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플라즈마 반응장치에 있어서,일측에 원료를 유입하기 위한 원료유입로(30)가 연통된 중공의 반응로(10)와;상기 반응로(10)의 내부로 돌출되도록 상기 반응로(10)의 저면에 결합되는 전극(20);을 포함하여 구성되고, 상기 반응로(10)의 상측에는 반응물질의 배출을 위한 배출구(40)가 형성되며, 상기 반응로(10)는 상기 전극(20)을 포함하는 반응구간(15)과 촉매(50)가 설치되는 촉매구간(16)으로 구획되어 상기 반응구간(15)에서의 반응물질이 상기 촉매(50)가 설치되는 촉매구간(16)에서 재차 반응되고, 상기 원료유입로(30)는 유입되는 원료가 반응로(10)공간에 회전유동하도록 반응로(10)의 벽체(11)와 경사지게 스월구조로 형성된 것을 특징으로 하는 연속 반응구간이 형성된 플라즈마 반응장치
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플라즈마 반응장치에 있어서,일측에 원료를 유입하기 위한 원료유입로(30)가 연통된 중공의 반응로(10)와;상기 반응로(10)의 내부로 돌출되도록 상기 반응로(10)의 저면에 결합되는 전극(20);을 포함하여 구성되고, 상기 반응로(10)의 상측에는 반응물질의 배출을 위한 배출구(40)가 형성되며, 상기 반응로(10)는 상기 전극(20)을 포함하는 제 1반응구간(15a)과 상기 제 1반응구간(15a)으로부터의 반응물질이 추가 유입되는 원료에 의해 재차 반응될 수 있도록 보조원료유입로(35)이 연통되는 제 2반응구간(15b)과 상기 제 2반응구간(15b)으로 부터의 반응물질이 촉매에 의해 반응될 수 있도록 촉매(50)가 설치되는 촉매구간(16)으로 구획되고, 상기 원료유입로(30)는 유입되는 원료가 반응로(10)공간에 회전유동하도록 반응로(10)의 벽체(11)와 경사지게 스월구조로 형성된 것을 특징으로 하는 연속 반응구간이 형성된 플라즈마 반응장치
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제 2 항에 있어서, 상기 반응로(10)의 촉매구간(16)의 반응물질 유입부(16a)에는 상기 제 2반응구간(15b)에서의 반응물질이 분산되어 상기 촉매(50)로 이동될 수 있도록 다공판(60)이 설치되는 것을 특징으로 하는 연속 반응구간이 형성된 플라즈마 반응장치
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제 2 항 또는 제 4 항에 있어서,상기 보조원료유입로(35)은 나선형 관체인 것을 특징으로 하는 연속 반응구간이 형성된 플라즈마 반응장치
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제 2 항 또는 제 4 항에 있어서,상기 보조원료유입로(35)의 상측면에는 유입되는 원료가 확산되어 분출될 수 있도록 다수개의 유출구(35a)가 형성된 것을 특징으로 하는 연속 반응구간이 형성된 플라즈마 반응장치
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제 2 항 또는 제 4 항에 있어서,상기 보조원료유입로(35)은 상기 반응로(10) 내부의 열을 흡수할 수 있도록 상기 반응로(10)의 벽체(11) 내부를 순환하는 것을 특징으로 하는 연속 반응구간이 형성된 플라즈마 반응장치
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 전극(20)은 상협하광의 원추 형태로 저면에는 원기둥이 연장 형성되고, 원추의 꼭지점과, 원추와 원기둥의 연결부분은 라운드 형성되되, 상기 원추와 원기둥의 연결지점은 길이 상향방향으로 점차 넓게 형성된 것을 특징으로 하는 연속 반응구간이 형성된 플라즈마 반응장치
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 촉매구간(16)에는 다수개의 촉매(60)가 상,하 위치차를 형성하며 설치된 것을 특징으로 하는 연속 반응구간이 형성된 플라즈마 반응장치
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제 9 항에 있어서,상기 촉매구간(16)에 다수개로 설치되는 촉매(50) 사이에는 유입되는 원료와 촉매반응을 일으키도록 보조원료유입로(35)가 촉매구간(16)과 연통되는 것을 특징으로 하는 연속 반응구간이 형성된 플라즈마 반응장치
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제 9 항에 있어서,상기 촉매구간(16)에 다수개로 설치되는 촉매(50) 사이에는 반응로(10) 내의 열을 흡수하도록 열교환수단(60)이 설치되는 것을 특징으로 하는 연속 반응구간이 형성된 플라즈마 반응장치
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