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대면적처리용 내장형 선형안테나를 구비하는 유도결합플라즈마 처리장치

  • 기술번호 : KST2015214402
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 대면적처리용 내장형 선형안테나를 구비하는 유도결합 플라즈마 처리장치에 대해 개시한다. 본 발명은, 반응챔버와, 유도전력이 인가되며, 상기 반응챔버의 내측 상부에서 수평적으로 서로 일정한 간격을 두고 선형적으로 배치되고. 반응챔버 외부에서는 상기 선형의 선형안테나를 접속시키되 반응챔버 외부로 노출된 안테나 중 서로 인접한 안테나의 일측을 접속시켜 하나의 굴절된 선형안테나가 적어도 하나이상 구비되거나, 일측을 하나로 형성시켜서 RF유도전력부에 접속시키고, 반응챔버 내부의 인접된 선형안테나 사이마다 또 다른 선형안테나를 다수 구비하여 타측을 하나로 형성시켜서 RF유도전력부에 접속된 선형안테나 및 상기 선형안테나로부터 발생되는 전기장과 교차하는 자기장을 발생시켜 전자가 나선 운동되도록 상기 안테나에 인접시켜 배치한 적어도 하나 이상의 자성체를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다. 본 발명에 따르면, 선형안테나와 자성체의 결합하여 반응챔버내의 플라즈마 생성 영역에서 전기장과 자기장을 결합시킴으로써 전자의 나선운동에 의해 이동 경로가 증가하여 전자와 중성자간의 충돌 확률이 높아 RF 전력의 증가에 따른 플라즈마 밀도가 증가하게 되는 반면 전자 온도는 감소하고, 플라즈마 생성의 안정성이 증가하며, 또한 초대면적 플라즈마 공정을 위한 플라즈마 균일도도 10 % 이내에서 유지될 수 있는 장점이 있다. 선형안테나, 플라즈마, 자기장
Int. CL H05H 1/26 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020030028849 (2003.05.07)
출원인 학교법인 성균관대학
등록번호/일자 10-0523851-0000 (2005.10.18)
공개번호/일자 10-2004-0096046 (2004.11.16) 문서열기
공고번호/일자 (20051027) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2003.05.07)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 학교법인 성균관대학 대한민국 서울 종로구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 염근영 대한민국 서울특별시송파구
2 이영준 대한민국 서울특별시동대문구
3 김경남 대한민국 대전광역시서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인정직과특허 대한민국 서울 강남구 선릉로 ***(논현동, 썬라이더빌딩 *층)
2 윤여표 대한민국 서울특별시 서초구 방배로**길 *, ***호(방배동,정암빌딩)(웰컨설팅(분사무소))

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 성균관대학교 산학협력단 경기도 수원시 장안구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2003.05.07 수리 (Accepted) 1-1-2003-0162706-76
2 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.		 2003.05.12 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2003-0168028-68
3 대리인사임신고서
Notification of resignation of agent		 2004.02.05 수리 (Accepted) 1-1-2004-5019673-10
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2004.10.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2004.11.19 수리 (Accepted) 9-1-2004-0071156-40
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2005.04.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2005-0199037-11
7 의견서
Written Opinion		 2005.06.29 수리 (Accepted) 1-1-2005-0349996-43
8 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.		 2005.06.29 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2005-0350017-16
9 등록결정서
Decision to grant		 2005.09.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2005-0487668-22
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번호 청구항
1 1
반응챔버; 유도전력이 인가되며, 상기 반응챔버의 내측 상부에서 수평적으로 서로 일정한 간격을 두고 선형적으로 배치되고
2 2
반응챔버; 유도전력이 인가되며, 상기 반응챔버의 내측 상부에서 수평적으로 서로 일정한 간격을 두고 선형적으로 배치되고
3 3
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 선형안테나의 일단을 접지시켜서 이루어진 것을 특징으로 하는 대면적처리용 내장형 선형안테나를 구비하는 유도결합 플라즈마 처리장치
4 4
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 선형안테나는 쿼츠로 된 안테나 보호관으로 둘러싸여서 이루어진 것을 특징으로 하는 대면적처리용 내장형 선형안테나를 구비하는 유도결합 플라즈마 처리장치
5 5
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 선형안테나는 구리, 스테인레스스틸, 은, 알루미늄 중에서 어느 하나를 이용하는 것을 특징으로 하는 대면적처리용 내장형 선형안테나를 구비하는 유도결합 플라즈마 처리장치
6 6
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 자성체는 상기 선형안테나와 인접하는 선형안테나 사이에 일정거리로 이격되어 수평적으로 다수 배설되는 것을 특징으로 하는 대면적처리용 내장형 선형안테나를 구비하는 유도결합 플라즈마 처리장치
7 7
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 자성체는 상기 선형안테나에 대응하여 선형으로 형성된 것을 특징으로 하는 대면적처리용 내장형 선형안테나를 구비하는 유도결합 플라즈마 처리장치
8 8
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 자성체는 인접하는 자성체와 다른 극성을 갖도록 배치되는 것을 특징으로 하는 대면적처리용 내장형 선형안테나를 구비하는 유도결합 플라즈마 처리장치
9 9
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 자성체는 쿼츠로 된 자성체 보호관으로 둘러싸여서 이루어진 것을 특징으로 하는 대면적처리용 내장형 선형안테나를 구비하는 유도결합 플라즈마 처리장치
10 9
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 자성체는 쿼츠로 된 자성체 보호관으로 둘러싸여서 이루어진 것을 특징으로 하는 대면적처리용 내장형 선형안테나를 구비하는 유도결합 플라즈마 처리장치
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1 US07338577 US 미국 FAMILY
2 US08974630 US 미국 FAMILY
3 US20040221814 US 미국 FAMILY
4 US20070101938 US 미국 FAMILY
5 US20090173445 US 미국 FAMILY

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1 US2004221814 US 미국 DOCDBFAMILY
2 US2007101938 US 미국 DOCDBFAMILY
3 US2009173445 US 미국 DOCDBFAMILY
4 US7338577 US 미국 DOCDBFAMILY
5 US8974630 US 미국 DOCDBFAMILY
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