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나노입자 집적화막 제조 방법 및 그에 의해 제조된 나노입자 집적화막

  • 기술번호 : KST2015212739
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 입자간 및 기판과의 사이에 결합력을 제고하면서 보다 큰 비표면적을 제공할 수 있는 나노 입자 집적화막 형성방법에 관한 것이다. 본 발명은 액상 전구체를 분무하는 단계, 분무된 액적을 가열실로 도입하는 단계, 가열실에서 상기 액적을 가열하여 기상 나노입자를 생성하는 단계, 상기 기상 나노 입자를 증착실로 도입하는 단계 및 상기 도입된 기상 나노 입자를 기판에 증착하여 나노입자막을 형성하는 단계를 포함하는 나노 입자 집적화 방법을 제공한다. 본 발명에 따르면, 나노 입자의 물성과 입자간 및 기판과의 사이에 결합력을 유지하면서 높은 비표면적을 나타내어 기존의 방법에서는 제공할 수 없었던 새로운 형태의 새로운 물성을 갖는 고집적 나노입자막을 제공할 수 있게 된다. 나노입자, 고집적화, NGF, 가지, 비표면적
Int. CL B82Y 40/00 (2011.01) B82B 3/00 (2011.01)
CPC C23C 16/4486(2013.01) C23C 16/4486(2013.01)
출원번호/일자 1020070009287 (2007.01.30)
출원인 한국산업기술평가원(관리부서:요업기술원)
등록번호/일자 10-0888769-0000 (2009.03.09)
공개번호/일자 10-2008-0071272 (2008.08.04) 문서열기
공고번호/일자 (20090317) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항 심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.01.30)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국산업기술평가원(관리부서:요업기술원) 대한민국 서울특별시 강남구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 허승헌 대한민국 서울 동작구
2 류도형 대한민국 서울특별시 금천구
3 조광연 대한민국 서울특별시 구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인충정 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로***,*층(역삼동,성보역삼빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국세라믹기술원 경상남도 진주시 소호로 ***
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2007.01.30 수리 (Accepted) 1-1-2007-0090255-13
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2007.11.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0644995-11
3 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2008.01.29 수리 (Accepted) 1-1-2008-0076250-91
4 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2008.02.29 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0151766-20
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2008.02.29 수리 (Accepted) 1-1-2008-0151761-03
6 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2008.06.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0316490-41
7 심사관의견요청서
Request for Opinion of Examiner		 2008.09.26 수리 (Accepted) 7-8-2008-0032228-79
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.11.25 수리 (Accepted) 4-1-2008-5187618-45
9 등록결정서
Decision to grant		 2009.02.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0072395-90
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번호 청구항
1 1
액상 전구체를 분무하는 단계;분무된 액적을 가열실로 도입하는 단계;가열실에서 상기 액적을 내장된 히터로 가열하여 기상 나노입자를 생성하는 단계;상기 기상 나노 입자를 증착실로 도입하는 단계; 및 상기 도입된 기상 나노 입자를 기판에 증착하여 나노입자막을 형성하는 단계를 포함하는 나노 입자 집적화막 제조방법
2 2
제1항에 있어서,상기 액상 전구체는 2종 이상인 것을 특징으로 하는 나노 입자 집적화막 제조방법
3 3
제1항에 있어서,반응 가스를 도입하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 입자 집적화막 제조방법
4 4
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항의 방법으로 제조된 막으로서, 기판 표면에 형성되는 기층과 상기 기층으로부터 상방으로 연장하는 가지층을 구비하는 나노 입자 집적화막
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.