 상기 전구체 수용부에 연결되고, 타단이 분사공간으로 개방되도록 형성된 다수 개의 제2분사노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 샤워헤드
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제1항에 있어서,상기 플라즈마 생성부과 공정가스 유입구 사이에는 가스확산판을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 샤워헤드
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제2항에 있어서, 상기 가스확산판은 다수 개의 구멍이 조밀하게 형성된 판형인 것을 특징으로 하는 샤워헤드
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제1항에 있어서, 상기 제1분사노즐은 너비를 길이로 나눈 값이 0
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제1항에 있어서, 상기 제1분사노즐은 너비를 길이로 나눈 값이 0
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제1항에 있어서,상기 제1분사노즐은 너비를 길이로 나눈 값이 0
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제1항에 있어서, 상기 제1분사노즐의 너비는 1-10 mm 인 것을 특징으로 하는 샤워헤드
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제1항에 있어서, 상기 제2분사노즐의 너비는 0
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제1항에 있어서, 상기 플라즈마 생성부에는 고주파 전력이 공급되는 전극이 설치되는 것을 특징으로 하는 샤워헤드
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제1항에 있어서, 상기 라디칼은 유입구를 통해 유입된 공정가스가 플라즈마 생성부에 의해 플라즈마로 변환되어 생성되는 것을 특징으로 하는 샤워헤드
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제1항에 있어서, 상기 제1분사노즐 및 제2분사노즐은 스테인레스 스틸, 니켈, 알루미늄 합금 및 산화알루미늄으로 이루어진 군 중에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 재질로 구성되는 것을 특징으로 하는 샤워헤드
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제1항에 있어서,상기 전구체 수용부는 유기금속가스 유입구를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 샤워헤드
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기판에 대한 증착공정이 행해지는 공간부가 형성되어 있는 챔버; 챔버 내부에 설치되며 기판이 안착되는 서셉터; 및 제1항 내지 제 12항 중 어느 한 항에 기재된 샤워헤드;를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막증착 장치
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제13항에 있어서, 상기 박막증착 장치는 플라즈마 화학기상증착 장치인 것을 특징으로 하는 박막증착장치
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제13항에 있어서, 상기 박막증착 장치는 플라즈마 원자층증착 장치인 것을 특징으로 하는 박막증착장치
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