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태양 전지의 그리드 전극을 전해 도금으로 형성하는 방법에 있어서,에너지를 전달했을 때, 정공-전자쌍이 생성되는 태양 전지 기판을 도금 용액에 담그는 제1단계;상기 태양 전지가 전력을 생성하기 위해 필요한 에너지 전달 조건을 변경하여 에너지를 전달하는 제2단계; 및상기 태양 전지의 자가 생성 전력으로 상기 태양 전지 기판 상의 전극 영역에 상기 태양 전지의 그리드 전극 형성을 위한 도금을 진행하는 제3단계;를 포함하여 이루어지되,상기 전극 영역은,상기 태양 전지 기판 상에 절연체층을 형성한 후, 패터닝하여 형성되는 것을 특징으로 하는 태양 전지의 그리드 전극을 전해 도금으로 형성하는 방법
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제 1항에 있어서, 상기 제2단계의 에너지 전달 조건은,에너지 전달 주파수, 에너지 세기 및 에너지 전달 시간 중 어느 하나 또는 둘 이상을 조합하여 변경하는 것을 특징으로 하는 태양 전지의 그리드 전극을 전해 도금으로 형성하는 방법
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제 2항에 있어서, 상기 에너지 전달 주파수 변경은,상기 에너지의 On/Off 주기를 조절하여 상기 태양 전지에서 펄스(Pulse) 형태의 전력이 자가 생산되도록 하는 것을 특징으로 하는 태양 전지의 그리드 전극을 전해 도금으로 형성하는 방법
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삭제
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제 1항에 있어서, 상기 전극 영역 형성을 위한 절연체층의 패터닝은,전자빔 리소그래피, 레이저 패터닝, 스크린 프린팅, 포토리소그래피, 임프린트 리소그래피, 나노입자 리소그래피 및 블록코폴리머 중에 어느 하나의 방법에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 태양 전지의 그리드 전극을 전해 도금으로 형성하는 방법
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제 1항에 있어서, 상기 전극 영역은,상기 태양 전지의 그리드 전극 너비보다 더 작게 형성하는 것을 특징으로 하는 태양 전지의 그리드 전극을 전해 도금으로 형성하는 방법
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제 1항에 있어서, 상기 전극 영역은,절연체층의 패터닝시 패턴의 깊이가 태양 전지의 그리드 전극 높이보다 더 크게 형성되는 것을 특징으로 하는 태양 전지의 그리드 전극을 전해 도금으로 형성하는 방법
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제 1항에 있어서, 상기 태양 전지 기판 상의 전극 영역에는,상기 기판과 태양 전지의 그리드 전극 간에 저항접촉(Ohmic Contact)을 위한 전도층을 형성하는 것을 특징으로 하는 태양 전지의 그리드 전극을 전해 도금으로 형성하는 방법
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제 8항에 있어서, 상기 전도층은,패터닝 공정과 금속층 증착 후 리프트 오프 공정에 의해 형성되거나, 금속층 증착 후 패터닝 공정 및 식각 공정을 통해 형성되거나, 상기 기판과 저항접촉이 가능한 금속의 도금 공정에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 태양 전지의 그리드 전극을 전해 도금으로 형성하는 방법
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제 1항에 있어서, 상기 제3단계는,양극 쪽 전극에 태양 전지의 그리드 전극에 도금될 물질로 이루어진 희생 전극을 부착하여 도금을 진행하는 것을 특징으로 하는 태양 전지의 그리드 전극을 전해 도금으로 형성하는 방법
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제 1항에 있어서, 상기 태양 전지의 그리드 전극 형성을 위한 도금은,Ni, Co, Fe, Pt, Au, Ag, Al, Cr, Cu, Mg, Mn, Mo, Rh, Si, Ta, Ti, W, U, V, Li 및 Zr으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 금속을 사용하여, 단층 또는 다층으로 형성되는 것을 특징으로 하는 태양 전지의 그리드 전극을 전해 도금으로 형성하는 방법
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제 1항에 있어서, 상기 제3단계는,상기 태양 전지의 자가 생성 전류를 측정하고 전류치에 따라 도금 용액의 농도를 조절하여 전류를 일정 수준으로 유지 또는 제어하는 것을 특징으로 하는 태양 전지의 그리드 전극을 전해 도금으로 형성하는 방법
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제 1항에 있어서, 상기 제3단계는,상기 태양 전지의 자가 생성 전류에 따른 도금 용액의 온도를 측정하여 도금 용액의 온도를 일정 수준으로 유지 또는 제어하는 것을 특징으로 하는 태양 전지의 그리드 전극을 도금으로 형성하는 방법
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제 1항에 있어서, 상기 태양 전지 기판은,PN 단일 접합 또는 PN 다중 접합이 형성된 반도체 기판이며, 상기 반도체 기판 배면부에는 양극 전극을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 태양 전지의 그리드 전극을 도금으로 형성하는 방법
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제 1항에 있어서, 상기 제3단계 이후에,상기 태양 전지의 그리드 전극의 열처리 공정 또는 이온 주입 공정(ion implantation)이 더 수행되는 것을 특징으로 하는 태양 전지의 그리드 전극을 도금으로 형성하는 방법
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