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공정 챔버로부터 진공 펌프를 향하는 공정 가스의 배출 경로 상에 설치되어 공정 가스에 포함된 오염 물질을 제거하는 플라즈마 반응기에 있어서,내부로 상기 공정 가스가 통과하는 관 모양의 절연체;상기 공정 챔버를 향한 상기 절연체의 전단에 연결되는 제1 접지 전극;상기 진공 펌프를 향한 상기 절연체의 후단에 연결되며, 상기 공정 가스의 이송 방향을 따라 상기 절연체의 내부 중심과 마주하는 대향부를 구비하는 제2 접지 전극; 및상기 절연체의 외면에 고정되고, 교류 혹은 고주파 전원부와 연결되어 교류 혹은 고주파 전압을 인가받는 구동 전극을 포함하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제1항에 있어서,상기 대향부는 상기 제2 접지 전극의 내벽과 이격되어 상기 공정 가스의 배출 경로를 가로지르는 판 모양으로 형성되는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제2항에 있어서,상기 대향부는 적어도 하나의 연결부를 통해 상기 제2 접지 전극의 내벽에 고정되는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제2항에 있어서,상기 제2 접지 전극은 상기 대향부 주위로 확장부를 형성하며,상기 대향부는 상기 확장부를 제외한 상기 제2 접지 전극의 직경보다 큰 직경을 가지는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제2항에 있어서,상기 절연체를 향한 상기 대향부의 일면에 돌출부가 형성되는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제4항에 있어서,상기 확장부는 파티클 포집함으로 기능하고,상기 파티클 포집함 내부에서 상기 대향부의 하면과 상기 제2 접지 전극 사이에 지지부가 위치하며,상기 지지부는 상기 공정 가스를 배출하기 위한 적어도 하나의 개구부를 형성하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제4항에 있어서,상기 확장부는 파티클 포집함으로 기능하고, 바닥부를 구비하며,상기 제2 접지 전극은 상기 파티클 포집함을 사이에 두고 교차하는 제1 관부와 제2 관부로 구성되는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제1항에 있어서,상기 제2 접지 전극은 상기 절연체의 후단에 연결되는 제1 관부와, 제1 관부와 교차하는 제2 관부로 구성되며,상기 제1 관부의 내측과 마주하여 상기 공정 가스가 부딪히는 제2 관부의 일부가 상기 대향부로 기능하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제8항에 있어서,상기 제2 관부는 상기 제1 관부와 교차하는 부분에 끝이 막힌 길이 확장부를 구비하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제8항에 있어서,상기 절연체를 향한 상기 대향부의 일면에 상기 제1 관부의 내경보다 큰 직경의 돌출부가 형성되며,상기 돌출부의 두께는 상기 제2 관부의 내경보다 작은 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제8항에 있어서,상기 절연체를 향한 상기 대향부의 일면에 상기 제1 관부의 내경보다 작은 직경의 돌출부가 형성되며,상기 돌출부의 두께는 상기 제2 관부의 내경보다 큰 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제1 접지 전극과 상기 제2 접지 전극은 상기 절연체와 가까워질수록 직경이 커지는 가변 직경부를 포함하며,상기 대향부는 상기 제2 접지 전극에 구비된 상기 가변 직경부의 후방에 위치하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제1 접지 전극은 그 내부로 반응 가스를 주입하는 반응 가스 주입구를 형성하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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