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양이온성 고분자/히알루론산 마이크로비드 및 금속이온이 킬레이트된 양이온성 고분자/히알루론산 마이크로비드의 제조방법, 및 이에 의해 제조된 양이온성 고분자/히알루론산 마이크로비드 및 금속이온이 킬레이트된 양이온성 고분자/히알루론산 마이크로비드

  • 기술번호 : KST2015214559
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 양이온성 고분자/히알루론산 마이크로비드 및 금속이온이 킬레이트된 양이온성 고분자/히알루론산 마이크로비드의 제조방법, 및 이에 의해 제조된 양이온성 고분자/히알루론산 마이크로비드 및 금속이온이 킬레이트된 양이온성 고분자/히알루론산 마이크로비드에 관한 것이다. 본 발명에 따른 마이크로비드의 제조방법은 제조공정이 간단하고, 마이크로비드 표면의 다공성 조절이 가능하며, 마이크로비드 내부에 히알루론산을 높게 함유시킬 수 있고, 마이크로비드 내부 및 외부 모두에 금속이온을 킬레이트시킬 수 있다. 따라서, 본 발명의 방법으로 제조된 양이온성 고분자/히알루론산 마이크로비드 또는 금속이온으로 킬레이트된 양이온성 고분자/히알루론산 마이크로비드는 조직공학용 지지체, 세포 전달체, 약물 전달체, 및 항암화학방사선요법에서 항암제와 방사성동위원소를 동시에 탑재 가능한 전달체 등에 유용하게 사용될 수 있다.
Int. CL C08B 37/08 (2006.01.01) C08J 3/12 (2006.01.01) A61K 9/16 (2006.01.01)
CPC C08B 37/0072(2013.01) C08B 37/0072(2013.01) C08B 37/0072(2013.01)
출원번호/일자 1020100055556 (2010.06.11)
출원인 한국원자력의학원
등록번호/일자 10-1212258-0000 (2012.12.06)
공개번호/일자 10-2011-0135690 (2011.12.19) 문서열기
공고번호/일자 (20121212) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.06.11)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국원자력의학원 대한민국 서울특별시 노원구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김천호 대한민국 서울특별시 노원구
2 박상준 대한민국 서울특별시 노원구
3 진용재 대한민국 서울특별시 노원구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인이룸 대한민국 서울시 서초구 사평대로 ***, *층(반포동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국원자력의학원 서울특별시 노원구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2010.06.11 수리 (Accepted) 1-1-2010-0377336-04
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2010.06.18 수리 (Accepted) 1-1-2010-0394054-77
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2010.09.08 수리 (Accepted) 1-1-2010-0584644-51
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2011.06.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2011.07.13 수리 (Accepted) 9-1-2011-0057916-46
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.11.22 수리 (Accepted) 4-1-2011-5232866-90
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2012.04.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0241305-15
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2012.06.25 수리 (Accepted) 1-1-2012-0502908-89
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2012.06.25 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0502907-33
10 등록결정서
Decision to grant		 2012.11.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0730788-79
