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화학식 1의 화합물을 기재 화합물로서 포함하는 광중합형 치아수복용 고분자 조성물: <화학식1> 상기 식 중, R1은 메틸기이고 R2는 수소원자 또는 메틸기이다
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제1항에 있어서, 기재 화합물이 화학식2의 2,2-비스-(4-(3-메타크릴록시-2-히드록시프로폭시)페닐프로판과 화학식3의 2,2-비스-(3-메틸-4-(2-히드록시-3-메타크릴로일옥시프로폭시)페닐프로판을 90:10 내지 10:90 중량비로 함유하는 것임을 특징으로 하는 광중합형 치아수복용 고분자 조성물
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제2항에 있어서, 상기 기재 화합물이 상기 고분자 조성물 총중량의 2 내지 40 중량%인 것임을 특징으로 하는 광중합형 치아수복용 고분자 조성물
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제1항에 있어서, 상기 기재 화합물이 화학식2의 2,2-비스-(4-(3-메타크릴록시-2-히드록시프로폭시)페닐프로판과 화학식4의 2,2-비스-(3,5-디메틸-4-(2-히드록시-3-메타크릴로일옥시프로폭시)페닐프로판을 90:10 내지 10:90 중량비로 함유하는 것임을 특징으로 하는 광중합형 치아수복용 고분자 조성물
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제4항에 있어서, 상기 기재 화합물이 조성물 총중량의 2 내지 40 중량%인 것임을 특징으로 하는 광중합형 치아수복용 고분자 조성물
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제1항에 있어서, 상기 기재 화합물이 화학식2의 2,2-비스-(4-(3-메타크릴록시-2-히드록시프로폭시)페닐프로판 90 내지 5 중량비, 화학식3의 2,2-비스-(3-메틸-4-(2-히드록시-3-메타크릴로일옥시프로폭시)페닐프로판 90 내지 5 중량비 및 화학식4의 2,2-비스-(3,5-디메틸-4-(2-히드록시-3-메타크릴로일옥시프로폭시)페닐프로판을 90 내지 5 중량비로 함유하는 것임을 특징으로 하는 광중합형 치아수복용 고분자 조성물
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제6항에 있어서, 상기 기재 화합물이 조성물 총중량의 2 내지 40 중량%인 것임을 특징으로 하는 광중합형 치아수복용 고분자 조성물
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제1항에 있어서, 상기 광중합형 치아수복용 고분자 조성물이 희석제, 무기충전재, 광개시제, 광증감제, 중합금지제, 광안정제, 산화안정제, 안료기타첨가제 중에서 선택되는 1종 이상의 첨가제를 함유하는 것임을 특징으로 하는 광중합형 치아수복용 고분자 조성물
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제8항에 있어서, 상기 희석제가 메틸메타크릴레이트, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 1,4-부탄디올디메타크릴레이트, 1,6-헥산디올디메타크릴레이트, 1-메틸-1,3-프로판디올디메타크릴레이트, 글리세롤-1,3-디메타크릴레이트, 네오펜틸글리콜디메타크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디메타크릴레이트 및 1,6-비스(메타크릴로일옥시-2-에톡시카르보닐아미노)-2,2,4-트리메틸헥산으로 이루어진 군에서 선택되는 것임을 특징으로 하는 광중합형 치아수복용 고분자 조성물
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제8항에 있어서, 상기 무기충전재가 실란으로 표면처리된 평균 입도 0
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제10항에 있어서, 상기 무기충전재의 표면처리용 실란이 감마-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란(γ-MPS), 비닐트리에톡시실란, 디메틸디클로로실란, 헥사메틸렌디실리잔 및 디메틸폴리실록산 중에서 선택되는 것임을 특징으로 하는 광중합형 치아수복용 고분자 조성물
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제8항에 있어서, 상기 광증감제가 N,N-디메틸아미노에틸메타크릴레이트 또는 에틸-4-디메틸아미노벤조에이트이고, 상기 광개시제가 캄포퀴논(CQ)이고, 상기 중합금지제가 하이드로퀴논, 하이드로퀴논모노메틸에테르 및 하이드로퀴논모노에틸에테르 중에서 선택되는 것이고, 상기 광안정제가 티누빈피이고, 상기 산화안정제가 이가녹스 또는 2,6-디터셔리부틸-4-메틸페놀부틸레이티드하이드록시톨루엔이고, 상기 안료가 산화철계 또는 티타늄디옥사이드 무기안료인 것을 특징으로 하는 광중합형 치아수복용 고분자 조성물
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제8항에 있어서, 상기 첨가제가 조성물 총중량의 0
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