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전자장치 및 그 제조 방법(An electronic device and the method for fabricating the same)

  • 기술번호 : KST2015228880
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 실시예들에 따른 전자장치의 제조 방법은 소자 영역 및 배선 영역을 포함하는 캐리어 기판을 제공하는 것; 캐리어 기판 상에 희생층 및 전자소자를 차례로 형성하는 것; 희생층 상에 배선 영역에서 굴곡진 표면을 갖는 제1탄성층을 형성하는 것; 배선 영역의 제1탄성층 상에 금속 배선들을 형성하는 것; 제1탄성층 상에 금속 배선들을 덮는 제2탄성층을 형성하는 것; 전자소자 상의 제2탄성층에 함몰되며, 굴곡진 표면을 갖는 고강성 패턴을 형성하는 것; 제2탄성층 및 고강성 패턴 상에 제3탄성층을 형성하는 것; 및 캐리어 기판을 분리하는 것을 포함한다.
Int. CL H05K 1/18 (2006.01.01) H05K 1/02 (2006.01.01)
CPC
출원번호/일자 1020140065804 (2014.05.30)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-2042137-0000 (2019.11.01)
공개번호/일자 10-2015-0138913 (2015.12.11) 문서열기
공고번호/일자 (20191128) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2018.05.15)
심사청구항수 19

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 조경익 대한민국 대전광역시 유성구
2 구재본 대한민국 대전광역시 서구
3 박찬우 대한민국 대전광역시 유성구
4 나복순 대한민국 대전광역시 중구
5 이상석 대한민국 세종시 나리*로**(
6 임상철 대한민국 대전광역시 유성구
7 정순원 대한민국 대전광역시 유성구
8 추혜용 대한민국 대전시 유성 엑스포로*

