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발광다이오드

  • 기술번호 : KST2015217188
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 발광면적이 상대적으로 넓은 우수한 고휘도 발광다이오드에 관한 것이다. 본 발명에 따른 발광 다이오드는 상면과 하면을 관통하는 제1 n-홀과 제1 p-홀이 형성되어 있는 기판과, 기판 상에 형성되며 제1 n-홀과 연결된 제2 n-홀과 제1 p-홀과 연결되고 상면과 하면을 관통하는 제2 p-홀이 형성되어 있는 n형 클래드층을 구비한다. 그리고 n형 클래드층 상에 형성되며 제2 p-홀과 연결되고 상면과 하면을 관통하는 제3 p-홀이 형성되어 있는 활성층과, 활성층 상에 형성되며 제3 p-홀과 연결된 제4 p-홀이 형성되어 있는 p형 클래드층을 구비한다. 그리고 제1 n-홀과 제2 n-홀의 내부에 형성되며 n형 클래드층과 오믹 접합되는 n-오믹 전도막과, 제1 p-홀, 제2 p-홀, 제3 p-홀 및 제4 p-홀의 내부에 형성되며 p형 클래드층과 오믹 접합되는 p-오믹 전도막을 구비한다.
Int. CL H01L 33/20 (2014.01)
CPC H01L 33/20(2013.01) H01L 33/20(2013.01)
출원번호/일자 1020090007081 (2009.01.29)
출원인 (재)한국나노기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2010-0087985 (2010.08.06) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.01.29)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 (재)한국나노기술원 대한민국 경기도 수원시 영통구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 강필근 대한민국 경기도 수원시 영통구
2 송근만 대한민국 경기도 수원시 영통구
3 이근우 대한민국 경기도 수원시 영통구
4 김민호 대한민국 경기도 수원시 영통구
5 박대영 대한민국 경기도 수원시 영통구
6 전영진 대한민국 경기도 수원시 영통구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 송경근 대한민국 서울특별시 서초구 서초대로**길 ** (방배동) 기산빌딩 *층(엠앤케이홀딩스주식회사)
2 박보경 대한민국 서울특별시 서초구 서초중앙로 **, *층(서초동, 준영빌딩)(특허법인필앤온지)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.01.29 수리 (Accepted) 1-1-2009-0057936-47
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2010.09.02 수리 (Accepted) 1-1-2010-0571591-25
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2010.09.02 수리 (Accepted) 1-1-2010-0570544-11
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2010.09.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2010.10.19 수리 (Accepted) 9-1-2010-0065611-24
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2010.10.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0484402-43
7 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2011.01.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0012150-85
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.07.12 수리 (Accepted) 4-1-2012-5149774-07
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.06.30 수리 (Accepted) 4-1-2015-5087922-39
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
상면과 하면을 관통하는 제1 n-홀(hole)이 형성되어 있는 기판; 상기 기판 상에 형성되며, 상기 제1 n-홀과 연결된 제2 n-홀이 형성되어 있는 n형 클래드층; 상기 n형 클래드층 상에 형성된 활성층; 상기 활성층 상에 형성된 p형 클래드층; 및 상기 제1 n-홀과 상기 제2 n-홀의 내부에 형성되며, 상기 n형 클래드층과 오믹 접합되는 n-오믹 전도막;을 포함하는 것을 특징으로 하는 발광 다이오드
