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상면금속산화물층(100)과 하면금속산화물층(200)의 사이에 한 층 또는 그 이상의 글래스층(300)을 내재한 상태에서, 830∼900℃로 20∼40분간 소결하여 상기 상면금속산화물층(100)과 하면금속산화물층(200)에 상기 글래스층(300)을 함침시킨 것을 특징으로 하는 희생글래스층을 포함하는 무수축 저온동시소성세라믹 쉬트의 제조 방법
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제 1항에 있어서, 상기 상/하면금속산화물층(100,200)은,그 재질이 알루미나 파우더, BaTiO3 파우더, PZT 소재, BMT 소재 중 어느 하나 또는 그들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 희생글래스층을 포함하는 무수축 저온동시소성세라믹 쉬트의 제조 방법
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제 1항에 있어서, 상기 글래스층(300)은,그 두께가 상기 상면금속산화물층(100) 또는 하면금속산화물층(200) 대비 70∼110％의 두께 비율인 것을 특징으로 하는 희생글래스층을 포함하는 무수축 저온동시소성세라믹 쉬트의 제조 방법
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제 1항에 있어서, 상기 글래스층(300)은,그 주성분이 비정질의 붕규산염 유리, 연붕규산염 유리, 알칼리 혹은 알칼리 토금속을 포함한 붕규산염 유리 중 어느 하나 또는 그들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 희생글래스층을 포함하는 무수축 저온동시소성세라믹 쉬트의 제조 방법
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제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 의한 저온동시소성세라믹 쉬트 및; 상기 저온동시소성세라믹 쉬트와 같은 적층구조를 갖는 쉬트를 다수층 적층한 상태에서, 830∼900℃로 20∼40분간 소결하여 상기 상면금속산화물층(100)들과 하면금속산화물층(200)들의 사이에 각각의 글래스층(300)을 함침시킨 모듈; 로 이루어진 것을 특징으로 하는 무수축 저온동시소성세라믹 쉬트를 이용한 전자세라믹스 모듈
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