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금속 원소에 전자빔과 광에 의하여 분해 가능한 유기물 리간드가 결합하여 이루어진 금속-유기물 전구체 조성물을 스탬프용 기판에 코팅하는 단계; 및상기 금속-유기물 전구체 조성물에 전자빔과 광을 국부적으로 각각 조사한 후 현상액 세정을 통해 마이크로/나노 하이브리드 패턴된 금속 산화 박막 패턴을 형성하는 단계;를 포함하는 스탬프 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 금속 산화 박막 패턴은 수십 나노미터 크기의 패턴과 수백 나노미터 크기의 패턴을 포함하며, 상기 수십 나노미터 크기의 패턴은 전자빔을 조사하여 형성하고 상기 수백 나노미터 크기의 패턴은 자외선, KrF 또는 ArF 중 적어도 어느 하나를 조사하여 형성하는 것을 특징으로 하는 스탬프 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 금속 산화 박막 패턴은 선형, 원형, 타원형, 사각형, 오각형, 육각형, 다각형, 또는 라멜라(lamellar)의 형태를 가진 것을 특징으로 하는 스탬프 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 금속 산화 박막 패턴을 형성하는 단계 이후에상기 금속 산화 박막 패턴의 모양, 선폭 및 높이 중 적어도 어느 하나를 변화시키도록 상기 금속 산화 박막 패턴을 가열하거나 마이크로웨이브(microwave), X-선, 감마선 또는 자외선을 조사하거나 플라즈마 처리하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 스탬프 제조 방법
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제4항에 있어서, 상기 금속 산화 박막 패턴 가열시 가열 온도는 30℃ 내지 800℃이며, 가열 시간은 5초 내지 5시간인 것을 특징으로 하는 스탬프 제조 방법
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제4항에 있어서, 상기 금속 산화 박막 패턴에 자외선 조사시 조사 시간은 1초 내지 5시간인 것을 특징으로 하는 스탬프 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 금속-유기물 전구체를 구성하는 금속 원소는 리튬(Li), 베릴륨(Be), 붕소(B), 나트륨(Na), 마그네슘(Mg), 알루미늄(Al), 규소(Si), 인듐(In), 황(S), 칼륨(K), 칼슘(Ca), 스칸듐(Sc), 타이타늄(Ti), 바나듐(V), 크로뮴(Cr), 망간(Mn), 철(Fe), 코발트(Co), 니켈(Ni), 구리(Cu), 아연(Zn), 갈륨(Ga), 저마늄(Ge), 비소(As), 셀레늄(Se), 루비듐(Rb), 스트론튬(Sr), 이트륨(Y), 지르코늄(Zr), 나이오븀(Nb), 몰리브덴(Mo), 루테늄(Ru), 로듐(Rh), 인듐(In), 주석(Sn), 텔루륨(Te), 안티몬(Sb), 바륨(Ba), 란탄(La), 세륨(Ce), 프라세오디뮴(Pr), 네오디뮴(Nd), 프로메튬(Pm), 가돌리늄(Gd), 하프늄(Hf), 탄탈륨(Ta), 텅스텐(W), 이리듐(Ir), 납(Pb), 비스무스(Bi), 폴로늄(Po) 및 우라늄(U)으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 스탬프 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 금속-유기물 전구체를 구성하는 유기물 리간드는 에틸헥사노에이트(ethylhexanoate), 아세틸아세토네이트(acetylacetonate), 디알킬디티오카바메이트(dialkyldithiocarbamates), 카르복실산(carboxylic acids), 카르복실레이트(carboxylates), 피리딘(pyridine), 디아민(diamines), 아르신(arsines), 디아르신(diarsines), 포스핀(phosphines), 디포스핀(diphosphines), 부톡사이드(butoxide), 이소프로팍사이드(isopropoxide), 에톡사이드(ethoxide), 클로라이드(chloride), 아세테이트(acetate), 카르보닐(carbonyl), 카르보네이트(carbonate), 하이드록사이드(hydroxide), 아레네스(arenas), 베타-디케토네이트(beta-diketonate), 2-니트로벤잘디하이드(2-nitrobenzaldehyde), 아세테이트 디하이드레이트(acetate dihydrate) 및 이들의 혼합물을 포함하는 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 스탬프 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 금속-유기물 전구체 조성물은 용매로써 헥산, 4-메틸-2-펜타논(4-methyl-2-pentanone), 케톤, 메틸 이소부틸 케톤, 메틸 에틸 케톤, 물, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올, 부탄올, 펜탄올, 헥산올, 디메틸설폭사이드(dimethyl sulfoxide, DMSO), 디메틸포름아마이드(dimethylformamide, DMF), N-메틸피롤리돈, 아세톤, 아세토니트릴, 테트라하이드로퓨란(tetrahydrofuran, THF), 테칸, 노난, 옥탄, 헵탄, 펜탄 및 2-메톡시에탄올(e-methoxyethanol)로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 스탬프 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 현상액은 헥산, 4-메틸-2-펜타논(4-methyl-2-pentanone), 케톤, 메틸 이소부틸 케톤, 메틸 에틸 케톤, 물, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올, 부탄올, 펜탄올, 헥산올, 디메틸설폭사이드(dimethyl sulfoxide, DMSO), 디메틸포름아마이드(dimethylformamide, DMF), N-메틸피롤리돈, 아세톤, 아세토니트릴, 테트라하이드로퓨란(tetrahydrofuran, THF), 테칸, 노난, 옥탄, 헵탄, 펜탄 및 2-메톡시에탄올(e-methoxyethanol)로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 스탬프 제조 방법
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