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고상 파우더를 이용한 증착박막 형성방법 및 장치

  • 기술번호 : KST2015212735
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 고상 파우더를 이용한 증착박막의 형성방법 및 그 장치를 제공하기 위한 것으로, 증착원료인 고상 파우더를 수송 가스로써 에어로졸화한 후 에어로졸화된 미립자를 모재에 충돌시킴에 있어서 모재가 위치한 공간을 포함하는 영역을 간헐적으로 밀폐시킴으로써 간헐적으로 감압을 증폭시켜 에어로졸화된 미립자의 충돌속도를 가속화하여 충돌시킴으로써 상온에서 양질의 박막을 얻어내는 발명이다. 초음속, 박막
Int. CL C23C 24/04 (2011.01) C23C 24/00 (2011.01)
CPC C23C 24/02(2013.01) C23C 24/02(2013.01) C23C 24/02(2013.01)
출원번호/일자 1020070002024 (2007.01.08)
출원인 한국산업기술평가원(관리부서:요업기술원)
등록번호/일자 10-0846148-0000 (2008.07.08)
공개번호/일자 10-2008-0065080 (2008.07.11) 문서열기
공고번호/일자 (20080715) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.01.08)
심사청구항수 19

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국산업기술평가원(관리부서:요업기술원) 대한민국 서울특별시 강남구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 허승헌 대한민국 서울 동작구
2 류도형 대한민국 서울 금천구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 고영회 대한민국 서울특별시 서초구 서초중앙로 **, ****호(서초동, 서초신성미소시티)(성창특허법률사무소)
2 특허법인충정 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로***,*층(역삼동,성보역삼빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국세라믹기술원 경상남도 진주시 소호로 ***
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2007.01.08 수리 (Accepted) 1-1-2007-0017153-19
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2007.12.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0660658-15
3 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2008.02.05 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0093410-43
4 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2008.02.05 수리 (Accepted) 1-1-2008-0093411-99
5 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2008.04.30 수리 (Accepted) 1-1-2008-0312617-13
6 등록결정서
Decision to grant		 2008.05.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0277714-24
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.11.25 수리 (Accepted) 4-1-2008-5187618-45
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
(정정) 외부의 수송가스를 1 nm 이상의 크기를 갖는 원료 분말이 위치한 공간으로 공급하여 원료 분말을 에어로졸화하는 단계; 및 감압 하에서, 모재가 위치한 공간에 에어로졸화된 미립자를 분사시켜 모재에 충돌시킴으로써 박막을 형성하는 단계를 포함하는 고상 파우더를 이용한 증착박막 형성방법에 있어서, 상기 모재가 위치한 공간을 간헐적으로 밀폐시킴에 따라 증폭된 감압을 유도하여 에어로졸화된 미립자의 충돌속도를 증가시키는 것을 특징으로 하는 고상 파우더를 이용한 증착박막 형성방법
2 2
(정정) 제 1 항에 있어서, 모재가 위치한 공간을 간헐적으로 밀폐시킴에 따라 증폭된 감압을 유도하여 에어로졸화된 미립자의 충돌속도를 증가시키는 것과 병행하여, 원료 분말이 위치한 공간을 간헐적으로 밀폐시킴에 따라 외부의 수송가스의 공급을 간헐적으로 차단시켜 수송가스 유입량을 순간적으로 증폭시킴으로써 에어로졸화된 미립자의 충돌속도를 증가시키는 것을 특징으로 하는 고상 파우더를 이용한 증착박막 형성방법
3 3