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 고려 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *길 ** *층(역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2014.05.30 수리 (Accepted) 1-1-2014-0514181-98
2 직권정정안내서
Notification of Ex officio Correction		 2014.06.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2014-0096646-15
3 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2015.01.16 수리 (Accepted) 1-1-2015-0048901-46
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
5 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2018.05.15 수리 (Accepted) 1-1-2018-0475453-01
6 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2019.08.08 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
7 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2019.10.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2019-0113617-51
8 등록결정서
Decision to grant		 2019.10.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0761344-90
9 [명세서등 보정]보정서(심사관 직권보정)
 2019.11.07 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-5036061-50
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
소자 영역 및 배선 영역을 포함하는 탄성기판;상기 소자 영역의 상기 탄성기판 상에 배치되는 전자소자;상기 탄성기판 상에 배치되며, 상기 배선 영역에서 굴곡진 표면을 갖는 제1탄성층;상기 배선 영역의 상기 제1탄성층의 굴곡진 표면을 따라 배치되고 상기 전자소자를 전기적으로 연결시키는 금속 배선들;상기 제1탄성층 상에 상기 금속 배선들을 덮으며 배치되는 제2탄성층;상기 전자소자 상에 상기 전자소자와 수직적으로 중첩되도록, 상기 제2탄성층에 함몰되어 배치되며 굴곡진 표면을 갖는 고강성 패턴; 및상기 고강성 패턴 및 상기 제2탄성층 상에 배치된 제3탄성층을 포함하는 전자장치
2 2
제 1 항에 있어서,상기 제1탄성층, 상기 제2탄성층, 상기 제3탄성층 및 상기 탄성기판은 같은 물질로 이루어진 전자장치
3 3
제 1 항에 있어서,상기 고강성 패턴의 폭은 상기 전자 소자의 폭 보다 넓은 전자장치
4 4
제 1 항에 있어서,상기 고강성 패턴을 이루는 물질은 상기 제1탄성층, 상기 제2탄성층, 상기 제3탄성층 또는 상기 탄성기판을 이루는 물질보다 큰 영률(Young's modulus)을 갖는 전자장치
5 5
제 1 항에 있어서,상기 고강성 패턴을 이루는 물질은 폴리이미드(polyimide)인 전자장치
6 6
제 1 항에 있어서,상기 제2탄성층은 감광성 탄성 물질로 이루어지고, 상기 고강성 패턴은 빛에 의하여 경화된 감광성 탄성물질인 전자장치
7 7
제 6 항에 있어서,상기 감광성 탄성 물질은 감광성 폴리다이메틸실록세인(photo-sensitive polydimethylsiloxane)인 전자장치
8 8
소자 영역 및 배선 영역을 포함하는 캐리어 기판을 제공하는 것;상기 캐리어 기판 상에 희생층을 형성하는 것;상기 소자 영역의 상기 희생층 상에 전자소자를 형성하는 것;상기 배선 영역의 상기 희생층 상에 굴곡진 표면을 갖는 제1탄성층을 형성하는 것;상기 배선 영역의 상기 제1탄성층 상에 상기 전자소자를 전기적으로 연결시키는 금속 배선들을 형성하는 것;상기 제1탄성층 상에 상기 금속 배선들을 덮는 제2탄성층을 형성하는 것;상기 전자소자 상에 상기 전자소자와 수직적으로 중첩되도록, 상기 제2탄성층에 함몰되며 굴곡진 표면을 갖는 고강성 패턴을 형성하는 것;상기 제2탄성층 및 상기 고강성 패턴 상에 제3탄성층을 형성하는 것; 및상기 캐리어 기판을 분리하는 것을 포함하는 전자장치의 제조 방법
9 9
제 8 항에 있어서,상기 제1탄성층을 형성하는 것은:상기 전자소자를 덮도록 탄성 물질을 상기 희생층 상에 도포하는 것; 및상기 탄성 물질의 표면을 굴곡지게 하는 것을 포함하는 전자장치의 제조 방법
10 10
제 8 항에 있어서,상기 고강성 패턴을 형성하는 것은:상기 소자 영역 및 상기 소자 영역에 인접한 상기 배선 영역의 상기 제2탄성층의 일부분을 식각하는 것;상기 제2탄성층의 식각된 영역을 고강성 물질로 채우는 것; 및상기 고강성 물질의 표면을 굴곡지게 하는 것을 포함하는 전자장치의 제조 방법
11 11
제 8 항에 있어서,상기 제2탄성층은 감광성 탄성 물질로 이루어진 전자장치의 제조 방법
12 12
제 11 항에 있어서,상기 고강성 패턴을 형성하는 것은:상기 제2탄성층 상에, 상기 소자 영역 및 상기 소자 영역에 인접한 상기 배선 영역의 일부분에서 상기 제2탄성층을 노출하는 마스크 패턴을 형성하는 것;상기 마스크 패턴에 의해 노출된 상기 제2탄성층에 빛을 조사하는 것; 및상기 빛이 조사된 제2탄성층의 표면을 굴곡지게 하는 것을 포함하는 전자장치의 제조 방법
13 13
제 11 항에 있어서,상기 고강성 패턴을 형성하는 것은:상기 제2탄성층의 표면을 굴곡지게 하는 것;상기 제2탄성층 상에, 상기 소자 영역 및 상기 소자 영역에 인접한 상기 배선 영역의 일부분에서 상기 제2탄성층을 노출하는 마스크 패턴을 형성하는 것; 및상기 마스크 패턴에 의해 노출된 상기 제2탄성층에 빛을 조사하는 것을 포함하는 전자장치의 제조 방법
14 14
제 8 항에 있어서,상기 고강성 패턴의 폭은 상기 전자 소자의 폭보다 넓은 전자장치의 제조 방법
15 15
제 8 항에 있어서, 상기 캐리어 기판을 분리하는 것은 고주파 가열 공정, 레이저 가열 공정, 화학적 공정 또는 물리적 공정 중에서 선택된 어느 하나를 이용하는 전자장치의 제조 방법
16 16
제 8 항에 있어서, 상기 캐리어 기판을 분리한 후 노출된 상기 전자소자 및 상기 제1탄성층 상에 탄성기판을 형성하는 것을 더 포함하는 전자장치의 제조 방법
17 17
소자 영역 및 배선 영역을 포함하는 캐리어 기판을 제공하는 것;상기 캐리어 기판 상에 희생층을 형성하는 것;상기 소자 영역의 상기 희생층 상에 전자소자를 형성하는 것;상기 배선 영역의 상기 희생층 표면을 굴곡지게 하는 것;상기 배선 영역의 상기 희생층 상에 상기 전자소자를 전기적으로 연결시키는 금속 배선들을 형성하는 것;상기 희생층 상에 상기 금속 배선들을 덮는 제2탄성층을 형성하는 것;상기 전자소자 상에 상기 전자소자와 수직적으로 중첩되도록, 상기 제2탄성층에 함몰되며 굴곡진 표면을 갖는 고강성 패턴을 형성하는 것;상기 제2탄성층 및 상기 고강성 패턴 상에 제3탄성층을 형성하는 것; 및상기 캐리어 기판을 분리하는 것을 포함하는 전자장치의 제조 방법
18 18
제 17 항에 있어서,상기 고강성 패턴의 폭은 상기 전자 소자의 폭보다 넓은 전자장치의 제조 방법
19 19
제 17 항에 있어서,상기 캐리어 기판을 분리한 후 노출된 상기 전자소자 및 상기 희생층 상에 탄성기판을 형성하는 것을 더 포함하는 전자장치의 제조 방법
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1 US09634120 US 미국 FAMILY
2 US10026844 US 미국 FAMILY
3 US10629744 US 미국 FAMILY
4 US20150348800 US 미국 FAMILY
5 US20170186876 US 미국 FAMILY
6 US20180277684 US 미국 FAMILY

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1 US10026844 US 미국 DOCDBFAMILY
2 US10629744 US 미국 DOCDBFAMILY
3 US2015348800 US 미국 DOCDBFAMILY
4 US2017186876 US 미국 DOCDBFAMILY
5 US2018277684 US 미국 DOCDBFAMILY
6 US9634120 US 미국 DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 한국전자통신연구원 산업원천기술개발사업(ETRI연구개발지원사업) 너지 절감을 위한 7인치기준 2W급 환경적응 (Light Adaptable Space Adaptable；LASA) 디스플레이 신모드 핵심원천기술 개발