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방오성을 갖는 표면 구조층

기술번호 : KST2015211664
담당센터 : 경기기술혁신센터
전화번호 : 031-8006-1570

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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약	본 발명은 기재의 상부에 형성되는 표면층을 포함하며, 상기 표면층은 CF(탄화불소)기 또는 CH(탄화수소)기를 포함하는 실란계 화합물을 포함하는 방오성을 갖는 표면 구조층, 또는 기재의 상부에 형성되는 표면층을 포함하고, 상기 표면층은 CF(탄화불소)기 또는 CH(탄화수소)기를 포함하는 인산계 화합물을 포함하여 형성되는 방오성을 갖는 표면 구조층을 개시한다.
Int. CL	C09D 5/16 (2006.01) C09D 183/02 (2006.01)
CPC	C09D 5/16(2013.01) C09D 5/16(2013.01) C09D 5/16(2013.01) C09D 5/16(2013.01)
출원번호/일자	1020130129381 (2013.10.29)
출원인	경기대학교 산학협력단
등록번호/일자	10-1546084-0000 (2015.08.13)
공개번호/일자	10-2015-0017283 (2015.02.16) 문서열기
공고번호/일자	(20150820) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보	대한민국 \| 1020130093109 \| 2013.08.06
법적상태	등록
심사진행상태	수리
심판사항
구분	신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자	Y (2013.10.29)
심사청구항수	13

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호	이름	국적	주소
1	경기대학교 산학협력단	대한민국	경기도 수원시 영통구

발명자

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번호	이름	국적	주소
1	주상현	대한민국	서울 서대문구
2	하영근	대한민국	대전 유성구

대리인

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번호	이름	국적	주소
1	김호종	대한민국	서울특별시 강남구 테헤란로길 -, *층 (역삼동, 신도빌딩)(태산특허법률사무소)

최종권리자

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번호	이름	국적	주소
1	경기대학교 산학협력단	대한민국	경기도 수원시 영통구

번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	[특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application	2013.10.29	수리 (Accepted)	1-1-2013-0981846-37
2	[출원서등 보정]보정서 [Amendment to Patent Application, etc.] Amendment	2013.12.12	수리 (Accepted)	1-1-2013-1138186-95
3	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2014.03.04	수리 (Accepted)	4-1-2014-5027623-63
4	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2014.03.04	수리 (Accepted)	4-1-2014-5027621-72
5	선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search	2014.08.04	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
6	선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search	2014.09.12	수리 (Accepted)	9-1-2014-0071246-07
7	의견제출통지서 Notification of reason for refusal	2014.09.29	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2014-0665809-16
8	[지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)	2014.12.01	수리 (Accepted)	1-1-2014-1165053-99
9	[지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)	2014.12.29	수리 (Accepted)	1-1-2014-1268522-38
10	[지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)	2015.01.29	수리 (Accepted)	1-1-2015-0099160-05
11	[거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)	2015.02.27	수리 (Accepted)	1-1-2015-0199061-06
12	[명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment	2015.02.27	보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment)	1-1-2015-0199080-63
13	등록결정서 Decision to grant	2015.07.27	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2015-0500075-65

