| 1 |
1
플라즈마 반응장치에 있어서,하부 일측에 플라즈마 반응을 위한 원료를 공급받기 위해 원료유입관(11)이 연통되고, 상단에는 플라즈마 반응물을 배출시키기 위한 배출구(13)가 형성되며, 내부에 공급된 원료의 플라즈마 반응시 플라즈마 반응대를 확장시켜 일시 정체시키기 위한 광역챔버(15)가 형성되도록 전극(30) 보다 상측에 위치한 구간은 그 폭이 확장되는 중공의 반응로(10)와;공급된 원료의 플라즈마 반응을 위한 방전전압을 발생시킬 수 있도록 상기 반응로(10)의 내부로 돌출되며, 상기 반응로(10)의 벽면과는 일정간격 이격되도록 상기 반응로(10)의 저면으로 내입되어 결합되는 전극(30)과;상기 광역챔버(15) 상에 액상 원료를 공급하기 위해 원료가 분출되도록 일측단에 형성된 노즐(51)이 상기 반응로(10)의 내벽에 형성된 다수의 유입로(17)들에 각각 대응되어 연통되는 다수의 액상원료공급기구(50);를 포함하여 구성되고, 상기 유입로(17)들은 상기 반응로(10)의 내벽과 수직하며, 각각의 유입로(17)들은 분출되는 원료가 상기 반응로(10)의 내부에서 혼합될 수 있도록 상호 대향되게 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치
|
| 2 |
2
플라즈마 반응장치에 있어서,하부 일측에 플라즈마 반응을 위한 원료를 공급받기 위해 원료유입관(11)이 연통되고, 상단에는 플라즈마 반응물을 배출시키기 위한 배출구(13)가 형성되며, 내부에 공급된 원료의 플라즈마 반응시 플라즈마 반응대를 확장시켜 일시 정체시키기 위한 광역챔버(15)가 형성되도록 전극(30) 보다 상측에 위치한 구간은 그 폭이 확장되는 중공의 반응로(110)와;공급된 원료의 플라즈마 반응을 위한 방전전압을 발생시킬 수 있도록 상기 반응로(110)의 내부로 돌출되며, 상기 반응로(110)의 벽면과는 일정간격 이격되도록 상기 반응로(110)의 저면으로 내입되어 결합되는 전극(30)과;상기 광역챔버(15) 상에 액상 원료를 공급하기 위해 원료가 분출되도록 일측단에 형성된 노즐(51)이 상기 반응로(110)의 내벽에 형성된 다수의 유입로(117)들에 각각 대응되어 연통되는 다수의 액상원료공급기구(50);를 포함하여 구성되고, 상기 유입로(117)들은 상기 반응로(110)의 내부로 분출되는 원료가 회전류를 형성하며 진행될 수 있도록 반응로(110)의 내벽과 경사지게 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치
|
| 3 |
3
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 전극(30)은 상부가 원추의 형상을 취하며 그 하부가 원기둥 형으로 연장된 형상을 가져 그 중앙 부위의 폭이 확장된 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치
|
| 4 |
4
제 3 항에 있어서,상기 전극(30)은 내부에 일정공간의 챔버(35)가 형성되고, 그 저면에는 상기 챔버(35)로 액상의 원료를 공급하기 위한 액상원료공급관(31)이 연통되며, 상기 전극(30)의 내벽에는 상기 챔버(35) 상의 원료를 상기 반응로(10,110) 내부로 유입하기 위한 원료유입로(33)가 관통 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치
|
| 5 |
5
제 4 항에 있어서,상기 액상원료공급관(31)에는 상기 챔버(35) 상으로 상기 액상의 원료와 함께 기체를 동반 유입시킬 수 있도록 기체공급관(37)이 연통된 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치
|
| 6 |
6
제 4 항에 있어서,상기 원료유입로(33)는 상기 전극(30)의 폭이 확장된 중앙 부위를 기준하여 하측에 형성되며, 상기 반응로(10,110)의 저면을 향하여 하향 경사지게 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치
|
| 7 |
7
제 4 항에 있어서,상기 원료유입로(33)는 상기 반응로(10,110)의 내부로 유입되는 원료가 회전류를 형성하며 진행될 수 있도록 상기 전극(30)의 원주방향으로 상기 전극(30)의 벽면과 경사진 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치
|