외부의 수송가스를 1 nm 이상의 크기를 갖는 원료 분말이 위치한 공간으로 공급하여 원료 분말을 에어로졸화하는 단계; 및 감압 하에서, 모재가 위치한 공간에 에어로졸화된 미립자를 분사시켜 모재에 충돌시킴으로써 박막을 형성하는 단계를 포함하는 고상 파우더를 이용한 증착박막 형성방법에 있어서, 원료 분말이 위치한 공간을 간헐적으로 밀폐시킴에 따라 외부의 수송가스의 공급을 간헐적으로 차단시켜 수송가스 유입량을 순간적으로 증폭시킴으로써 에어로졸화된 미립자의 충돌속도를 증가시키는 것을 특징으로 하는 고상 파우더를 이용한 증착박막 형성방법
4 4
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 밀폐 유지 시간은 100 ns 이상인 것을 특징으로 하는 고상 파우더를 이용한 증착박막 형성방법
5 5
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 밀폐의 주기는 110 ns 이상인 것을 특징으로 하는 고상 파우더를 이용한 증착박막 형성방법
6 6
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 모재를 피에조 물질을 이용하여 x, y, z 축으로 이동시키면서 코팅하는 것을 특징으로 하는 고상 파우더를 이용한 증착박막 형성방법
7 7
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 모재의 상면에 마스크를 두고 코팅하여 요철형상을 갖도록 수행하는 것을 특징으로 하는 고상 파우더를 이용한 증착박막 형성방법
8 8
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 모재로서 포토리소그래피에 의한 레지스트 패턴을 갖는 기판을 사용하고 노출된 기판 상에 에어로졸화된 미립자를 코팅한 후 레지스트막을 식각하는 공정을 더 수행하는 것을 특징으로 하는 고상 파우더를 이용한 증착박막 형성방법
9 9
제 1 항에 있어서, 간헐적인 밀폐는 외부의 수송가스의 공급을 간헐적으로 차단하는 방법으로 수행되는 것을 특징으로 하는 고상 파우더를 이용한 증착박막 형성방법
10 10
제 1 항에 있어서, 간헐적인 밀폐는 에어로졸화된 미립자의 분사를 간헐적으로 차단하는 방법으로 수행되는 것을 특징으로 하는 고상 파우더를 이용한 증착박막 형성방법
11 11
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 원료 분말은 속이 비어있는 튜브형 원료, 선형 원료 및 이들의 혼합물 중에서 선택된 1종 이상의 것임을 특징으로 하는 고상 파우더를 이용한 증착박막 형성방법
12 12
제 11 항에 있어서, 속이 비어있는 튜브형 원료가 탄소 나노튜브 또는 TiO2 나노튜브인 것을 특징으로 하는 고상 파우더를 이용한 증착박막 형성방법
13 13
제 11 항에 있어서, 혼합물은 선형 원료를 적어도 1 nM (Nano mol) 이상 포함하는 것을 특징으로 하는 고상 파우더를 이용한 증착박막 형성방법
14 14
외부로부터 수송 라인을 통해 수송가스를 공급하여 증착될 원료 분말을 에어로졸화시켜 공급하는 원료공급부, 및 감압수단이 구비되고 증착될 모재가 위치되며 원료공급부로부터 공급 라인을 통해 공급된 에어로졸화된 미립자를 분사시켜 모재에 충돌시킴으로써 박막을 형성하는 증착부를 포함하는 고상 파우더를 이용한 증착박막 형성장치에 있어서, 공급 라인에 설치되되, 외부 제어에 따라 작동되어 공급 라인을 간헐적으로 개폐시키면서 에어로졸화된 미립자를 공급하기 위한 개폐수단이 구비되는 것임을 특징으로 하는 고상 파우더를 이용한 증착박막 형성장치
15 15
제 14 항에 있어서, 수송 라인에 설치되되, 외부 제어에 따라 작동되어 수송 라인을 간헐적으로 개폐시키면서 수송 가스를 공급하기 위한 개폐수단이 구비되는 것을 특징으로 하는 고상 파우더를 이용한 증착박막 형성장치
16 16
외부로부터 수송 라인을 통해 수송가스를 공급하여 증착될 원료 분말을 에어로졸화시켜 공급하는 원료공급부, 및 감압수단이 구비되고 증착될 모재가 위치되며 원료공급부로부터 공급 라인을 통해 공급된 에어로졸화된 미립자를 분사시켜 모재에 충돌시킴으로써 박막을 형성하는 증착부를 포함하는 고상 파우더를 이용한 증착박막 형성장치에 있어서, 외부 제어에 따라 작동되어 수송 라인을 간헐적으로 개폐시키면서 수송 가스를 공급하기 위한 개폐수단이 구비되는 것을 특징으로 하는 고상 파우더를 이용한 증착박막 형성장치
17 17
제 14 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서, 개폐 수단은 펄스 방식으로 개폐되는 밸브인 것을 특징으로 하는 고상 파우더를 이용한 증착박막 형성장치
18 18
제 14 항에 있어서, 원료공급부 내부에 위치하여 에어로졸화를 촉진시키기 위한 적어도 1개 이상의 송풍수단이 구비되는 것을 특징으로 하는 고상 파우더를 이용한 증착박막 형성장치
19 19
제 14 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서, 원료공급부 내부에 위치하여 에어로졸화된 미세입자만을 거르기 위한 적어도 한 층 이상의 다공성 가로막이 구비되는 것을 특징으로 하는 고상 파우더를 이용한 증착박막 형성장치
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