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천공 장치에 있어서,비트들을 복수의 열에 라이트(write)하고, 상기 비트들이 라이트된 상기 복수의 열의 순서를 변경하고, 상기 순서가 변경된 복수의 열의 복수의 행 각각으로부터 상기 라이트된 비트들을 리드(read)하는 인터리버; 및,상기 인터리버에서 출력되는 비트들 중에서 기설정된 개수의 비트를 천공(puncturing)하는 천공부;를 포함하며,상기 인터리버는,상기 천공되는 비트들의 개수가 기설정된 조건을 만족하는 경우, 상기 복수의 행 중 상기 복수의 열의 개수 및 상기 천공되는 비트들의 개수에 기초하여 적어도 하나의 행을 판단하고,상기 판단된 행의 경우, 기저장된 위치 정보에 대응되는 적어도 하나의 열에 라이트된 비트들부터 리드한 후 나머지 비트들을 순차적으로 리드하고, 상기 복수의 행 중 나머지 행의 경우, 복수의 열에 라이트된 비트들을 순차적으로 리드하는 천공 장치
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제1항에 있어서,상기 인터리버는,상기 복수의 열 중 첫 번째 열의 첫 번째 행부터 마지막 열의 마지막 행까지 상기 비트들을 순차적으로 라이트하는 것을 특징으로 하는 천공 장치
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제1항에 있어서,상기 천공부는,상기 인터리버에서 출력되는 비트들 중에서 기설정된 개수의 비트를 순차적으로 천공하는 것을 특징으로 하는 천공 장치
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천공 장치의 천공 방법에 있어서,비트들을 복수의 열에 라이트(write)하는 단계; 상기 비트들이 라이트된 상기 복수의 열의 순서를 변경하는 단계;상기 순서가 변경된 복수의 열의 복수의 행 각각으로부터 상기 라이트된 비트들을 리드(read)하는 단계; 및,상기 리드된 비트들 중에서 기설정된 개수의 비트를 천공(puncturing)하는 단계;를 포함하며,상기 리드하는 단계는,상기 천공되는 비트들의 개수가 기설정된 조건을 만족하는 경우, 상기 복수의 행 중 상기 복수의 열의 개수 및 상기 천공되는 비트들의 개수에 기초하여 적어도 하나의 행을 판단하고,상기 판단된 행의 경우, 기저장된 위치 정보에 대응되는 적어도 하나의 열에 라이트된 비트들부터 리드한 후 나머지 비트들을 순차적으로 리드하고, 상기 복수의 행 중 나머지 행의 경우, 복수의 열에 라이트된 비트들을 순차적으로 리드하는 천공 방법
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제5항에 있어서,상기 라이트하는 단계는,상기 복수의 열 중 첫 번째 열의 첫 번째 행부터 마지막 열의 마지막 행까지 상기 비트들을 순차적으로 라이트하는 것을 특징으로 하는 천공 방법
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제5항에 있어서,상기 천공하는 단계는,상기 리드된 비트들 중에서 기설정된 개수의 비트를 순차적으로 천공하는 것을 특징으로 하는 천공 방법
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제1항에 있어서,상기 기설정된 조건은, 상기 천공되는 비트들의 개수가 상기 복수의 열의 개수보다 작거나, 또는, 상기 천공되는 비트들의 개수가 상기 복수의 열의 개수보다 크지만 2의 거듭 제곱 형태가 아닌 조건인 것을 특징으로 하는 천공 장치
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