번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호	청구항
1	1 기재의 상부에 형성되는 표면층을 포함하며,상기 표면층은 CF(탄화불소)기 또는 CH(탄화수소)기를 포함하는 실란계 화합물을 포함하며,상기 기재의 상면과 상기 표면층의 사이에 형성되며, 표면에 수산화기(-OH) 또는 카르복시기(-COOH)가 형성되는 계면층을 더 포함하며,상기 표면층은 상기 실란계 화합물의 실란기가 상기 수산화기(-OH) 또는 카르복시기(-COOH)와 자기결합되어 형성되며, 상기 계면층은 그래핀, 그래핀옥사이드, 금속 산화물 또는 이들의 혼합물이 디핑 코팅, 스핀 코팅 혹은 스프레이 코팅되어 형성되는 것을 특징으로 하는 방오성을 갖는 표면 구조층
2	2 삭제
3	3 삭제
4	4 삭제
5	5 제 1 항에 있어서,상기 표면층은 하기의 구조식(1)으로 표시되는 실란계 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 방오성을 갖는 표면 구조층
6	6 제 1 항에 있어서,상기 금속 산화물은 TixOx, FexOy, AlxOy, SixOy, SnxOy, ZnxOy, InxOy, CexOy 및 ZrxOy로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나의 금속 산화물 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 방오성을 갖는 표면 구조층
7	7 제 1 항에 있어서,상기 계면층은 플라즈마 처리 또는 UVO 처리를 통하여 수산화기(-OH) 또는 카르복시기(-COOH)가 형성되는 것을 특징으로 하는 방오성을 갖는 표면 구조층
8	8 제 1 항에 있어서,상기 기재는 니켈, 알루미늄, 스테인레스 스틸, 모넬, 인코넬, 텅스텐, 은 티타늄, 몰리브덴, 듀플렉스, 구리 및 철에서 선택되는 어느 하나의 금속 물질 또는 나무, 유리, 플라스틱, 실리콘, 고무, 탄성체, 발포제, 종이, 세라믹, 콘크리트 및 석고보드에서 선택되는 어느 하나 또는 이들의 혼합물로 형성되는 것을 특징으로 하는 방오성을 갖는 표면 구조층
9	9 제 8 항에 있어서,상기 금속 물질은 어닐링 처리되어 형성되는 것을 특징으로 하는 방오성을 갖는 표면 구조층
10	10 기재의 상부에 형성되는 표면층을 포함하고, 상기 표면층은 CF(탄화불소)기 또는 CH(탄화수소)기를 포함하는 인산계 화합물을 포함하며,상기 기재의 상면과 상기 표면층의 사이에 형성되며, 표면에 금속기(-M)가 형성되는 계면층을 더 포함하며,상기 표면층은 상기 인산계 화합물의 인산기가 상기 금속기와 자기결합되어 형성되며,상기 계면층은 금속 산화물이 디핑 코팅, 스핀 코팅 또는 스프레이 코팅되어 형성되는 것을 특징으로 하는 방오성을 갖는 표면 구조층
11	11 삭제
12	12 제 10 항에 있어서,상기 기재는 니켈, 알루미늄, 스테인레스 스틸, 모넬, 인코넬, 텅스텐, 은 티타늄, 몰리브덴, 듀플렉스, 구리 및 철에서 선택되는 어느 하나의 금속 물질 또는 나무, 유리, 플라스틱, 실리콘, 고무, 탄성체, 발포제, 종이, 세라믹, 콘크리트, 석고보드에서 선택되는 어느 하나 또는 이들의 혼합물로 형성되는 것을 특징으로 하는 방오성을 갖는 표면 구조층
13	13 제 12 항에 있어서,상기 금속 물질은 어닐링 처리되어 형성되는 것을 특징으로 하는 방오성을 갖는 표면 구조층
14	14 삭제
15	15 제 10 항에 있어서,상기 금속 산화물은 TixOx, FexOy, AlxOy, SixOy, SnxOy, ZnxOy, InxOy, CexOy 및 ZrxOy로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나의 금속 산화물 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 방오성을 갖는 표면 구조층
16	16 삭제
17	17 제 10 항에 있어서,상기 계면층은 플라즈마 처리에 의하여 상기 금속기가 형성되는 것을 특징으로 하는 방오성을 갖는 표면 구조층
18	18 제 10 항에 있어서,상기 표면층은 하기의 구조식(2)으로 표시되는 인산계 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 방오성을 갖는 표면 구조층
19	19 제 1 항에 있어서,상기 표면층은 Octadecylphosphonic acid(OD-PA), (1H,1H,2H,2H-heptadecafluorodec-1-yl) phosphonic acid(HDF-PA) 또는 (heptadecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrodecyl) trichlorosilane(HDF-S)로 형성되는 것을 특징으로 하는 방오성을 갖는 표면 구조층

순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번	연구부처	주관기관	연구사업	연구과제
1	미래창조과학부	경기대학교 산학협력단	원천기술개발사업-첨단융합기술개발사업-신기술융합형성장동력사업	신개념의 NSEA방식을 이용한 NIT 융합형 나노 디스플레이 개발

본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.

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특허 등록번호	10-1546084-0000

권리란

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표시번호	사항
1	출원 연월일 : 20131029 출원 번호 : 1020130129381 공고 연월일 : 20150820 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20150727 청구범위의 항수 : 13 유별 : C09D 5/16 발명의 명칭 : 방오성을 갖는 표면 구조층 존속기간(예정)만료일 :

특허권자란

순위번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 특허권자란 표입니다.
순위번호	사항
1	(권리자) 경기대학교 산학협력단 경기도 수원시 영통구...

등록료란

순위번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 등록료란 표입니다.
제 1 - 3 년분	금 액	276,000 원	2015년 08월 17일	납입
제 4 년분	금 액	163,000 원	2018년 07월 12일	납입
제 5 년분	금 액	163,000 원	2019년 07월 18일	납입
제 6 년분	금 액	163,000 원	2020년 07월 16일	납입

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정확한 서류를 확인하시려면 해당 웹사이트에서 조회하시기 바랍니다. (특허로 바로가기: http://www.patent.go.kr)
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송번호의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 통합행정정보 > 등록료란 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	[특허출원]특허출원서	2013.10.29	수리 (Accepted)	1-1-2013-0981846-37
2	[출원서등 보정]보정서	2013.12.12	수리 (Accepted)	1-1-2013-1138186-95
3	출원인정보변경(경정)신고서	2014.03.04	수리 (Accepted)	4-1-2014-5027623-63
4	출원인정보변경(경정)신고서	2014.03.04	수리 (Accepted)	4-1-2014-5027621-72
5	선행기술조사의뢰서	2014.08.04	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
6	선행기술조사보고서	2014.09.12	수리 (Accepted)	9-1-2014-0071246-07
7	의견제출통지서	2014.09.29	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2014-0665809-16
8	[지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서	2014.12.01	수리 (Accepted)	1-1-2014-1165053-99
9	[지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서	2014.12.29	수리 (Accepted)	1-1-2014-1268522-38
10	[지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서	2015.01.29	수리 (Accepted)	1-1-2015-0099160-05
11	[거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서	2015.02.27	수리 (Accepted)	1-1-2015-0199061-06
12	[명세서등 보정]보정서	2015.02.27	보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment)	1-1-2015-0199080-63
13	등록결정서	2015.07.27	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2015-0500075-65


과제고유번호	1345203895
세부과제번호	2010-50192
연구과제명	신개념의 NSEA방식을 이용한 NIT 융합형 나노 디스플레이 개발
성과구분	출원
부처명	미래창조과학부
연구관리전문기관명
연구주관기관명
성과제출연도	2013
연구기간	200909~201406
기여율	1
연구개발단계명	기초연구
6T분류명	NT(나노기술)

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