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이온빔 소스(Ion beam source)

  • 기술번호 : KST2015230981
  • 담당센터 : 부산기술혁신센터
  • 전화번호 : 051-606-6561
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 이온빔 소스는 양극 및 방전 공간을 형성하기 위해 상기 양극의 상방에 제1 간격만큼 이격되도록 제1 음극 및 제2 음극이 배치되고, 상기 제1 음극 및 제2 음극은 상기 방전 공간에서 형성된 이온빔을 인출하기 위해 서로 제2 간격만큼 이격되는 음극을 포함한다. 상기 제1 음극 및 제2 음극은 각각, 상기 방전 공간을 확장하기 위해 상기 양극과 마주보는 저면과 상기 제1 음극과 상기 제2 음극이 서로 마주보는 측면이 만나는 모서리에 제1 경사부를 갖는다. 따라서, 상기 이온빔 소스의 방전 공간을 크게 하여 인출되는 이온빔의 양을 증가시킬 수 있다.
Int. CL H01J 27/02 (2006.01) H01J 37/08 (2006.01)
CPC H01J 27/143(2013.01) H01J 27/143(2013.01) H01J 27/143(2013.01) H01J 27/143(2013.01)
출원번호/일자 1020140073485 (2014.06.17)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2015-0144557 (2015.12.28) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호 1020160096389;
심사청구여부/일자 Y (2014.06.17)
심사청구항수 3

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김종국 대한민국 경상남도 창원시 성산구
2 김기택 대한민국 대전광역시 대덕구
3 이승훈 대한민국 경상남도 창원시 성산구
4 강용진 대한민국 경상남도 사천시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이동건 대한민국 서울특별시 강남구 논현로***길 *, *층 ***호 (논현동)(차암특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2014.06.17 수리 (Accepted) 1-1-2014-0563719-99
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2014.12.05 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2015.01.09 수리 (Accepted) 9-1-2015-0002084-35
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2016.01.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0043435-91
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2016.03.08 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0221888-33
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.03.08 수리 (Accepted) 1-1-2016-0221896-09
7 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2016.04.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0282793-15
8 [법정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Extension of Legal Period] Request for Extension of Period (Reduction, Expiry Reconsideration)
2016.05.10 수리 (Accepted) 7-1-2016-0028791-71
9 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2016.06.17 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2016-0585235-87
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.06.17 수리 (Accepted) 1-1-2016-0585263-55
11 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2016.06.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0469108-45
12 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application
2016.07.28 수리 (Accepted) 1-1-2016-0737024-26
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
양극; 및방전 공간을 형성하기 위해 상기 양극의 상방에 제1 간격만큼 이격되도록 제1 음극 및 제2 음극이 배치되고, 상기 제1 음극 및 제2 음극은 상기 방전 공간에서 형성된 이온빔을 인출하기 위해 서로 제2 간격만큼 이격되는 음극을 포함하고,상기 제1 음극 및 제2 음극은 각각, 상기 방전 공간을 확장하기 위해 상기 양극과 마주보는 저면과 상기 제1 음극과 상기 제2 음극이 서로 마주보는 측면이 만나는 모서리에 제1 경사부를 갖는 것을 특징으로 하는 이온빔 소스
2 2
제1항에 있어서, 상기 제1 음극 및 제2 음극은 각각, 상기 제1 음극과 상기 제2 음극이 서로 마주보는 측면에서 상기 제1 경사부와 연속하도록 상기 제1 경사부의 상방에 배치되는 수직부를 갖는 것을 특징으로 하는 이온빔 소스
3 3
제2항에 있어서, 상기 제1 음극 및 제2 음극은 각각, 상기 인출되는 이온빔의 확산을 위해 상기 제1 음극과 상기 제2 음극이 서로 마주보는 측면에서 상기 수직부와 연속하도록 상기 수직부의 상방에 배치되는 제2 경사부를 갖는 것을 특징으로 하는 이온빔 소스
4 4
제2항에 있어서, 상기 제1 경사부의 높이는 0 내지 5 mm이며, 상기 수직부의 높이는 0
5 5
제4항에 있어서, 상기 제1 간격은 1 내지 5 mm 이며, 상기 제2 간격은 1 내지 5mm인 것을 특징으로 하는 이온빔 소스
6 6
제5항에 있어서, 상기 제1 음극의 저면과 상기 제2 음극의 저면은 제3 간격만큼 이격되며, 상기 제3 간격은 1 내지 11mm인 것을 특징으로 하는 이온빔 소스
지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 KR102075157 KR 대한민국 FAMILY

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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 한국기계연구원부설재료연구소 신성장동력장비경쟁력강화사업 1.5 m급 대형 표면처리용 선형 이온빔 인출장치 기술 개발