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계면활성제 없이 유기 리간드와 금속전구체를 반응시켜 구형의 유기 리간드-금속 착화합물을 형성하는 단계;상기 유기 리간드-금속 착화합물을 코팅물질로 코팅하는 단계; 및열처리를 통하여 유기 리간드를 제거하는 단계;를 포함하고, 상기 유기 리간드-금속 착화합물은 200 nm 내지 1 μm의 지름을 갖는 것인 코팅물질에 담지된 금속 나노입자 촉매 제조방법
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청구항 1에 있어서, 상기 유기 리간드와 금속전구체를 반응시, 은(Ag)을 포함하는 화합물을 이용하여 음이온을 교환하는 단계를 더 포함하는, 코팅물질에 담지된 금속 나노입자 촉매 제조방법
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청구항 2에 있어서, 상기 은 (Ag)을 포함하는 화합물은 실버 퍼클로레이트(Silver perchlorate, AgClO4), 실버 테트라플루오로보레이트 (Silver tetrafluoroborate, AgBF4), 실버 트리플루오로메테인설포네이트 (Silver trifluoromethanesulfonate, Ag(CF3SO3)), 실버 헥사플루오로포스페이트 (Silver hexafluorophosphate, AgPF6) 및 실버 나이트레이트 (Silver nitrate, AgNO3)로 이루어지는 그룹에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것을 특징으로 하는, 코팅물질에 담지된 금속 나노입자 촉매 제조방법
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청구항 1에 있어서, 상기 유기 리간드는 하기 일반식 (I), (II) 및 (III)으로 표현되는 화합물로 이루어지는 그룹으로부터 선택된 1종 또는 2종 이상인 것을 특징으로 하는 코팅물질에 담지된 금속 나노입자 촉매 제조방법:일반식 (I) 상기 식에서, 는 , 또는 로부터 독립적으로 선택되며, 는 또는 를 의미하고;일반식 (II) 상기 식에서, R1은 CH3 또는 C6H5 로부터 독립적으로 선택되고, R2는 C6H5 또는 (CH2)nCH3 (n 은 3 내지 17의 정수)로부터 독립적으로 선택되며, 는 또는 를 의미하고;일반식 (III) 상기 식에서, 는 또는 로부터 독립적으로 선택되며, 는 또는 를 의미한다
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청구항 1에 있어서, 상기 금속전구체는 팔라듐(II) 또는 백금(II)을 포함하는 것을 특징으로 하는 코팅물질에 담지된 금속 나노입자 촉매 제조방법
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청구항 1에 있어서, 상기 금속전구체는 포타슘 테트라클로로 팔라데이트 (Potassium tetrachloropalladate, K2PdCl4), 포타슘 테트라클로로 플래티네이트 (Potassium tetrachloroplatinate, K2PtCl4), 싸이클로옥타다이엔 팔라듐 다이클로라이드 (Cyclooctadiene palladium dichloride, (COD)PdCl2), 테트라메틸에틸렌다이아민 팔라듐 다이클로라이드 (Tetramethyethylenediamine palladium dichloride, (Me4en)PdCl2), 에틸렌다이아민 팔라듐 다이클로라이드 (Ethylenediamine palladium dichloride, (en)PdCl2), 바이피리딜 팔라듐 다이클로라이드 (Bipyridyl palladium dichloride, (bpy)PdCl2), 비스(다이페닐포스피노)프로페인 플래티늄 다이클로라이드 (Bis(diphenylphosphino)propane platinum dichloride, (dppp)PtCl2), 비스(다이페닐포스피노)에테인 팔라듐 다이클로라이드 (Bis(diphenylphosphino)ethane palladium dichloride, (dppe)PdCl2) 및 비스(다이페닐포스피노)메테인 팔라듐 다이클로라이드 (Bis(diphenylphosphino)methane palladium dichloride, (dppm)PdCl2)로 이루어지는 그룹으로부터 선택된 1종 또는 2종 이상인 것을 특징으로 하는 코팅물질에 담지된 금속 나노입자 촉매 제조방법
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청구항 1에 있어서, 상기 유기 리간드와 금속전구체의 반응 몰비는 1:0
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청구항 1에 있어서, 상기 코팅물질은 실리카를 포함하는 것을 특징으로 하는 코팅물질에 담지된 금속 나노입자 촉매 제조방법
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청구항 1에 있어서, 상기 코팅물질은 테트라메틸 오르토실리케이트 (Tetramethyl orthosilicate, TMOS, (MeO)4Si), 테트라에틸 오르토실리케이트 (Tetraethyl orthosilicate, TEOS, (EtO)4Si) 및 테트라프로필 오르토실리케이트 (Tetrapropyl orthosilicate, TPOS, (PrO)4Si)로 이루어지는 그룹으로부터 선택된 1종 또는 2종 이상인 것을 특징으로 하는 코팅물질에 담지된 금속 나노입자 촉매 제조방법
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청구항 1에 있어서, 상기 코팅물질은 알루미나를 포함하는 것을 특징으로 하는 코팅물질에 담지된 금속 나노입자 촉매 제조방법
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청구항 1에 있어서, 상기 코팅물질은 알루미늄 에톡사이드 (Aluminum ethoxide, Al(OC2H5)3), 알루미늄 아이소프로폭사이드 (Aluminum isopropoxide, Al(OC3H7)3), 알루미늄 세크-뷰톡사이드 (Aluminum sec-butoxide, Al[(O(CH3)CHC2H5]3)로 이루어지는 그룹으로부터 선택된 1종 또는 2종 이상인 것을 특징으로 하는 코팅물질에 담지된 금속 나노입자 촉매 제조방법
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청구항 1에 있어서, 상기 코팅물질은 금속 착화합물의 표면에 10 내지 30 nm의 두께로 코팅되는 것을 특징으로 하는 코팅물질에 담지된 금속 나노입자 촉매 제조방법
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청구항 1에 있어서, 상기 열처리는, 분말 형태의 건조 시료를 200℃ 내지 800℃에서 1시간 내지 6시간 동안 가열하는 것을 특징으로 하는 코팅물질에 담지된 금속 나노입자 촉매 제조방법
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청구항 14에 있어서, 상기 가열은 상온으로부터 1℃/min 내지 10℃/min의 속도로 온도를 상승시키는 것을 특징으로 하는 코팅물질에 담지된 금속 나노입자 촉매 제조방법
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청구항 1에 따른 방법으로 제조된 코팅물질에 담지된, 스즈키반응에서 사용되는 금속 나노입자 촉매
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청구항 16에 있어서, 상기 코팅물질에 담지된 금속 나노입자 촉매는 반응기 모양인 것을 특징으로 하는 코팅물질에 담지된 금속 나노입자 촉매
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청구항 16에 있어서, 상기 코팅물질에 담지된 금속 나노입자 촉매는 구형인 것을 특징으로 하는 코팅물질에 담지된 금속 나노입자 촉매
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