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하전입자 현미경의 주사신호 제어 방법 및 이를 이용한 장치(Method for controlling scanning profile in Charged Particle Microscope and apparatus using thereof)

  • 기술번호 : KST2015230933
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 하전입자 빔 현미경의 주사신호 제어방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 하전입자 빔의 조사 방향을 제어하여 바꾸어 주는 하나이상의 편향기; 하전입자 빔의 조사 방향을 제어하는 스캔 프로파일을 생성하여 상기 편향기에 제공하는 주사파형 발생기; 및 상기 편향기에서 실제로 출력되는 전류파형을 제어하는 주사 파형 제어부;를 포함하는 하전입자 빔 현미경의 주사신호를 생성하는 방법으로서 상기 편향기로부터 기인하는 시료 표면의 왜곡된 영상을 개선할 수 있는 주사 신호의 제어 방법 및 이를 이용한 장치에 관한 것이다.
Int. CL H01J 37/26 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020140071894 (2014.06.13)
출원인 한국표준과학연구원
등록번호/일자 10-1618693-0000 (2016.04.29)
공개번호/일자 10-2015-0143907 (2015.12.24) 문서열기
공고번호/일자 (20160513) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.06.13)
심사청구항수 11

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 배문섭 대한민국 대전광역시 유성구
2 한철수 대한민국 경기도 수원시 팔달구
3 조복래 대한민국 대전광역시 유성구
4 안상정 대한민국 대전광역시 유성구
5 박인용 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 공간 대한민국 대전광역시 서구 둔산서로 ***, *층(둔산 *동, 산업은행B/D)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2014.06.13 수리 (Accepted) 1-1-2014-0552618-28
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2014.11.06 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2014.12.11 수리 (Accepted) 9-1-2014-0097616-95
4 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2014.12.19 수리 (Accepted) 1-1-2014-1236434-24
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2016.01.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0023966-54
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2016.02.15 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0147762-75
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2016.02.15 수리 (Accepted) 1-1-2016-0147821-71
8 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal		 2016.04.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0245299-59
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2016.04.04 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2016-0321821-19
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2016.04.04 수리 (Accepted) 1-1-2016-0321834-02
11 등록결정서
Decision to grant		 2016.04.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0282790-78
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266645-00
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266627-88
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266640-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
