| 1 |
1
(가) PDMS 스탬프에 11-머캅토-1-운데칸올 용액을 증착시키는 단계;(나) 상기 증착된 PDMS 스탬프를 금 표면에 접촉시키고 100~300ｇ/㎠의 압력을 가한 후, PDMS 스탬프와 금 표면을 분리하여 금 표면에 패턴을 형성하는 단계;(다) 상기 분리된 금 표면을 1-도데칸티올 용액에 담구어 패턴되지 않은 면을 처리하는 단계;(라) 상기 (다) 단계를 통해 처리된 금 표면을 유기용매 하에서 3-아미노프로필트리에톡시실란(APTES)과 반응시켜 1차 표면 개질하는 단계;(마) 상기 1차 표면 개질된 금 표면을 유기용매 하에서 3-클로로프로판산, 1,3-디시클로헥실카보디이미드(DCC) 및 4-디메틸아미노피리딘(DMAP)과 반응시켜 2차 표면 개질하는 단계; 및(바) 상기 2차 표면 개질된 금 표면을 폴리(에틸렌글리콜)메타크릴레이트(PEGMA), N,N-디메틸아미노피리딘, 2,2-비피리딘 및 염화구리(Ⅰ)와 반응시켜 금 표면의 패턴에 PEGMA를 중합하는 단계;를 포함하는 패턴화된 금 표면의 표면 개질 방법
|
| 2 |
2
제 1항에 있어서, 상기 PDMS 스탬프는 실리콘 엘라스토머 기제와 실리콘 엘라스토머 경화제를 10:0
|
| 3 |
3
제 1항에 있어서, 상기 (가)단계에서 증착과정은 스핀코터 또는 면봉을 이용하여 수행하는 것을 특징으로 하는, 패턴화된 금 표면의 표면 개질 방법
|
| 4 |
4
제 3항에 있어서, 상기 증착과정이 스핀코터를 이용하는 경우, 스핀코터의 초당 회전수는 100~150, 스핀시간은 1~2분 조건으로 수행하는 것을 특징으로 하는,패턴화된 금 표면의 표면 개질 방법
|
| 5 |
5
제 1항에 있어서, 상기 (라)단계 및 (마)단계에서 유기용매는 톨루엔, 디클로로메탄, 디메틸설폭시드(DMSO), 디메틸포름아미드(DMF), 테트라히드로퓨란(THF), 아세톤, 디에틸에테르, 에틸아세테이트 및 헥산으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는, 패턴화된 금 표면의 표면 개질 방법
|
