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공정 챔버로부터 진공 펌프를 향하는 공정 가스의 배출 경로 상에 연결 설치되어 공정 가스에 포함된 오염 물질을 제거하는 플라즈마 반응기에 있어서,상기 진공 펌프의 전단에 위치하며 상기 진공 펌프를 향한 제1 단부와 그 반대측의 제2 단부를 포함하는 관 모양의 제1 접지 전극과, 제1 접지 전극의 측면에 접속되며 상기 공정 가스를 이송하는 관 모양의 제2 접지 전극을 포함하는 접지 전극부;상기 공정 가스의 이동 경로와 이격된 상태로 상기 제2 단부에 연결 설치되는 절연체; 및상기 절연체의 외면에 고정되고, 교류 전원부와 연결되어 교류 구동 전압을 인가받으며, 상기 접지 전극부와의 전압 차에 의해 상기 제1 접지 전극의 내부에 저압 플라즈마를 생성하는 구동 전극을 포함하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제1항에 있어서,상기 절연체는 상기 제2 단부에 고정되고 상기 제1 접지 전극과 나란한 관 모양의 제1 절연부와, 반응 가스 주입구를 형성하면서 상기 제1 절연부의 단부를 덮는 판 모양의 제2 절연부를 포함하며,상기 구동 전극은 상기 제1 절연부의 외주면에 고리 모양으로 고정되는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제2항에 있어서,상기 제2 단부와 상기 제1 절연부의 직경은 상기 제1 단부의 직경보다 크고,상기 제1 접지 전극은 상기 제1 단부와 접하는 균일 직경부와, 상기 제2 단부와 접하는 가변 직경부를 포함하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제3항에 있어서,상기 가변 직경부의 길이는 상기 균일 직경부의 길이보다 작고,상기 제2 접지 전극은 상기 가변 직경부와 접하는 상기 균일 직경부의 끝부분에 접속되는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제2항에 있어서,상기 제2 접지 전극과 상기 제1 단부 사이에서 상기 제1 접지 전극의 내측에 위치하는 제3 접지 전극을 더 포함하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제5항에 있어서,상기 제2 접지 전극은 상기 제2 단부와 접하거나 상기 제2 단부와 이격되어 위치하고,상기 제1 접지 전극은 전체가 균일 직경으로 형성되며,상기 제1 절연부는 상기 제1 접지 전극과 같거나 작은 직경으로 형성되는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제1항에 있어서,상기 절연체는 상기 제2 단부를 덮는 판 모양으로 형성되고,상기 구동 전극은 상기 절연체의 외면에 판 모양으로 고정되며,상기 제2 접지 전극과 상기 제1 단부 사이에서 상기 제1 접지 전극의 내측에 제3 접지 전극이 위치하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제5항 또는 제7항에 있어서,상기 제3 접지 전극은 상기 제1 접지 전극의 내벽과 직교하는 판 모양으로 형성되고, 상기 제1 접지 전극과 거리를 두고 위치하거나 적어도 하나의 개구부를 형성하여 상기 공정 가스를 통과시키는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제5항 또는 제7항에 있어서,상기 제3 접지 전극은 상기 제1 접지 전극의 내벽에 고정된 관 모양으로 형성되고, 상기 절연체로부터 멀어질수록 폭이 좁아지는 개구부를 형성하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제5항 또는 제7항에 있어서,상기 제2 접지 전극과 마주하는 상기 제1 접지 전극의 일 측면에 끝이 막힌 관 부재가 부착되어 상기 공정 가스의 잔류 시간을 늘리는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제5항 또는 제7항에 있어서,상기 제3 접지 전극을 둘러싸는 제1 접지 전극의 일부가 확장되어 파티클 포집함으로 기능하며,상기 제3 접지 전극은 상기 파티클 포집함 내부에서 상기 제1 접지 전극보다 큰 직경으로 형성되는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제11항에 있어서,상기 제3 접지 전극은 아랫면에 고정된 지지부에 의해 상기 제1 접지 전극과 연결되며,상기 지지부는 공정 가스를 통과시키기 위한 적어도 하나의 개구부를 형성하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제11항에 있어서,상기 제1 접지 전극은 상기 제1 단부를 가지면서 상기 파티클 포집함의 측면에 접속되는 제1 파트와, 상기 제2 단부를 가지면서 상기 파티클 포집함의 상면에 접속되는 제2 파트를 포함하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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