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기공크기가 5 내지 500nm에서 선택되며, 오차범위가 ± 10%인 균일한 기공크기로 이루어진 3차원 접합 나노기공 탄소 분리막과 이의 표면에 바이러스-항체가 흡착된 고강도 탄소 나노 기공막 바이러스 필터
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제 1항에 있어서,상기 3차원 접합 나노기공 탄소 분리막은, 5 내지 500nm의 크기를 갖는 나노입자를 FFF, SF 및 원심분리기를 이용하여 오차범위가 ± 10%인 균일한 크기로 분리 하는 단계, 상기 균일화된 나노입자를 소결하여 3차원적 밀집구조의 나 노입자 주형을 제조하는 단계, 상기 제조된 나노입자 주형에 탄소 전구체를 분산시켜 나노입자 주형/탄소 전구 복합체를 제조하는 단계, 상기 나노입자 주형/탄소 전구 복합체를 비산화 분위기 하에서 600 내지 2000℃로 1 내지 60시간동안 소성하여 나노입자 주형/탄소 복합체를 제조하는 단계 및 상기 나노입자 주형/탄소 복합체를 산 처리하여 나노입자 주형을 제거한 후 건조하여 분리막을 제조하는 단계, 를 포함하여 제조되는 것을 특징으로 하는 고강도 탄소 나노 기공막 바이러스 필터
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제 2항에 있어서,상기 나노입자는 흄 실리카(fumed silica) 또는 콜로이달 실리카(colloidal silica)인 고강도 탄소 나노 기공막 바이러스 필터
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제 2항에 있어서,상기 소결은 유압프레스를 이용하여 100 ~ 500 ℃에서 5 ~ 15 ton의 힘을 가하여 수행하는 고강도 탄소 나노 기공막 바이러스 필터
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제 1항 내지 제 4항에서 선택되는 어느 한 항에 있어서,상기 고강도 탄소 나노 기공막 바이러스 필터는 전기전자 부품, 연료 전지용 전극, 연료 전지용 막-전극, 의료용 스캐폴드, 필터용 다공성막, 코팅재료, 유기발광다이오드(OLED), 플라즈마디스플레이패널(PDP, Plasma Display Panel), 생분해성 고분자 다공성 연속막, 디스플레이, 방독면, 또는 공기중의 바이러스차단필터에 사용되는 다공성막용인 고강도 탄소 나노 기공막 바이러스 필터
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a) 5 내지 500nm의 나노입자를 FFF, SF 및 원심분리기를 이용하여 오차범위가 ± 10%인 균일한 크기로 분리하는 단계,b) 상기 분리된 나노입자를 소결하여 3차원적 밀집구조의 나노입자 주형을 제조하는 단계,c) 상기 제조된 나노입자 주형에 탄소 전구체를 분산시켜 나노입자 주형/탄소 전구 복합체를 제조하는 단계,d) 아르곤 또는 질소의 비산화 분위기 하에 상기 나노입자 주형/탄소 전구 복합체를 600 내지 2000℃로 1 내지 60시간동안 소성하여 나노입자 주형/탄소 복합체를 제조하는 단계,e) 상기 나노입자 주형/탄소 복합체를 산 처리하여 나노입자 주형을 제거한 후 건조하여 분리막을 제조하는 단계 및f) 상기 제조된 분리막을 항체 수용액에 침적시키는 단계,를 포함하는 고강도 탄소 나노 기공막 바이러스 필터의 제조방법
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제 6항에 있어서,상기 a) 단계의 나노입자는 흄 실리카(fumed silica) 또는 콜로이달 실리카(colloidal silica)인 것을 특징으로 하는 고강도 탄소 나노 기공막 바이러스 필터의 제조방법
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제 6항에 있어서,상기 소결은 유압프레스를 이용하여 100 ~ 500 ℃에서 5 ~ 15 ton의 힘을 가하여 수행하는 고강도 탄소 나노 기공막 바이러스 필터의 제조방법
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제 6항에 있어서,상기 c) 단계의 후, 50 내지 150℃에서 반응물을 숙성 및 건조하고, 건조 후 증류수로 미 반응물을 세척하는 과정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 고강도 탄소 나노 기공막 바이러스 필터의 제조방법
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제 6항에 있어서,상기 c) 단계의 탄소 전구체는 폴리비닐클로라이드, 폴리비닐피롤리돈, 폴리비닐알코올, 단당류, 올리고머, 다당류로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 고강도 탄소 나노 기공막 바이러스 필터의 제조방법
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