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.04.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-0027536-33
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
1) 히알루론산을 증류수에 가하여 히알루론산 수용액을 제조한 후, 여기에 양이온성 고분자를 넣고 분산한 다음, 약산성 수용액을 가하여 양이온성 고분자/히알루론산 혼합용액을 제조하는 단계;2) 상기 1)단계에서 제조된 양이온성 고분자/히알루론산 혼합용액을, 전기분사장치를 이용하여 0
2 2
1) 히알루론산을 증류수에 가하여 히알루론산 수용액을 제조한 후, 여기에 양이온성 고분자를 넣고 분산한 다음, 약산성 수용액을 가하여 양이온성 고분자/히알루론산 혼합용액을 제조하는 단계;2) 상기 1)단계에서 제조된 양이온성 고분자/히알루론산 혼합용액을, 전기분사장치를 이용하여 0
3 3
삭제
4 4
제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 1)단계에서 약산성 수용액은 아세트산 수용액, 포름산 수용액 및 인산 수용액으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는, 양이온성 고분자/히알루론산 마이크로비드의 제조방법
5 5
제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 1)단계에서 양이온성 고분자/히알루론산의 혼합용액에서 히알루론산의 함량은 혼합용액 총 중량에 대해 2~15 중량%인 것을 특징으로 하는, 양이온성 고분자/히알루론산 마이크로비드의 제조방법
6 6
제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 2)단계에서 전기분사장치는 혼합용액의 유속을 제어하여 공급할 수 있는 주사기 펌프(syringe pump), 니들과 구리 링 사이에 전압을 인가할 수 있는 고압전원(high voltage power supply), 및 마이크로비드의 고형화와 공극을 형성시키기 위한 0℃ 이하의 액체가 담긴 수집기(collector)로 구성된 것을 특징으로 하는, 양이온성 고분자/히알루론산 마이크로비드의 제조방법으로, 상기 0℃ 이하의 액체는 액체질소, 에탄올 및 에테르로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는, 제조방법
7 7
삭제
8 8
제 1항 또는 제 2항의 방법으로 제조된, 0
9 9
1) 히알루론산을 증류수에 가하여 히알루론산 수용액을 제조한 후, 여기에 양이온성 고분자를 넣고 분산한 다음, 금속이온이 함유된 약산성 수용액을 가하여 금속이온이 킬레이트된 양이온성 고분자/히알루론산 혼합용액을 제조하는 단계;2) 상기 1)단계에서 제조된 금속이온이 킬레이트된 양이온성 고분자/히알루론산 혼합용액을, 전기분사장치를 이용하여 0
10 10
1) 히알루론산을 증류수에 가하여 히알루론산 수용액을 제조한 후, 여기에 양이온성 고분자를 넣고 분산한 다음, 금속이온이 함유된 약산성 수용액을 가하여 금속이온이 킬레이트된 양이온성 고분자/히알루론산 혼합용액을 제조하는 단계;2) 상기 1)단계에서 제조된 금속이온이 킬레이트된 양이온성 고분자/히알루론산 혼합용액을, 전기분사장치를 이용하여 0
11 11
삭제
12 12
삭제
13 13
제 9항 또는 제 10항에 있어서, 상기 1)단계에서 약산성 수용액은 아세트산 수용액, 포름산 수용액 및 인산 수용액으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는, 금속이온이 킬레이트된 양이온성 고분자/히알루론산 마이크로비드의 제조방법
14 14
제 9항 또는 제 10항에 있어서, 상기 1)단계에서 금속이온이 킬레이트된 양이온성 고분자/히알루론산의 혼합용액에서 양이온성 고분자의 양이온 작용기에 대한 금속이온의 몰농도가 25% 이하인 것을 특징으로 하는, 금속이온이 킬레이트된 양이온성 고분자/히알루론산 마이크로비드의 제조방법
15 15
제 9항 또는 제 10항에 있어서, 상기 2)단계에서 전기분사장치는 혼합용액의 유속을 제어하여 공급할 수 있는 주사기 펌프, 니들과 구리 링 사이에 전압을 인가할 수 있는 고압전원, 및 마이크로비드의 고형화와 공극을 형성시키기 위한 0℃ 이하의 액체가 담긴 수집기로 구성된 것을 특징으로 하는, 금속이온이 킬레이트된 양이온성 고분자/히알루론산 마이크로비드의 제조방법으로, 상기 0℃ 이하의 액체는 액체질소, 에탄올 및 에테르로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는, 제조방법
16 16
삭제
17 17
제 9항 또는 제 10항의 방법으로 제조된 0
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 한국원자력의학원 원자력연구개발사업 방사선 반응 인자군 분석, 평가 및 조절기술 개발 연구
2 지식경제부 한국원자력의학원 차세대신기술개발사업 허혈성 뇌망막질환 치료용 지지체 개발