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(a) 수용성 암모니아계 용액 및 첨가제를 포함하는 식각액을 제조하여 식각 장치에 투입하는 단계;(b) 상기 식각 장치에 실리콘 웨이퍼를 그 피식각면이 상부를 향하도록 로딩하여 상기 식각액에 침지시키는 단계;(c) 회전식 교반기를 피식각면과 근접하게 이격되도록 상기 식각 장치의 위쪽으로부터 상기 식각액에 침지시키는 단계; 및(d) 상기 회전식 교반기를 작동시켜 상기 식각액의 흐름이 피식각면과 평행을 이루도록 교반하는 단계를 포함하고,상기 첨가제는 피라진(pyrazin), AP(ammonium persulfate) 또는 AHS(ammonium hydrogen sulfate)인 것을 특징으로 하는 실리콘 웨이퍼의 이방성 식각방법
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제 1항에 있어서, 상기 수용성 암모니아계 용액은 TMAH(tetramethylammonium hydroxide) 용액인 것을 특징으로 하는 실리콘 웨이퍼의 이방성 식각방법
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제 2항에 있어서, 상기 TMAH 용액의 농도는 10 내지 25 wt%인 것을 특징으로 하는 실리콘 웨이퍼의 이방성 식각방법
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제 1항에 있어서,상기 식각액은 피라진을 0
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제 1항에 있어서, 상기 식각액은 AP를 2
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제 1항에 있어서, 상기 식각액은 AHS를 5
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제 6항 또는 제 7항에 있어서, 상기 식각액은 1가 알코올을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘 웨이퍼의 이방성 식각방법
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제 8항에 있어서, 상기 1가 알코올은 이소프로판올인 것을 특징으로 하는 실리콘 웨이퍼의 이방성 식각방법
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