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애노드를 중심으로 양쪽에 각각 이격 되어 배열된 캐소드를 구비하는 새들 필드 이온 원으로서,캐소드는 개구부를 구비하고, 개구부가 형성된 캐소드 중 어느 한 캐소드의 개구부를 더 크게 형성하고, 개구부가 더 작게 형성된 대향 캐소드는 애노드로부터 이격된 거리를 개구부가 더 큰 캐소드보다 더 멀리 배치하여, 캐소드를 비대칭으로 구성하고, 애노드에 전위를 인가하고,양쪽의 캐소드를 모두 접지시켜 발산형 이온 빔을 인출하는 새들 필드 이온 원을 구성하거나, 양쪽의 캐소드 중 어느 하나는 접지시키고, 다른 하나는 플로팅시켜, 플로팅 된 캐소드로부터 수렴 후 발산하는 이온 빔을 인출하는 새들 필드 이온 원을 구성하고,상기 새들 필드 이온 원을 이용하여 이온 빔으로 시편을 가공하는 것을 특징으로 하는 이온빔 가공장치
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제1항에 있어서, 상기 새들 필드 이온 원은 양쪽의 캐소드 중 어느 하나는 반대편 캐소드의 개구부에 비해 더 큰 개구부를 구비하여 이온 빔을 더 많은 양으로 인출하게 하는 이온 빔 인출용 캐소드로 하고, 상기 이온 빔 인출용 캐소드의 개구부 전방에 가공하고자 하는 시편을 고정하는 스테이지를 배치한 것을 특징으로 하는 이온빔 가공장치
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제1항에 있어서, 상기 이온 빔 인출용 캐소드는 고깔형으로 형성된 것을 특징으로 하는 이온빔 가공장치
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제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 이온 빔 인출용 캐소드를 통해 인출되는 이온 빔을 이용하여 세정, 연마, 밀링, 절단 또는 홀 가공을 하고자 할 때, 가공하고자 하는 시편의 위치를 제어하여 가공의 종류에 맞도록 이온 빔의 강도와 면적을 선택하며, 플로팅 된 캐소드로부터 수렴 후 발산하는 이온 빔의 촛점 거리에 시편을 배치하여 밀링, 절단 또는 홀 가공을 실시하는 것을 특징으로 하는 이온빔 가공장치
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제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 이온 빔 인출용 캐소드의 반대편에 있는 대향 캐소드의 이온 전류를 측정하여 상기 이온 빔 인출용 캐소드의 이온 전류를 계산하고, 대향 캐소드의 이온 전류량을 피드 백으로 하여 상기 이온 빔 인출용 캐소드의 이온 전류를 제어하는 것을 특징으로 하는 이온빔 가공장치
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제4항에 있어서, 상기 이온 빔 인출용 캐소드의 반대편에 있는 대향 캐소드의 이온 전류를 측정하여 상기 이온 빔 인출용 캐소드의 이온 전류를 계산하고, 대향 캐소드의 이온 전류량을 피드 백으로 하여 상기 이온 빔 인출용 캐소드의 이온 전류를 제어하는 것을 특징으로 하는 이온빔 가공장치
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제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 새들 필드 이온 원은 2 대 이상이 사용되고, 각각의 새들 필드 이온 원은 인출되는 이온 빔이 스테이지를 향하도록 상기 스테이지를 중심으로 방사상으로 배치되는 것을 특징으로 하는 이온빔 가공장치
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제7항에 있어서, 상기 다수의 새들 필드 이온 원은 각각의 새들 필드 이온 원으로부터 인출되는 이온 빔 간의 교차 각 θ와 각각의 이온 빔 인출구로부터 스테이지까지의 간격 d1, d2, d3
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제8항에 있어서, 각각의 새들 필드 이온 원에서, 이온 빔 인출용 캐소드의 반대편에 있는 대향 캐소드의 이온 전류를 측정하여 상기 이온 빔 인출용 캐소드의 이온 전류를 계산하고, 대향 캐소드의 이온 전류량을 피드 백으로 하여 상기 이온 빔 인출용 캐소드의 이온 전류를 제어하는 것을 특징으로 하는 이온빔 가공장치
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