| 1 |
1
다공성 고분자막의 표면 및 내부 기공에 이온성 고분자가 석출된 구조를 갖는 복합막을 제조하기 위해,이온성 고분자, 이온세기 조절용 염 및 물을 포함하는 코팅액을 제조하는 단계, 상기 코팅액을 다공성 고분자막 상에 가압 코팅 공정으로 코팅하는 단계; 및건조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 복합막의 제조방법
|
| 2 |
2
제1항에 있어서, 상기 다공성 고분자막은 한외여과막 또는 정밀여과막인 것을 특징으로 하는 복합막의 제조방법
|
| 3 |
3
제1항에 있어서, 상기 다공성 고분자막은 폴리비닐리덴 플로라이드, 폴리설폰, 폴리이써설폰, 폴리이미드, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리아미드, 폴리이써이미드, 폴리아크릴로나이트릴, 폴리메틸메타크릴에이트, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 1종의 재질을 포함하는 것을 특징으로 하는 복합막의 제조방법
|
| 4 |
4
제1항에 있어서, 상기 이온성 고분자는 음이온성 또는 양이온성 친수성 고분자인 것을 특징으로 하는 복합막의 제조방법
|
| 5 |
5
제1항에 있어서, 상기 이온성 고분자는 폴리비닐설폰산(polyvinyl sulfonic acid: PVSA), 폴리아크릴산(polyacrylic acid:PAA), 폴리스티렌설폰산(polystyrene sulfonic acid:PSSA), 폴리아크릴산/말레산 공중체(polyacrylic acid-co-maleic acid:PAM), 폴리스티렌 설폰산/말레산 공중합체(polystyrene sulfonic acid-co-maleic acid:PSSA-MA), 폴리아크릴아마이드/아크릴산 공중합체(polyacrylamide-co-acrylic acid:PAAM), 폴리비닐아민(polyvinylamine), 폴리알릴아민(polyallylamine), 폴리에틸렌이민(polyethyleneimine), 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 1종을 포함하는 것을 특징으로 하는 복합막의 제조방법
|
| 6 |
6
제1항에 있어서, 상기 이온세기 조절용 염은 NaCl, Mg(NO3)2·6H2O, MgCl2, MgSO4, CaCl2, 및 LiCl로 이루어진 군에서 선택된 1종을 포함하는 것을 특징으로 하는 복합막의 제조방법
|
| 7 |
7
제1항에 있어서, 상기 코팅액은 이온세기(Ionic Strength, I
|
| 8 |
8
제1항에 있어서, 상기 코팅액의 농도는 50 내지 30,000ppm 인 것을 특징으로 하는 복합막의 제조방법
|
| 9 |
9
제1항에 있어서, 상기 가압 코팅은 2 내지 8 atm 압력하에서 30초 내지 10분 동안 담금 코팅을 수행하는 것을 특징으로 하는 복합막의 제조방법
|
| 10 |
10
제1항에 있어서, 상기 가압 코팅 후 건조는 서로 같거나 다른 코팅액을 이용하여 1 내지 10회 동안 수행하는 것을 특징으로 하는 복합막의 제조방법
|
| 11 |
11
제1항에 있어서, 상기 건조는 20℃ 내지 150℃에서 10분 내지 2시간 동안 수행하는 것을 특징으로 하는 복합막의 제조방법
|
| 12 |
12
제1항에 있어서, 추가로 건조 후 가교제를 포함하는 가교액을 도포 후 건조하는 가교화 반응을 수행하는 것을 특징으로 하는 복합막의 제조방법
|
| 13 |
13
제12항에 있어서, 상기 가교제는 말릭산, 이소프탈로일클로라이드, 디페닐 에테르 디술포닐 클로라이드, 토릴렌 2,4-디이소시아네이트 및 시아누릭 클로라이드로 이루어진 군에서 선택된 1종인 것인 복합막의 제조방법
|
| 14 |
14
제12항에 있어서, 상기 가교화 반응은 가교액의 농도를 0
|
| 15 |
15
제12항에 있어서, 상기 가교액은 용매로 헥산, 디메틸포름아마이드(DMF), 디메틸술폰옥사이드(DMSO), 아세톤, 에테르, 테트라하이드로퓨란, 벤젠 클로로포름, 피리딘, 톨루엔, 헵탄, 메탄올, 에탄올 및 이들의 혼합용매로 이루어진 군에서 선택된 1종을 사용하는 것을 특징으로 하는 복합막의 제조방법
|
| 16 |
16
폴리비닐리덴 플로라이드, 폴리설폰, 폴리이써설폰, 폴리이미드, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리아미드, 폴리이써이미드, 폴리아크릴로나이트릴, 폴리메틸메타크릴에이트, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 1종의 재질을 포함하는 다공성 고분자막의 표면 및 내부 기공에, 폴리비닐설폰산(polyvinyl sulfonic acid: PVSA), 폴리아크릴산(polyacrylic acid:PAA), 폴리스티렌설폰산(polystyrene sulfonic acid:PSSA), 폴리아크릴산/말레산 공중체(polyacrylic acid-co-maleic acid:PAM), 폴리스티렌 설폰산/말레산 공중합체(polystyrene sulfonic acid-co-maleic acid:PSSA-MA), 폴리아크릴아마이드/아크릴산 공중합체(polyacrylamide-co-acrylic acid:PAAM), 폴리비닐아민(polyvinylamine), 폴리알릴아민(polyallylamine), 폴리에틸렌이민(polyethyleneimine), 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 1종의 이온성 고분자가 석출된 구조를 갖는 복합막
|