2 2
상면과 하면을 관통하는 제1 p-홀이 형성되어 있는 기판; 상기 기판 상에 형성되며, 상기 제1 p-홀과 연결되고 상면과 하면을 관통하는 제2 p-홀이 형성되어 있는 n형 클래드층; 상기 n형 클래드층 상에 형성되며, 상기 제2 p-홀과 연결되고 상면과 하면을 관통하는 제3 p-홀이 형성되어 있는 활성층; 상기 활성층 상에 형성되며, 상기 제3 p-홀과 연결된 제4 p-홀이 형성되어 있는 p형 클래드층; 및 상기 제1 p-홀, 제2 p-홀, 제3 p-홀 및 제4 p-홀의 내부에 형성되며, 상기 p형 클래드층과 오믹 접합되는 p-오믹 전도막;을 포함하는 것을 특징으로 하는 발광 다이오드
3 3
상면과 하면을 관통하는 제1 n-홀과 제1 p-홀이 형성되어 있는 기판; 상기 기판 상에 형성되며, 상기 제1 n-홀과 연결된 제2 n-홀과 상기 제1 p-홀과 연결되고 상면과 하면을 관통하는 제2 p-홀이 형성되어 있는 n형 클래드층; 상기 n형 클래드층 상에 형성되며, 상기 제2 p-홀과 연결되고 상면과 하면을 관통하는 제3 p-홀이 형성되어 있는 활성층; 상기 활성층 상에 형성되며, 상기 제3 p-홀과 연결된 제4 p-홀이 형성되어 있는 p형 클래드층; 상기 제1 n-홀과 상기 제2 n-홀의 내부에 형성되며, 상기 n형 클래드층과 오믹 접합되는 n-오믹 전도막; 및 상기 제1 p-홀, 제2 p-홀, 제3 p-홀 및 제4 p-홀의 내부에 형성되며, 상기 p형 클래드층과 오믹 접합되는 p-오믹 전도막;을 포함하는 것을 특징으로 하는 발광 다이오드
4 4
제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 제1 p-홀, 제2 p-홀, 제3 p-홀 및 제4 p-홀의 내부에 형성되며, 상기 p-오믹 전도막과 상기 n형 클래드층 사이 및 상기 p-오믹 전도막과 상기 활성층 사이에 배치되는 절연막을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 발광 다이오드
5 5
제4항에 있어서, 상기 절연막은 Si3N4, SiO2, SiO 및 TiO2 중에서 선택된 1종 이상으로 이루어진 것을 특징으로 하는 발광 다이오드
6 6
제3항에 있어서, 상기 기판과 n형 클래드층 사이에 형성되며, 상기 제1 n-홀과 상기 제2 n-홀과 각각 연결되도록 상면과 하면을 관통하는 연결 n-홀과 상기 제1 p-홀과 상기 제2 p-홀과 각각 연결되도록 상면과 하면을 관통하는 연결 p-홀이 형성되어 있는 버퍼층을 더 구비하고, 상기 n-오믹 전도막은 상기 제1 n-홀, 연결 n-홀 및 제2 n-홀의 내부에 일체로 형성된 전도성 물질로 이루어지며, 상기 p-오믹 전도막은 상기 제1 p-홀, 연결 p-홀, 제2 p-홀, 제3 p-홀 및 제4 p-홀의 내부에 일체로 형성된 전도성 물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 발광 다이오드
7 7
제1항 또는 제3항에 있어서, 상기 n-오믹 전도막은 Ti, Cr, Al, Pd, V 및 W 중에서 선택된 1종 이상으로 이루어진 것을 특징으로 하는 발광 다이오드
8 8
제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 p-오믹 전도막은 Ni, Ag, Cr, Rh 및 Ru 중에서 선택된 1종 이상으로 이루어진 것을 특징으로 하는 발광 다이오드
9 9
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 n형 클래드층, 활성층 및 p형 클래드층은 GaN을 포함한 반도체 물질, GaAs를 포함한 반도체 물질, InP를 포함한 반도체 물질 중 어느 하나로 이루어진 것을 특징으로 하는 발광 다이오드
10 10
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 p형 클래드층 상에 형성된 투명 전도막을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 발광 다이오드
11 11
제10항에 있어서, 상기 투명 전도막은 투명 전도성 산화물(transparent conductive oxide, TCO)로 이루어진 것을 특징으로 하는 발광 다이오드
12 12
제10항에 있어서, 상기 투명 전도막 상에 절연물질로 이루어진 보호층을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 발광 다이오드
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 경기도 (재)나노소자특화팹센터 전략산업기술개발 일반조명용 수직형 구조의 LED 기술 개발