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고분자막 상에 폴리비닐설폰산, 폴리아크릴산/말레산 공중합체, 폴리스티렌 설폰산/말레산 공중합체 및 폴리아크릴아마이드/아크릴산 공중합체로 이루어진 군에서 선택된 1종의 음이온성 친수성 고분자층과 폴리에틸렌이민, 폴리비닐아민 및 폴리알릴아민으로 이루어진 군에서 선택된 1종의 양이온성 친수성 고분자층이 교번하여 적어도 2층 이상 적층된 복합막
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제1항에 있어서, 상기 고분자막은폴리설폰, 폴리에테르설폰, 폴리페닐설폰, 폴리아크릴로니트릴, 셀룰로오스아세테이트, 셀룰로오스 트리아세테이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리비닐리덴플로라이드, 폴리아미드, 폴리벤즈이미다졸, 폴리아크릴레이트, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리비닐아세테이트 및 폴리에테르이미드로 이루어진 군에서 선택된 1종의 재질을 포함하는 것인 복합막
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제1항에 있어서, 상기 고분자막은 한외여과막 또는 정밀여과막인 것인 복합막
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삭제
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삭제
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제1항에 있어서, 상기 복합막은추가로 가교된 음이온성 친수성 고분자층 또는 가교된 양이온성 친수성 고분자층을 포함하는 것인 복합막
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7
고분자막 상에 폴리비닐설폰산, 폴리아크릴산/말레산 공중합체, 폴리스티렌 설폰산/말레산 공중합체 및 폴리아크릴아마이드/아크릴산 공중합체로 이루어진 군에서 선택된 1종의 음이온성 친수성 고분자 또는 폴리에틸렌이민, 폴리비닐아민 및 폴리알릴아민으로 이루어진 군에서 선택된 1종의 양이온성 친수성 고분자를 코팅하여 음이온성 친수성 고분자층 또는 양이온성 친수성 고분자층을 형성하는 단계를 교번적으로 적어도 2회 이상 반복 수행하는 제1항의 복합막의 제조방법
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제7항에 있어서, 상기 코팅은 양이온성 친수성 고분자 또는 음이온성 친수성 고분자, 이온세기 조절용 염 및 물을 포함하는 코팅액을 사용하는 것인 제조방법
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9
제7항에 있어서, 고분자막 최상부에 형성된 음이온성 친수성 고분자층 또는 양이온성 친수성 고분자층을 가교제로 처리하여 친수성 고분자를 가교시키는 단계를 더욱 수행하는 것인 제조방법
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제9항에 있어서 상기 가교제는이소프탈로일클로라이드, 디페닐 에테르 디술포닐 클로라이드, 토릴렌 2,4-디이소시아네이트 및 시아누릭 클로라이드로 이루어진 군에서 선택된 1종인 것인 제조방법
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