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전자기파 조사에 의한 표면 개시 중합을 이용한 그라펜옥사이드의 표면 개질 방법

  • 기술번호 : KST2015212467
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 마이크로파 조사에 의한 단량체의 표면 개시 중합을 이용하여 그라펜옥사이드의 표면 개질 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 표면 개질 방법은, 전자기파 조사에 의해 단량체를 그라펜옥사이드에 표면 개시 중합함으로써, 매끄럽게 표면 개질되고 짧은 시간 내에 빠른 반응을 통해 반응시간을 획기적으로 줄일 수 있다. 따라서, 본 발명에 따라 표면 개질되어 제조된 그라펜옥사이드-고분자 나노복합체는 전자재료 또는 센서에 유용하게 사용될 수 있다.
Int. CL C01B 31/02 (2006.01) B01J 19/10 (2006.01) B82B 3/00 (2006.01) B01J 19/12 (2006.01)
CPC C01B 32/23(2013.01) C01B 32/23(2013.01) C01B 32/23(2013.01) C01B 32/23(2013.01) C01B 32/23(2013.01)
출원번호/일자 1020120073826 (2012.07.06)
출원인 한남대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1186365-0000 (2012.09.20)
공개번호/일자 10-2012-0085700 (2012.08.01) 문서열기
공고번호/일자 (20120926) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자 10-2010-0024678 (2010.03.19)
관련 출원번호 1020100024678
심사청구여부/일자 Y (2012.07.06)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한남대학교 산학협력단 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 윤국로 대한민국 대전 유성구
2 박민수 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인이룸 대한민국 서울시 서초구 사평대로 ***, *층(반포동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한남대학교 산학협력단 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application
2012.07.06 수리 (Accepted) 1-1-2012-0541855-16
2 등록결정서
Decision to grant
2012.09.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0549299-52
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.09.13 수리 (Accepted) 4-1-2013-5125337-41
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.03.27 수리 (Accepted) 4-1-2017-5046930-79
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
(가) 그라펜옥사이드를 유기용매에 넣고 초음파분해하여 분산시키는 단계; 및(나) 상기 분산된 그라펜옥사이드 혼탁액에 단량체와 촉매를 가하여 혼합하고, 상기 혼합물을 전자기파 조사 장비에 넣고 80~120℃를 유지하면서 20~50분 동안 전자기파를 조사하여 반응시켜, 그라펜 옥사이드-고분자 나노복합체를 형성하는 단계;를 포함하는 그라펜옥사이드의 표면 개질 방법
2 2
제 1항에 있어서, 상기 (가)단계에서 유기용매는 톨루엔, 디클로로메탄, 디메틸설폭시드(DMSO), 디메틸포름아미드(DMF), 테트라히드로퓨란(THF), 아세톤, 디에틸에테르, 에틸아세테이트 및 헥산으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는, 그라펜옥사이드의 표면 개질 방법
3 3
제 1항에 있어서, 상기 (나)단계에서 고분자는 폴리(염화벤질비닐)[PVBC], 폴리(염화비닐리덴)[PVDC] 또는 폴리(염화비닐)[PVC]인 것을 특징으로 하는, 그라펜옥사이드의 표면 개질 방법
4 4
제 1항에 있어서, 상기 (나)단계에서 촉매는 염화알루미늄(AlCl3) 또는 염화철(FeCl3)인 것을 특징으로 하는, 그라펜옥사이드의 표면 개질 방법
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1 KR1020110105504 KR 대한민국 FAMILY

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