| 1 |
1
삭제
|
| 2 |
2
표면에서 내부로 연결되는 다수의 기공을 포함하는 기본 구조체 및상기 기본 구조체의 표면에 형성되는 표면층을 포함하며,상기 표면층은 CF(탄화불소)기 또는 CH(탄화수소)기를 포함하는 하기의 구조식(1)으로 표시되는 실란계 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 필터
|
| 3 |
3
제 2 항에 있어서,상기 기본 구조체의 표면과 상기 표면층의 사이에 형성되는 계면층을 더 포함하며,상기 계면층은 표면에 수산화기(-OH) 또는 카르복시기(-COOH)가 형성되며,상기 표면층은 상기 수산화기(-OH) 또는 카르복시기(-COOH)와 자기결합되어 형성되는 것을 특징으로 하는 나노 필터
|
| 4 |
4
삭제
|
| 5 |
5
제 3 항에 있어서,상기 계면층은 그래핀, 그래핀옥사이드, 금속 산화물 또는 이들의 혼합물로 형성되며,상기 금속 산화물은 TixOx, FexOy, AlxOy, SixOy, SnxOy, ZnxOy, InxOy, CexOy 또는 ZrxOy로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나의 금속산화물인 것을 특징으로 하는 나노 필터
|
| 6 |
6
제 3 항에 있어서,상기 계면층은 플라즈마 처리 또는 UVO 처리를 통하여 수산화기(-OH) 또는 카르복시기(-COOH)가 형성되는 것을 특징으로 하는 나노 필터
|
| 7 |
7
제 2 항에 있어서상기 기본 구조체의 표면과 상기 표면층의 사이에 형성되는 계면층을 더 포함하며,상기 계면층은 표면에 금속기(-M)가 형성되며, 상기 표면층은 상기 금속기와 자기결합되어 형성되는 것을 특징으로 하는 나노 필터
|
| 8 |
8
표면에서 내부로 연결되는 다수의 기공을 포함하는 기본 구조체 및상기 기본 구조체의 표면에 형성되는 표면층을 포함하며,상기 표면층은 CF(탄화불소)기 또는 CH(탄화수소)기를 포함하는 하기의 구조식(2)으로 표시되는 인산계 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 필터
|
| 9 |
9
제 8 항에 있어서,금속 산화물 또는 이들의 혼합물로 형성되고 상기 기본 구조체의 표면과 상기 표면층의 사이에 형성되는 계면층을 더 포함하며,상기 계면층은 표면에 금속기(-M)가 형성되며, 상기 표면층은 상기 금속기와 자기결합되어 형성되는 것을 특징으로 하는 나노 필터
|
| 10 |
10
제 9 항에 있어서,상기 금속 산화물은 TixOx, FexOy, AlxOy, SixOy, SnxOy, ZnxOy, InxOy, CexOy 또는 ZrxOy로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나의 금속산화물인 것을 특징으로 하는 나노 필터
|
| 11 |
11
제 8 항에 있어서,상기 표면층은 OD-PA 또는 HDF-PA로 형성되는 것을 특징으로 하는 나노 필터
|
| 12 |
12
제 2 항 또는 제 8 항에 있어서,상기 기본 구조체는 니켈, 알루미늄, 스테인레스 스틸, 모넬, 인코넬, 텅스텐, 은 티타늄, 몰리브덴, 듀플렉스, 구리, 철, 폴리에스테르, 나일론, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 또는 화이버 글라스로 형성되는 것을 특징으로 하는 나노 필터
|
| 13 |
13
제 2 항 또는 제 8 항에 있어서,상기 기본 구조체는 20㎛~500㎛의 기공 크기를 가지도록 형성되는 것을 특징으로 하는 나노 필터
|
| 14 |
14
제 2 항 또는 제 8 항에 있어서,상기 기본 구조체는 3차원 메쉬 형상, 3차원 다공성 폼 형상, 3차원 망상 구조 또는 3차원 네트워크 구조과 같은 3차원 구조체, 2차원 메쉬 형상 또는 2차원 그물망 형상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 나노 필터
|
| 15 |
15
제 2 항에 있어서,상기 표면층은 HDF-S로 형성되는 것을 특징으로 하는 나노 필터
|
