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저온 경화용 에폭시 도료 희석제 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2015221963
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 저온 경화용 에폭시 도료 희석제 및 그 제조방법이 제공된다. 본 발명에 따른 저온 경화용 에폭시 도료 희석제는 하기 식 (1)의 구조를 가지며, (1) (상기 식에서, R은 탄소수 10 내지 18의 포화 또는 불포화 탄화수소임) 본 발명에 따른 저온 경화용 에폭시 도료 희석제는 천연물질로부터 추출된 카다놀 또는 우루시올로부터 합성되므로, 환경 친화적이다. 또한, 페놀기에 에피클로로하이드린과 같은 일관능기 화합물을 결합시킴으로써, 희성제로서의 기능은 유지하면서도, 방향족 고리기의 공명 안정화를 동시에 달성한다. 그 결과, 에폭시 수지의 투명 특성을 그대로 유지할 수 있다. 더 나아가, 에폭시 기능기를 갖는 희석제는 에폭시 수지 내에서 에폭시 경화작용에 직접 관여하므로, 반응시간이 짧고 또한 공정이 단순해진다. 더 나아가, 페놀기에 의한 내화학성, 방향족기에 결합된 포화 또는 불포화 탄화수소기에 의한 소수성 등으로 인하여 도포 후 우수한 내화학, 내습 특성의 에폭시 수지를 제조할 수 있다.
Int. CL C09D 7/12 (2006.01) C09D 163/00 (2006.01) C09D 5/00 (2006.01)
CPC C09D 7/20(2013.01) C09D 7/20(2013.01) C09D 7/20(2013.01) C09D 7/20(2013.01)
출원번호/일자 1020100035053 (2010.04.16)
출원인 재단법인 한국건자재시험연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2011-0115635 (2011.10.24) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.04.16)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인 한국건자재시험연구원 대한민국 서울특별시 서초구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 우동진 대한민국 경기도 수원시 영통구
2 김성현 대한민국 경기도 수원시 영통구
3 양인모 대한민국 서울특별시 성동구
4 김승진 대한민국 경기도 군포시
5 최정진 대한민국 경기도 성남시 분당구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 손지원 대한민국 전북 전주시 덕진구 틀못*길**, 은빛빌딩 ***호(장동)(특허법인다해(전라도분사무소))
2 김강욱 대한민국 전북 전주시 덕진구 틀못*길**, 은빛빌딩 ***호(장동)(특허법인다해(전라도분사무소))

최종권리자

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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2010.04.16 수리 (Accepted) 1-1-2010-0242084-61
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2010.04.20 수리 (Accepted) 1-1-2010-0252488-82
3 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2011.12.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0713517-35
4 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2012.07.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0426583-18
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번호 청구항
1 1
저온 경화용 에폭시 도료 희석제로서, 상기 희석제는 하기 식 (1)의 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 저온 경화용 에폭시 도료 희석제
2 2
제 1항에 있어서, R은 하기 탄화수소 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 저온 경화용 에폭시 도료 희석제
3 3
제 1항에 있어서, 상기 희석제는 카다놀 또는 우루시올로부터 합성된 방향족 화합물로부터 합성된 것을 특징으로 하는 저온 경화용 에폭시 도료 희석제
4 4
저온 경화용 에폭시 도료 희석제 제조방법으로서, 상기 제조방법은,(a) 카다놀 또는 우루시올로부터 추출된 하기 식 (2) 또는 (3)의 화합물을 준비하는 단계;(2), (3)(상기 식에서 R은 탄소수 10 내지 18의 불포화 탄화수소임)(b) 상기 식 (2) 또는 (3)의 화합물과 에피클로로하이드린을 혼합하는 단계; 및(c) 상기 식 (2) 또는 (3)의 화합물과 에피클로로하이드린을 친핵 치환 반응시켜, 하기 식 (4)의 구조를 포함하는 화합물을 수득하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 저온 경화용 에폭시 도료 희석제 제조방법
5 5
제 4항에 있어서, 상기 R은 하기 포화 또는 불포화 탄화수소 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 저온 경화용 에폭시 도료 희석제 제조방법
6 6
제 5항에 있어서, 상기 친핵 치환반응은 염기 조건에서 상온으로 수행되는 것을 특징으로 하는 저온 경화용 에폭시 도료 희석제 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.