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나노패턴이 형성된 금속 필름을 제조하는 방법에 있어서, 기판 상층에 레진층을 형성하는 제1단계;상기 레진층 상에 임프린트용 스탬프를 위치시켜 임프린팅 공정 및 경화 공정에 의해 상기 레진층에 나노패턴을 형성하는 제2단계;상기 나노패턴이 형성된 레진층 상에 시드층을 증착하는 제3단계;도금 공정에 의해 상기 시드층 상에 금속층을 형성하는 제4단계; 및상기 레진층을 제거하여 상기 기판으로부터 시드층 및 금속층을 분리하여 나노패턴이 형성된 금속 필름을 제조하는 제5단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노임프린트 리소그래피와 도금 공정을 이용한 나노패턴이 형성된 금속 필름 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 제1단계의 레진층은,PMMA(Poly Methyl Meta Acrylate), PVA(Polyvinyl Alcohol), PVC(Polyvinyl Chloride), Neoprene, PBMA(Poly Benzyl Meta Acrylate), PolyStylene, SOG(Spin On Glass), PDMS(Polydimethylsiloxane), PVFM(Poly Vinyl formal), Parylene, Polyester, Epoxy, Urethane, Thiophene Polymer, PPV(Polyphenylene Vinylene) 및 Polyether 중 어느 하나의 재료로 이루어진 것을 특징으로 하는 나노임프린트 리소그래피와 도금 공정을 이용한 나노패턴이 형성된 금속 필름 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 기판으로부터 시드층 및 금속층을 분리하기 위하여 상기 임프린팅 공정 시 잔류막(Residual layer)을 형성하는 것을 특징으로 하는 나노임프린트 리소그래피와 도금 공정을 이용한 나노패턴이 형성된 금속 필름 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 제2단계의 경화 공정은 가열 및 자외선 조사 중 어느 하나 또는 혼용하여 이루어진 것을 특징으로 하는 나노임프린트 리소그래피와 도금 공정을 이용한 나노패턴이 형성된 금속 필름 제조방법
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제 4항에 있어서, 상기 자외선에 의한 경화 공정은, 자외선 도즈(Dose)가 20mJ/cm2~15000mJ/cm2 인 것을 특징으로 하는 나노임프린트 리소그래피와 도금 공정을 이용한 나노패턴이 형성된 금속 필름 제조방법
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제 4항에 있어서, 상기 가열에 의한 경화 공정은 30℃ ~ 300℃에서 1초 ~ 5시간 동안 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노임프린트 리소그래피와 도금 공정을 이용한 나노패턴이 형성된 금속 필름 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 시드층은 단층 또는 다층으로 증착하는 것을 특징으로 하는 나노임프린트 리소그래피와 도금 공정을 이용한 나노패턴이 형성된 금속 필름 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 시드층은 절연체, 금속 및 고분자 중 어느 하나를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노임프린트 리소그래피와 도금 공정을 이용한 나노패턴이 형성된 금속 필름 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 제4단계의 도금 공정은,전해 도금을 진행하여 금속층을 형성하는 것을 특징으로 하는 나노임프린트 리소그래피와 도금 공정을 이용한 나노패턴이 형성된 금속 필름 제조방법
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제 9항에 있어서, 상기 전해 도금을 진행할 때, 전압의 방향, 전류의 On/Off 주기, 시간 및 전류량 중의 어느 하나 또는 둘 이상의 조건을 변경하면서 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노임프린트 리소그래피와 도금 공정을 이용한 나노패턴이 형성된 금속 필름 제조방법
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제 9항에 있어서, 상기 전해 도금은, Ni, Co, Fe, Pt, Au, Ag, Al, Cr, Cu, Mg, Mn, Mo, Rh, Si, Ta, Ti, W, U, V, Li 및 Zr으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 금속층을 형성하며, 상기 금속층은 단층 또는 다층으로 형성되는 것을 특징으로 하는 나노임프린트 리소그래피와 도금 공정을 이용한 나노패턴이 형성된 금속 필름 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 제4단계의 도금 공정은,무전해 도금을 진행하여 금속층을 형성하는 것을 특징으로 하는 나노임프린트 리소그래피와 도금 공정을 이용한 나노패턴이 형성된 금속 필름 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 제5단계의 레진층의 제거는,용매를 이용하여 상기 레진층을 용해시킴으로써 제거하는 것을 특징으로 하는 나노임프린트 리소그래피와 도금 공정을 이용한 나노패턴이 형성된 금속 필름 제조방법
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제 13항에 있어서, 상기 용매는, 물(H2O), acetone, isopropyl alcohol, KOH, NaOH, NH4OH, H2SO4, HF, HCl, H3PO4, HNO3, CH3COOH 및 H2O2 중 하나 이상을 포함하며, 디핑(Dipping) 또는 초음파 sonication을 이용하는 것을 특징으로 하는 나노임프린트 리소그래피와 도금 공정을 이용한 나노패턴이 형성된 금속 필름 제조방법
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