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호스트 액정 및 광경화성 모노머를 포함하고, 상기 호스트 액정이 광경화성 고분자에 비해 단파장을 흡수하는 역파장 분산 필름용 조성물
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제 1항에 있어서, 상기 호스트 액정은 100~400nm 파장대의 광을 흡수하고, 상기 광경화성 모노머는 200~430nm 파장대의 광을 흡수하는 것을 특징으로 하는 역파장 분산 필름용 조성물
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제 1항에 있어서, 상기 호스트 액정은 스멕틱 액정인 것을 특징으로 하는 역파장 분산 필름용 조성물
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제 1항에 있어서, 상기 호스트 액정은 중합성 스멕틱 액정인 것을 특징으로 하는 역파장 분산 필름용 조성물
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제 1항에 있어서, 상기 호스트 액정은 정파장 분산(positive dispersion) 특성을 가지는 것을 특징으로 하는 역파장 분산 필름용 조성물
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제 1항에 있어서, 상기 광경화성 모노머는 반응기를 갖는 탄소수 1~20의 탄화수소 화합물 ; 및 반응기를 갖는 탄소수 6~20인 방향족 또는 헤테로방향족 화합물 ; 중 어느 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 역파장 분산 필름용 조성물
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제 6항에 있어서, 상기 광경화성 모노머는 하기 화학식 1의 반응기(Funtional group)를 하나 이상 가지는 것을 특징으로 하는 역파장 분산 필름용 조성물
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제 1항에 있어서, 상기 조성물은 상기 호스트 액정 100중량부에 대해 상기 광경화성 모노머 2~60중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는 역파장 분산 필름용 조성물
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제 1항 내지 제 8항 중 어느 한 항에 따른 조성물을 코팅하고 경화 반응시키는 것을 특징으로 하는 역파장 분산 필름 제조 방법
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제 9항에 있어서, 기판 위에 배향막을 코팅하여 경화시킨 후 상기 조성물을 코팅 및 경화시키는 것을 특징으로 하는 역파장 분산 필름 제조 방법
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제 9항에 있어서, 상기 조성물을 코팅하면 상기 광경화성 모노머가 상기 호스트 액정의 레이어와 레이어 사이에 위치하고, 레이어에 평행하게 정렬하는 것을 특징으로 하는 역파장 분산 필름 제조 방법
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일정 방향과 간격으로 배향된 복수개의 호스트 액정으로 이루어진 복수개의 레이어 ; 및 상기 레이어들 사이에 위치하여 경화된 광경화성 고분자를 포함하고, 상기 호스트 액정이 광경화성 고분자에 비해 단파장을 흡수하는 것을 특징으로 하는 역파장 분산 필름
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제 12항에 있어서, 상기 호스트 액정은 100~400nm 파장대의 광을 흡수하고, 상기 광경화성 고분자 200~430nm 파장대의 광을 흡수하는 것을 특징으로 하는 역파장 분산 필름
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제 12항에 있어서, 상기 고분자는 이를 형성하는 모노머가 상기 호스트 액정의 레이어와 레이어 사이에 위치하고 레이어에 평행하게 정렬하여 경화된 것을 특징으로 하는 역파장 분산 필름
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제 12항에 있어서, 상기 고분자는 레이어와 평행한 방향에서 광을 강하게 흡수하고, 상기 호스트 액정은 액정 장축 방향에서 광을 강하게 흡수하는 것을 특징으로 하는 역파장 분산 필름
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제 12항에 있어서, 상기 호스트 액정은 스멕틱 액정인 것을 특징으로 하는 역파장 분산 필름
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제 12항에 있어서, 상기 호스트 액정은 정파장 분산(positive dispersion) 특성을 가지지만, 상기 필름은 역파장 분산 특성을 갖는 것을 특징으로 하는 역파장 분산 필름
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제 12항에 있어서, 상기 역파장 분산 필름의 두께는 0
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제 12항 내지 제 19항 중 어느 한 항에 의한 역파장 분산필름을 포함하는 광학소자
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