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하기 반응식 1에 나타낸 대로,비스-(p-카복시페닐)디페닐실란 [DAPS], 3,3''-디아미노벤지딘 및 폴리인산을 혼합하고 150~250℃에서 20~30시간 동안 반응시켜 제조되는 것을 특징으로 하는, 하기 화학식 1의 주사슬에 실리콘을 포함하는 폴리벤즈이미다졸의 제조방법
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하기 반응식 2에 나타낸 대로,1) 비스(4-클로로카보닐페닐)디페닐실란 [DCPS]과 3,3''-디아미노벤지딘을 디메틸아세트아미드(DMAc), 디메틸설폭시드(DMSO), N-메틸피롤리돈(NMP), 디메틸포름아미드 (DMF) 및 에테르로 이루어진 군으로부터 선택된 유기용매 하에서 반응시켜 폴리(o-아미노아미드) [PAA]를 제조하는 단계, 및2) 상기 제조된 폴리(o-아미노아미드) [PAA]를 300~400℃에서 50분~100분 동안 고리화 반응시키는 단계를 포함하여 이루어지는, 하기 화학식 1의 주사슬에 실리콘을 포함하는 폴리벤즈이미다졸의 제조방법
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제 2항에 있어서, 상기 비스-(p-카복시페닐)디페닐실란 [DAPS]는1) p-브로모톨루엔, 리튬 및 디클로로디페닐실란을 디메틸아세트아미드(DMAc), 디메틸설폭시드(DMSO), N-메틸피롤리돈(NMP), 디메틸포름아미드 (DMF) 및 에테르로 이루어진 군으로부터 선택된 유기용매 하에서 반응시켜 디-p-톨릴디페닐실란 [DTPS]을 제조하는 단계, 및2) 상기 제조된 디-p-톨릴디페닐실란 [DTPS], 아세트산, 아세트산 무수물, 진한 황산 및 크롬산(CrO3)을 반응시켜 비스-(p-카복시페닐)디페닐실란 [DAPS]을 제조하는 단계를 포함하여 제조되는 것을 특징으로 하는, 하기 화학식 1의 주사슬에 실리콘을 포함하는 폴리벤즈이미다졸의 제조방법
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제 3항에 있어서, 상기 비스(4-클로로카보닐페닐)디페닐실란 [DCPS]는1) p-브로모톨루엔, 리튬 및 디클로로디페닐실란을 디메틸아세트아미드(DMAc), 디메틸설폭시드(DMSO), N-메틸피롤리돈(NMP), 디메틸포름아미드 (DMF) 및 에테르로 이루어진 군으로부터 선택된 유기용매 하에서 반응시켜 디-p-톨릴디페닐실란 [DTPS]을 제조하는 단계,2) 상기 제조된 디-p-톨릴디페닐실란 [DTPS], 아세트산, 아세트산 무수물, 진한 황산 및 크롬산(CrO3)을 반응시켜 비스-(p-카복시페닐)디페닐실란 [DAPS]을 제조하는 단계, 및3) 상기 제조된 비스-(p-카복시페닐)디페닐실란 [DAPS]과 염화티오닐(SOCl2)을 반응시켜 비스(4-클로로카보닐페닐)디페닐실란 [DCPS]을 제조하는 단계를 포함하여 제조되는 것을 특징으로 하는, 하기 화학식 1의 주사슬에 실리콘을 포함하는 폴리벤즈이미다졸의 제조방법
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