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나노 패턴이 형성된 필름 또는 시트를 제조하는 방법에 있어서, 기판 상단에 포토레지스트를 도포하는 1단계;상기 포토레지스트에 노광 및 현상을 진행하여 소정 두께의 잔여층이 남아있는 감광 패턴을 형성하는 2단계;상기 감광 패턴 상에 시드층 증착 및 도금을 진행하는 3단계; 및 용매로 상기 감광 패턴을 제거하여 나노 패턴이 형성된 필름 또는 시트를 제조하는 4단계;를 포함하는 나노패턴이 형성된 필름 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 1단계는,수용성 포토레지스트와 전도성 포토레지스트 중 어느 한 가지 이상의 포토레지스트를 스핀코팅, 분사 또는 증착의 방법을 이용하여 도포하는 단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노패턴이 형성된 필름 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 1단계는,나노 패턴이 형성된 필름 또는 시트를 상기 기판과 쉽게 분리하기 위하여, 상기 포토레지스트를 도포하기 전 희생층으로 사용하는 고분자 물질을 스핀코팅, 분사 또는 증착의 방법을 이용하여 도포하는 단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노패턴이 형성된 필름 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 2단계는,상기 포토레지스트의 두께, 노광의 에너지 또는 현상 시간을 조절하여 상기 감광 패턴의 크기와 높이를 조절하고, 상기 잔여층을 소정의 두께로 남기는 것을 특징으로 하는 나노패턴이 형성된 필름 제조방법
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청구항 4에 있어서, 상기 포토레지스트는 10㎚ ~ 200㎛ 범위의 두께로 도포하여 노광하는 것을 특징으로 하는 나노패턴이 형성된 필름 제조방법
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청구항 4에 있어서, 상기 포토레지스트에 1mJ ~ 1000mJ 에너지량을 조사하여 노광하는 것을 특징으로 하는 나노패턴이 형성된 필름 제조방법
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청구항 4에 있어서, 상기 포토레지스트를 5초 ~ 1시간 현상하는 것을 특징으로 하는 나노패턴이 형성된 필름 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 3단계는,상기 시드층을 단층 또는 다층으로 증착하는 것을 특징으로 하는 나노패턴이 형성된 필름 제조방법
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청구항 8에 있어서,상기 시드층은 절연체, 금속 또는 고분자를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노패턴이 형성된 필름 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 3단계는,전해도금을 진행하여 금속의 필름 또는 시트를 형성하는 단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노패턴이 형성된 필름 제조방법
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청구항 10에 있어서,전해도금을 진행할 때, 전압의 방향, 전류의 On/Off 주기, 시간, 전류량의 조건을 변경하여 금속의 필름 또는 시트를 형성하는 단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노패턴이 형성된 필름 제조방법
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12
청구항 10에 있어서,상기 금속은 Ni, Co, Fe, Pt, Au, Ag, Al, Cr, Cu, Mg, Mn, Mo, Rh, Si, Ta, Ti, W, U, V, Li 및 Zr 으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 원소를 단층, 또는 다층 도금하는 것을 특징으로 하는 나노패턴이 형성된 필름 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 3단계는,무전해도금을 진행하여 필름 또는 시트를 형성하는 단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노패턴이 형성된 필름 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 4단계는,나노 패턴이 형성된 필름 또는 시트가 형성된 기판을 용매를 이용하여 디핑(Dipping) 또는 초음파 sonication으로 분리하는 단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노패턴이 형성된 필름 제조방법
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