하전입자 빔의 조사 방향을 제어하여 바꾸어 주는 하나 이상의 편향기; 하전입자 빔의 조사 방향을 제어하는 스캔 프로파일을 생성하여 상기 편향기에 제공하는 주사파형 발생기; 및상기 편향기에서 실제로 출력되는 전류파형을 제어하는 주사 파형 제어부;를 포함하는 하전입자 빔 현미경의 주사신호를 제어하는 방법으로서, 미리 설정된 스캔 프로파일(r(t))에 따라 상기 주사파형 발생기에서 하전입자 빔의 조사 방향을 제어할 수 있도록 스캔 프로파일 신호(r(t))를 발생시켜 편향기에 입력하는 단계; 상기 스캔 프로파일 신호에 따라 편향기에서 실제로 출력되는 전류파형( )을 측정하는 단계; 상기 주사파형 제어부에서 상기 스캔 프로파일 신호와 편향기로부터 실제로 출력되는 전류파형 신호로부터, 보정된 스캔 프로파일 신호(u(t))를 얻어내는 단계; 및 상기 주사파형 제어부에서 상기 보정된 스캔 프로파일 신호(u(t))가 편향기에 입력되도록 함으로써, 하전입자 빔의 조사방향을 제어하는 단계;를 포함하고, 상기 보정된 스캔 프로파일 신호는 미리 설정된 스캔 프로파일(r(t))과 편향기에서 실제로 출력되는 전류파형( )의 차이(e(t) = r(t) - xcoil(t) )를 이용하여 얻어내거나,또는 상기 보정된 스캔 프로파일 신호(U(t))는 의 식으로부터 얻어내는 것을 특징으로 하는 하전입자 빔 현미경의 주사신호 제어방법
2 2
제 1항에 있어서,상기 하전입자 빔 현미경에 사용되는 하전입자 빔은 전자빔, 수소이온 빔, 헬륨이온 빔에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 하전입자 빔 현미경의 주사신호 제어방법
3 3
제 1항에 있어서,상기 보정된 스캔 프로파일 신호(u(t))는 주사파형 제어부의 메모리에 저장하고 이를 편향기의 입력신호로서 반복적으로 사용하는 것을 특징으로 하는 하전입자 빔 현미경의 주사신호 제어방법
4 4
삭제
5 5
삭제
6 6
제 1항에 있어서,상기 미리 설정된 스캔 프로파일(r(t))의 전류 파형은 톱니형, 삼각형, 사다리꼴형 중에서 선택되는 어느 하나 또는 이들의 조합인 것을 특징으로 하는 하전입자 빔 현미경의 주사신호 제어방법
7 7
제 1 항에 있어서,상기 보정된 스캔 프로파일 신호(u(t))는 주사파형 제어부에서 직전의 보정된 스캔 프로파일 신호(u(t-1))와 편향기로부터 실제로 출력되는 전류파형 신호의 차이(e(t) = u(t-1) - xcoil(t) )를 이용하여 매번 새로이 산출되어 적용되는 것을 특징으로 하는 하전입자 빔 현미경의 주사신호 제어방법
8 8
하전입자 빔을 방출하는 하전입자 소스;상기 하전입자 소스로부터 방출되는 하전입자 빔의 조사 방향을 제어하여 바꾸어 주는 하나이상의 편향기; 하전입자 빔의 조사 방향을 제어하는 스캔 프로파일(r(t))을 생성하여 상기 편향기에 제공하는 주사파형 발생기; 상기 편향기에서 실제로 출력되는 전류파형( )을 측정하는 전류파형 측정기; 및상기 주사파형 발생기에서의 스캔 프로파일(r(t))과 상기 전류파형측정기로부터의 신호를 비교하여, 스캔 프로파일(r(t))과 편향기에서 실제로 출력되는 전류파형( )의 차이(e(t) = r(t) - xcoil(t) )를 이용하여 보정된 스캔 프로파일 신호(u(t))를 생성하고 이를 편향기에 입력하거나, 또는 스캔 프로파일(r(t))과 편향기에서 실제로 출력되는 전류파형( )을 이용하여 의 식으로부터 보정된 스캔 프로파일 신호(u(t))를 생성하고 이를 편향기에 입력하는 주사 파형 제어부;를 포함하는 하전입자 빔 현미경
9 9
제 8항에 있어서,상기 편향기는 2개로서 상단부와 하단부에 각각 위치하는 것을 특징으로 하는 하전입자 빔 현미경
10 10
제 9항에 있어서,상기의 주사파형 제어부는 상단 편향 코일과 하단 편향 코일을 각각 또는 동시에 제어함으로써, 보정된 스캔프로파일 신호를 출력하는 것을 특징으로 하는 하전입자 빔 현미경
11 11
제 8항에 있어서,상기 보정된 스캔 프로파일 신호(u(t))는 주사 파형 제어부내에 구비되는 메모리에 저장되어 이를 편향기의 입력신호로서 반복적으로 사용되는 것을 특징으로 하는 하전입자 빔 현미경
12 12
제8항에 있어서,상기 하전입자 빔 현미경은 하전입자 소스쪽에 구비되는 중간 집속렌즈와 시료쪽에 구비되는 최종 집속렌즈인 대물렌즈를 포함하는 집속렌즈군; 및 대물렌즈 하단부에 위치하며 하전 입자빔이 조사되는 시료를 지지하고 이동할 수 있는 시료 스테이지;를 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 하전입자 빔 현미경
13 13
전자빔을 방출하는 전자빔 소스;상기 전자빔 소스쪽에 구비되는 중간 집속렌즈와 시료쪽에 구비되는 최종 집속렌즈인 대물렌즈를 포함하는 집속렌즈군; 상기 중간 집속렌즈와 대물렌즈 사이에 구비되며, 하전입자 소스로부터 방출되는 하전입자 빔의 조사 방향을 제어하여 바꾸어 주는 하나이상의 편향기; 하전입자 빔의 조사 방향을 제어하는 스캔 프로파일(r(t))을 생성하여 상기 편향기에 제공하는 주사파형 발생기; 상기 편향기에서 실제로 출력되는 전류파형( )을 측정하는 전류파형 측정기; 상기 주사파형 발생기에서의 스캔 프로파일(r(t))과 상기 전류파형측정기로부터의 신호를 비교하여, 스캔 프로파일(r(t))과 편향기에서 실제로 출력되는 전류파형( )의 차이(e(t) = r(t) - xcoil(t) )를 이용하여 보정된 스캔 프로파일 신호(u(t))를 생성하고이를 편향기에 입력하거나, 또는 스캔 프로파일(r(t))과 편향기에서 실제로 출력되는 전류파형( )을 이용하여 의 식으로부터 보정된 스캔 프로파일 신호(u(t))를 생성하고 이를 편향기에 입력하는 주사 파형 제어부;대물렌즈 하단부에 위치하며 상기 전자빔이 조사되는 시료를 지지하고 이동할 수 있는 시료 스테이지; 및시료로부터 방출되는 2차전자를 검출하는 2차전자 검출기;를 포함하는 주사전자현미경
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 한국표준과학연구원 나노-소재기술개발사업 1nm이하 분해능 헬륨이온 현미경 원천기술개발
2 미래창조과학부 한국표준과학연구원 한국표준과학연구원 주요사업 하전입자 현미경 요소기술 개발