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탄소계 재질을 사용하는 평면형태의 한 개의 전자빔 방출원이나 또는 이들이 복수 개로 형성되어 있는 어레이형(array type)의 전자빔 방출원 구조로 형성된 X-선관에 있어서,상기 전자빔 방출원이 형성되어 있으며, 상기 전자빔 방출원을 통해 전자빔을 발생시키는 음극부;상기 전자빔이 발생되도록 전자의 방출을 유도하는 게이트 전극부;상기 방출된 전자의 집속을 유도하는 집속 전극부;상기 게이트 전극부와 상기 집속 전극부 사이에 배치되며, 서로 다른 방향으로 상기 전자빔을 집속시키는 전자빔 통과공이 형성되어 있는 적어도 두 개의 사중극 전극이 배치되어 선형 전자빔을 생성하는 사중극 전극부; 및상기 집속 전극부를 통과한 상기 선형 전자빔이 형성되는 양극부를 포함하며,상기 양극부는, 투과형이거나 또는 경사형의 타겟면을 갖고,상기 적어도 두 개의 사중극 전극은, 서로 동일한 형태의 전자빔 통과공이 서로 직교하는 제1 방향과 제2 방향으로 형성되어 있으며, 소정의 간격으로 교차하여 배치되고,상기 사중극 전극부가 상기 게이트 전극부와 상기 집속 전극부 사이에 배치됨으로써 상기 음극부에서 양극부까지의 거리 변화 및 상기 양극부에 인가되는 전압 변화에 대응하여 상기 양극부에 집속되는 전자빔이 최소 면적을 갖는 크기가 되도록 집속되는 선형의 전자빔 형상을 제공할 수 있는 것을 특징으로 하는 선 집속된 전자빔 스포트를 형성하는 X-선관
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청구항 1에 있어서,상기 사중극 전극부의 전자빔 통과공은,키홀(key hole) 형태, 타원 형태, 직사각형 형태, 다각형 형태 및 피넛(peanut) 형태 중 어느 하나로 형성되는 것을 특징으로 하는 선 집속된 전자빔 스포트를 형성하는 X-선관
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청구항 1에 있어서,상기 제1 방향으로 전자빔 통과공이 형성된 사중극 전극이 상기 게이트 전극부에 인접하여 배치되고, 상기 제2 방향으로 전자빔 통과공이 형성된 사중극 전극이 상기 집속 전극부에 인접하여 배치되는 경우, 상기 사중극 전극부를 통과하면서 형성된 선형 전자빔은 상기 제1 방향으로 형성되어지는 것을 특징으로 하는 선 집속된 전자빔 스포트를 형성하는 X-선관
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청구항 1에 있어서,상기 제2 방향으로 전자빔 통과공이 형성된 사중극 전극이 상기 게이트 전극부에 인접하여 배치되고, 상기 제1 방향으로 전자빔 통과공이 형성된 사중극 전극이 상기 집속 전극부에 인접하여 배치되는 경우, 상기 사중극 전극부를 통과하면서 형성된 선형 전자빔은 상기 제2 방향으로 형성되어지는 것을 특징으로 하는 선 집속된 전자빔 스포트를 형성하는 X-선관
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청구항 1에 있어서,상기 전자빔 방출원은,카본나노튜브(carbon nanotube, CNT) 또는 그라펜(graphene) 또는 DLC(diamond like carbon)와 같은 탄소계 재질로 형성되는 것을 특징으로 하는 선 집속된 전자빔 스포트를 형성하는 X-선관
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청구항 1에 있어서,상기 집속 전극부는,상기 사중극 전극부에 인접하여 배치되며, 인접한 사중극 전극부에 인가되는 전압보다 낮은 제1 집속 전압이 인가되는 제1 집속 전극; 및상기 양극부에 인접하여 배치되며, 제1 전압보다 높은 제2 집속 전압이 인가되는 제2 집속 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 선 집속된 전자빔 스포트를 형성하는 X-선관
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청구항 7에 있어서,상기 집속 전극부는,상기 제1 집속 전극의 전자빔 통과공은 원형이나 타원형의 대구경으로 형성되어지며, 상기 제2 집속 전극의 전자빔 통과공은 상기 제1 집속 전극의 전자빔 통과공 보다 작게 형성되는 것을 특징으로 하는 선 집속된 전자빔 스포트를 형성하는 X-선관
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청구항 1에 있어서,상기 제1 방향으로 전자빔 통과공이 형성된 사중극 전극이 상기 게이트 전극부에 인접하여 배치되고, 상기 제2 방향으로 전자빔 통과공이 형성된 사중극 전극이 상기 집속 전극부에 인접하여 배치되는 경우, 상기 집속 전극부를 통과하면서 형성된 선형 전자빔은,상기 제2 방향으로 선 집속되는 것을 특징으로 하는 선 집속된 전자빔 스포트를 형성하는 X-선관
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청구항 1에 있어서,상기 제2 방향으로 전자빔 통과공이 형성된 사중극 전극이 상기 게이트 전극부에 인접하여 배치되고, 상기 제1 방향으로 전자빔 통과공이 형성된 사중극 전극이 상기 집속 전극부에 인접하여 배치되는 경우, 상기 집속 전극부를 통과하면서 형성된 선형 전자빔은,상기 제1 방향으로 선 집속되는 것을 특징으로 하는 선 집속된 전자빔 스포트를 형성하는 X-선관
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청구항 1에 있어서,상기 제1 방향은 횡방향이며, 상기 제2 방향은 종방향인 것을 특징으로 하는 선 집속된 전자빔 스포트를 형성하는 X-선관
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