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나노패턴을 가지는 금속 필름을 제조하는 방법에 있어서, 기판 상층에 희생층을 형성하는 제1단계;상기 희생층 상층에 도금을 위한 시드층을 형성하는 제2단계;전기 도금을 통하여 상기 시드층 상에 금속 필름을 형성하는 제3단계;상기 금속 필름 상층에 감광성 수지층을 형성한 후 노광 패터닝 및 현상 공정을 거쳐 상기 금속 필름 상층에 감광성 수지로 이루어진 나노패턴을 형성하는 제4단계; 및상기 희생층을 제거하여 상기 기판으로부터 나노패턴이 형성된 금속 필름을 분리시키는 제5단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노패턴을 가지는 금속 필름의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 제3단계에서 형성되는 금속 필름의 두께를 10~10000㎛로 하여 금속 필름의 유연성을 조절하는 것을 특징으로 하는 나노패턴을 가지는 금속 필름의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 제4단계 이후에,감광성 수지로 이루어진 나노패턴이 형성된 금속 필름 상층에 금속층을 증착하고, 상기 감광성 수지층을 제거하여 금속으로 이루어진 나노패턴이 형성된 금속 필름을 제조하는 것을 특징으로 하는 나노패턴을 가지는 금속 필름의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 제4단계 이후에,감광성 수지로 이루어진 나노패턴이 형성된 금속 필름 상층에 전기 도금을 통하여 금속층을 형성하고, 상기 감광성 수지층을 제거하여 금속으로 이루어진 나노패턴이 형성된 금속 필름을 제조하는 것을 특징으로 하는 나노패턴을 가지는 금속 필름의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 제4단계 이후에,감광성 수지로 이루어진 나노패턴이 형성된 금속 필름에 건식 식각 공정을 실시하고, 상기 감광성 수지층을 제거하여 금속으로 이루어진 나노패턴이 형성된 금속 필름을 제조하는 것을 특징으로 하는 나노패턴을 가지는 금속 필름의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 제5단계의 희생층의 제거는,용매를 이용하여 상기 희생층을 용해시킴으로써 제거하는 것을 특징으로 하는 나노패턴을 가지는 금속 필름의 제조방법
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제 6항에 있어서, 상기 용매는, 물(H2O), KOH, NaOH, NH4OH, H2SO4, HF, HCl, H3PO4, HNO3, CH3COOH 및 H2O2 중 하나 이상 또는 EKC800(N-Methylpyrrolidone), 현상액(TMAH 계열 용매), Acetone, ZDMAC(N,N-Dimethylacetamide)와 같은 유기용매 중 어느 하나를 포함하며, 디핑(Dipping) 또는 초음파 sonication을 이용하는 것을 특징으로 하는 나노패턴을 가지는 금속 필름의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 제1단계의 희생층은 레진 또는 금속으로 이루어진 것을 특징으로 하는 나노패턴을 가지는 금속 필름의 제조방법
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제 8항에 있어서, 상기 희생층을 레진으로 형성한 경우, PMMA(Poly Methyl Meta Acrylate), PVA(Polyvinyl Alcohol), PVC(Polyvinyl Chloride), Neoprene, PBMA(Poly Benzyl Meta Acrylate), PolyStylene, SOG(Spin On Glass), PDMS(Polydimethylsiloxane), PVFM(Poly Vinyl formal), Parylene, Polyester, Epoxy, Urethane, Thiophene Polymer, PPV(Polyphenylene Vinylene), Polyether 및 Polyimide 계열의 고분자 재료 중 어느 하나의 재료를 이용하는 것을 특징으로 하는 나노패턴을 가지는 금속 필름의 제조방법
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제 8항에 있어서, 상기 희생층을 금속으로 형성한 경우, Ni, Co, Fe, Pt, Au, Ag, Al, Cr, Cu, Mg, Mn, Mo, Rh, Si, Ta, Ti, W, U, V, Li 및 Zr으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 재료를 사용하는 것을 특징으로 하는 나노패턴을 가지는 금속 필름의 제조방법
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