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표면 처리가 가능한 온도로 가열된 대상 금속부재를 표면처리하는 금속표면처리장치에 있어서,상기 대상 금속부재의 적어도 일부가 안착되는 안착부와, 상기 안착부에 결합됨에 따라, 상기 대상 금속부재 형상으로 형성되어 상기 대상 금속부재가 외부로 노출되지 않도록 상기 대상 금속부재 전체 외면의 둘레를 감싸는 수용공간을 형성하는 커버부를 포함하며, 상기 수용공간의 내면은 상기 대상 금속부재의 외면과 이격되는 반응챔버; 및상기 수용공간 내에 수용된 대상 금속부재 측으로 처리가스를 공급하는 처리가스 공급부;를 포함하는 금속표면처리장치
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제1항에 있어서,상기 안착부에는 상기 대상 금속부재에 접촉되어 상기 대상 금속부재가 상기 안착부의 내면으로부터 소정 거리 이격되도록 하는 스페이서가 구비된 금속표면처리장치
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제1항에 있어서,상기 수용공간의 내면과 상기 대상 금속부재의 외면이 100mm 이하의 간격을 가지도록 형성된 금속표면처리장치
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제1항에 있어서,상기 안착부 및 상기 커버부는 서로 이격되도록 형성되어,상기 처리가스 공급부는 상기 안착부 및 상기 커버부 사이로 상기 처리가스를 공급하는 금속표면처리장치
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제1항에 있어서,상기 반응챔버에는 상기 처리가스가 통과하는 통과홀이 형성된 금속표면처리장치
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제1항에 있어서,상기 반응챔버 내를 가열하는 가열부를 더 포함하는 금속표면처리장치
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제1항에 있어서,상기 대상 금속부재가 반응챔버 내에 수용되기 전에 상기 대상 금속부재를 예열하는 예열부를 더 포함하는 금속표면처리장치
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대상 금속부재의 적어도 일부가 안착되는 안착부에 대상 금속부재를 위치시키는 단계;상기 대상 금속부재 형상으로 형성되어 상기 대상 금속부재가 외부로 노출되지 않도록 상기 대상 금속부재 전체 외면의 둘레를 감싸며, 내면이 상기 대상 금속부재의 외면과 이격되는 수용공간이 형성되도록 상기 안착부에 커버부를 결합하여 반응챔버를 형성하는 단계; 및상기 수용공간 내에 수용된 대상 금속부재 측으로 처리가스를 공급하여 상기 대상 금속부재에 처리가스층을 형성하는 단계;를 포함하는 금속표면처리방법
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제8항에 있어서,상기 반응챔버를 형성하는 단계는,상기 수용공간의 내면과 상기 대상 금속부재의 외면이 100mm 이하의 간격을 가지도록 하는 금속표면처리방법
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제8항에 있어서,상기 처리가스층을 형성하는 단계는,처리가스를 0
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