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기공형성용 템플레이트로 유용한 사이클로덱스트린유도체와 이를 이용하여 제조된 저유전체

  • 기술번호 : KST2015218526
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 기공형성용 템플레이트로 유용한 사이클로덱스트린 유도체와, 상기한 사이클로덱스트린 유도체 자체를 졸-젤 반응하여 제조한 것으로 기계적 물성이 매우 우수하고 균일하게 분포된 나노기공을 함유한 저유전 매트릭스와, 상기한 사이클로덱스트린 유도체를 기공형성제로 사용하고 여기에 통상의 유기 혹은 무기 실리케이트 전구체를 박막화하여 제조한 것으로 균일하게 분포된 나노기공을 함유하고 있고 51% 정도의 높은 공극률과 1.6 정도의 낮은 유전율을 갖는 초저유전막에 관한 것이다. 초저유전 물질, 기공형성용 사이클로덱스트린, 실리케이트 저유전 매트릭스, 공극률, 유전율, 졸-젤 반응
Int. CL H01B 3/30 (2011.01)
CPC
출원번호/일자 1020040010827 (2004.02.18)
출원인 학교법인 서강대학교
등록번호/일자 10-0589123-0000 (2006.06.05)
공개번호/일자 10-2005-0082383 (2005.08.23) 문서열기
공고번호/일자 (20060614) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2004.02.18)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 학교법인 서강대학교 대한민국 서울특별시 마포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이희우 대한민국 서울특별시서초구
2 윤도영 대한민국 서울특별시관악구
3 차국헌 대한민국 서울특별시서초구
4 이진규 대한민국 서울특별시관악구
5 문봉진 대한민국 경기도고양시덕양구
6 민성규 대한민국 서울특별시광진구
7 박세정 대한민국 서울특별시관악구
8 신재진 대한민국 서울특별시노원구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이학수 대한민국 부산광역시 연제구 법원로 **, ****호(이학수특허법률사무소)
2 백남훈 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, KTB네트워크빌딩**층 한라국제특허법률사무소 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 이희우 서울특별시 마포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2004.02.18 수리 (Accepted) 1-1-2004-0067580-93
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2005.05.02 수리 (Accepted) 4-1-2005-5043440-79
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2005.06.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2005.07.15 수리 (Accepted) 9-1-2005-0044751-19
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2005.10.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2005-0542717-07
6 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period
2005.12.26 수리 (Accepted) 1-1-2005-0762711-81
7 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period
2006.01.31 수리 (Accepted) 1-1-2006-0074154-90
8 의견서
Written Opinion
2006.02.24 수리 (Accepted) 1-1-2006-0138207-01
9 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2006.02.24 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2006-0138236-14
10 등록결정서
Decision to grant
2006.05.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0300234-82
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번호 청구항
1 1
다음 화학식 1로 표시되는 바와 같이 트리알콕시실릴프로필 말단기가 결합되어 있는 사이클로덱스트린 유도체의 나노입자인 것임을 특징으로 하는 기공형성용 템플레이트 :[화학식 1] 상기 화학식 1에서, R은 서로 같거나 다른 것으로서 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타내고; n은 6 ∼ 12의 정수를 나타낸다
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 유도체가 헥사키스{2,3,6-트리-O-(3-트리메톡시실릴프로필)-α-사이클로덱스트린}, 헥사키스{2,3,6-트리-O-(3-트리에톡시실릴프로필)-α-사이클로덱스트린}, 헵타키스{2,3,6-트리-O-(3-트리메톡시실릴프로필)-β-사이클로덱스트린}, 헵타키스{2,3,6-트리-O-(3-트리에톡시실릴프로필)-β-사이클로덱스트린}, 옥타키스{2,3,6-트리-O-(3-트리메톡시실릴프로필)-γ-사이클로덱스트린}, 및 옥타키스{2,3,6-트리-O-(3-트리에톡시실릴프로필)-γ-사이클로덱스트린} 중에서 선택된 것임을 특징으로 하는 기공형성용 템플레이트
3 3
다음 화학식 1로 표시되는 바와 같이 트리알콕시실릴프로필 말단기가 결합되어 있는 사이클로덱스트린 유도체를 졸-젤 반응하여 제조한 것임을 특징으로 하는 저유전 매트릭스 :[화학식 1] 상기 화학식 1에서, R은 서로 같거나 다른 것으로서 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타내고; n은 6 ∼ 12의 정수를 나타낸다
4 4
다음 화학식 1로 표시되는 바와 같이 트리알콕시실릴프로필 말단기가 결합되어 있는 사이클로덱스트린 유도체를 졸-젤 반응하여 제조된 저유전 매트릭스를 박막화하여 제조한 것임을 특징으로 하는 저유전막 :[화학식 1] 상기 화학식 1에서, R은 서로 같거나 다른 것으로서 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타내고; n은 6 ∼ 12의 정수를 나타낸다
5 5
제 4 항에 있어서, 상기 저유전 매트릭스는 폴리메틸실세스퀴옥산 및 폴리메틸실세스퀴옥산 공중합체 중에서 선택된 실리케이트 전구체가 포함된 것임을 특징으로 하는 저유전막
6 6
a) 유기 또는 무기 실리케이트 전구체와,b) 다음 화학식 1로 표시되는 바와 같이 트리알콕시실릴프로필 말단기가 결합되어 있는 사이클로덱스트린 유도체의 나노입자가 함유되어 얻어진 것임을 특징으로 하는 초저유전 절연성 조성물 :[화학식 1] 상기 화학식 1에서, R은 서로 같거나 다른 것으로서 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타내고; n은 6 ∼ 12의 정수를 나타낸다
7 7
제 6 항에 있어서, a) 유기 또는 무기 실리케이트 전구체와, b) 상기 화학식 1로 표시되는 사이클로덱스트린 유도체의 나노입자가 각각 10 ∼ 40 중량% 농도 범위에서 동일 농도로 용해되어 있는 두 용액을 10 ∼ 50 : 10 ∼ 50 부피%로 혼합하여 얻어진 것임을 특징으로 하는 초저유전 절연성 조성물
8 8
제 6 항에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 유도체가 헥사키스{2,3,6-트리-O-(3-트리메톡시실릴프로필)-α-사이클로덱스트린}, 헥사키스{2,3,6-트리-O-(3-트리에톡시실릴프로필)-α-사이클로덱스트린}, 헵타키스{2,3,6-트리-O-(3-트리메톡시실릴프로필)-β-사이클로덱스트린}, 헵타키스{2,3,6-트리-O-(3-트리에톡시실릴프로필)-β-사이클로덱스트린}, 옥타키스{2,3,6-트리-O-(3-트리메톡시실릴프로필)-γ-사이클로덱스트린}, 옥타키스{2,3,6-트리-O-(3-트리에톡시실릴프로필)-γ-사이클로덱스트린} 중에서 선택된 것을 특징으로 하는 초저유전 절연성 조성물
9 9
제 6 항에 있어서, 상기 유기 또는 무기 실리케이트 전구체가 폴리메틸실세스퀴옥산 또는 폴리메틸실세스퀴옥산 공중합체인 것을 특징으로 하는 초저유전 절연성 조성물
10 10
상기 청구항 6 내지 청구항 9 중에서 선택된 어느 한 항의 초저유전 절연성 조성물을 박막화하여 제조한 것으로, 매트릭스 용액에 대한 템플레이트 용액의 상대 부피비가 40 ∼ 49%일 때 공극률이 21 ∼ 51% 이고 유전율이 2
11 10
상기 청구항 6 내지 청구항 9 중에서 선택된 어느 한 항의 초저유전 절연성 조성물을 박막화하여 제조한 것으로, 매트릭스 용액에 대한 템플레이트 용액의 상대 부피비가 40 ∼ 49%일 때 공극률이 21 ∼ 51% 이고 유전율이 2
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 JP04555836 JP 일본 FAMILY
2 JP19523246 JP 일본 FAMILY
3 US07462659 US 미국 FAMILY
4 US20070128879 US 미국 FAMILY
5 WO2005078743 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 DE112004002747 DE 독일 DOCDBFAMILY
2 DE112004002747 DE 독일 DOCDBFAMILY
3 JP2007523246 JP 일본 DOCDBFAMILY
4 JP2007523246 JP 일본 DOCDBFAMILY
5 JP2007523246 JP 일본 DOCDBFAMILY
6 JP4555836 JP 일본 DOCDBFAMILY
7 US2007128879 US 미국 DOCDBFAMILY
8 US7462659 US 미국 DOCDBFAMILY
9 WO2005078743 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.